JPH0474157A - ３，４‐ジヒドロキシブチロニトリルの製造法 - Google Patents
３，４‐ジヒドロキシブチロニトリルの製造法Info
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- JPH0474157A JPH0474157A JP18865490A JP18865490A JPH0474157A JP H0474157 A JPH0474157 A JP H0474157A JP 18865490 A JP18865490 A JP 18865490A JP 18865490 A JP18865490 A JP 18865490A JP H0474157 A JPH0474157 A JP H0474157A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、医薬品を合成するための中間体として有用な
化合物である３、４−ジヒドロキシブチロニトリルの製
造法に関する。
化合物である３、４−ジヒドロキシブチロニトリルの製
造法に関する。
３．４−ジヒドロキシブチロニトリルの製造法について
は、下記の方法などが知られている。
は、下記の方法などが知られている。
（１）３−クロル−１，２−プロパンジオールを水中で
ＫＣＮと反応させることにより３，４−ジヒドロキシブ
チロニトリルを製造するか、もしくは引き続いてＮａＯ
ＨおよびＨＣＮで処理してＳ−ブチロラクトン誘導体に
変換する方法（コーント・ランデュ・アブドマデールΦ
デ拳セアンス・ドψラカデミーψデ争シャンス（Ｃｏｍ
ｐｔｅｓ ＲｅｎｄｕｓＨｅｂｄｏｍａｄａｉｒｅｓ
ｄｅｓ ５ｅａｎｃｅｓ Ｄｅ ｌ Ａｃａｄｅｍｉｅ
ｄｅｓ ５ｃｉｅｎｃｅ）、２３８巻、１２３１頁（１
９５４年）参照）。
ＫＣＮと反応させることにより３，４−ジヒドロキシブ
チロニトリルを製造するか、もしくは引き続いてＮａＯ
ＨおよびＨＣＮで処理してＳ−ブチロラクトン誘導体に
変換する方法（コーント・ランデュ・アブドマデールΦ
デ拳セアンス・ドψラカデミーψデ争シャンス（Ｃｏｍ
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ｄｅｓ ５ｅａｎｃｅｓ Ｄｅ ｌ Ａｃａｄｅｍｉｅ
ｄｅｓ ５ｃｉｅｎｃｅ）、２３８巻、１２３１頁（１
９５４年）参照）。
（２）３−クロル−１，２−プロパンジオールを水中で
ＮａＣＮと反応させたのち、イオン交換樹脂を用いて精
製する方法（ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサイエティ−（Ｊ、Ａｌｌ１．Ｃｈｅｍ。
ＮａＣＮと反応させたのち、イオン交換樹脂を用いて精
製する方法（ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサイエティ−（Ｊ、Ａｌｌ１．Ｃｈｅｍ。
Ｓｏｃ、） 、１０７巻、７００８頁（１９８５年）参
照）。
照）。
（３１Ｒ−３−クロル−１，２−プロパンジオールをメ
タノール中トリメチルアミンを用いてシアノ化剤と反応
させ、Ｓ−３，４−ジヒドロキシブチロニトリルに変換
する方法（特開平２−４２０５０号公報参照）。
タノール中トリメチルアミンを用いてシアノ化剤と反応
させ、Ｓ−３，４−ジヒドロキシブチロニトリルに変換
する方法（特開平２−４２０５０号公報参照）。
［発明が解決しようとする課題］
前記方法はいずれも、３，４−ジヒドロキシ酪酸アミド
や３．４−ジヒドロキシ酪酸などが副生じやす＜、３．
４−ジヒドロキシブチロニトリルの実用的製法としては
その反応選択性、反応収率および生成物純度に種々解決
すべき課題を有している。
や３．４−ジヒドロキシ酪酸などが副生じやす＜、３．
４−ジヒドロキシブチロニトリルの実用的製法としては
その反応選択性、反応収率および生成物純度に種々解決
すべき課題を有している。
［課題を解決するための手段］
本発明者らはかかる実情に鑑み、経済性にすぐれ、簡便
かつ効率的な化学活性な３，４−ジヒドロキシブチロニ
トリルの工業的製法を確立すべく鋭意検討した結果、３
−クロル−１，２−プロパンジオールをアミド系溶剤ま
たはアミド系溶剤とアルコールの混合溶媒中ＮａＣＮ５
ＫＣＮなどのシアノ化剤と反応させることにより３，４
−ジヒドロキシブチロニトリルを高収率、高純度で製造
する方法を見出し、本発明を完成した。
かつ効率的な化学活性な３，４−ジヒドロキシブチロニ
トリルの工業的製法を確立すべく鋭意検討した結果、３
−クロル−１，２−プロパンジオールをアミド系溶剤ま
たはアミド系溶剤とアルコールの混合溶媒中ＮａＣＮ５
ＫＣＮなどのシアノ化剤と反応させることにより３，４
−ジヒドロキシブチロニトリルを高収率、高純度で製造
する方法を見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、一般式（Ｉ）：
ｉ１
で表わされる３−クロル−１，２−プロパンジオールを
アミド系溶剤中、またはアミド系溶剤とアルコールの混
合溶媒中シアノ化剤と反応させることを特徴とする、一
般式（Ｉ）： Ｈ で表わされる３、４−ジヒドロキシブチロニトリルの製
造法を内容とするものである。
アミド系溶剤中、またはアミド系溶剤とアルコールの混
合溶媒中シアノ化剤と反応させることを特徴とする、一
般式（Ｉ）： Ｈ で表わされる３、４−ジヒドロキシブチロニトリルの製
造法を内容とするものである。
３−クロル−１，２−プロパンジオール！１）から、３
゜４−ジヒドロキシブチロニトリル（Ｍ）をうる反応に
おいては、溶媒として、ジメチルホルムアミド、ジエチ
ルホルムアミドおよびジメチルアセトアミドなどのアミ
ド系溶剤を単独もしくはメタノール、エタノールなどの
アルコールとの混合物として用いることかできるが、３
．４−ジヒドロキシ酪酸アミドなど副生を最小限に抑え
、３，４−ジヒドロキシブチロニトリル生成の選択性を
高めるためには、ジメチルホルムアミド中もしくはジメ
チルホルムアミドとアルコール、好ましくはメタノール
の混合溶媒中で反応を行なうことか好ましい。またシア
ノ化剤としては、Ｎ ａ ＣＮ ５ＫＣＮ 、 Ｍｇ（
ＣＮ）ｚ 、ＡｇＣＮ５ＣｕＣＮなどがあげられるが、
ＮａＣＮ５ＫＣＮなどのアルカリ金属シアン化物などが
収率、経済性などの点から好適である。
゜４−ジヒドロキシブチロニトリル（Ｍ）をうる反応に
おいては、溶媒として、ジメチルホルムアミド、ジエチ
ルホルムアミドおよびジメチルアセトアミドなどのアミ
ド系溶剤を単独もしくはメタノール、エタノールなどの
アルコールとの混合物として用いることかできるが、３
．４−ジヒドロキシ酪酸アミドなど副生を最小限に抑え
、３，４−ジヒドロキシブチロニトリル生成の選択性を
高めるためには、ジメチルホルムアミド中もしくはジメ
チルホルムアミドとアルコール、好ましくはメタノール
の混合溶媒中で反応を行なうことか好ましい。またシア
ノ化剤としては、Ｎ ａ ＣＮ ５ＫＣＮ 、 Ｍｇ（
ＣＮ）ｚ 、ＡｇＣＮ５ＣｕＣＮなどがあげられるが、
ＮａＣＮ５ＫＣＮなどのアルカリ金属シアン化物などが
収率、経済性などの点から好適である。
ここで用いるシアノ化剤の量は化合物（Ｉｌに対して１
〜２倍当量であり、好ましくは１〜１．２倍当量用いら
れる。本反応は２０〜１００℃の範囲の温度が適当であ
るが、温度が高いほど、原料の３−クロル−１，２−プ
ロパンジオールの消失は速いものの、反応の選択性が下
がる傾向があり、３゜４−ジヒドロキシブチロニトリル
を選択的にうるためには４０〜６０℃では原料かほぼ消
失するまで、２〜２０時間撹拌することか好ましい。単
離・精製は鉱酸を加えて反応液を中和したのち、濃縮し
、アセトンを加えて不溶の無機塩を濾別し、溶媒を溜去
することによって、主に３，４−ジヒドロキシブチロニ
トリルを含む油状物質かえられる。さらに精製するには
通常のカラムクロマトグラフィーなどによって目的を達
成することができる。しかし、反応および単離操作は必
ずしもこれらの方法に限られず、種々の方法を用いるこ
とができる。
〜２倍当量であり、好ましくは１〜１．２倍当量用いら
れる。本反応は２０〜１００℃の範囲の温度が適当であ
るが、温度が高いほど、原料の３−クロル−１，２−プ
ロパンジオールの消失は速いものの、反応の選択性が下
がる傾向があり、３゜４−ジヒドロキシブチロニトリル
を選択的にうるためには４０〜６０℃では原料かほぼ消
失するまで、２〜２０時間撹拌することか好ましい。単
離・精製は鉱酸を加えて反応液を中和したのち、濃縮し
、アセトンを加えて不溶の無機塩を濾別し、溶媒を溜去
することによって、主に３，４−ジヒドロキシブチロニ
トリルを含む油状物質かえられる。さらに精製するには
通常のカラムクロマトグラフィーなどによって目的を達
成することができる。しかし、反応および単離操作は必
ずしもこれらの方法に限られず、種々の方法を用いるこ
とができる。
また、（Ｒ）および（Ｓ）−３−クロル−１，２−プロ
パンジオールを用いることにより、それぞれを対応する
光学活性な（Ｓ）および（Ｒ）−３，４−ジヒドロキシ
ブチロニトリルを合成することも可能である。
パンジオールを用いることにより、それぞれを対応する
光学活性な（Ｓ）および（Ｒ）−３，４−ジヒドロキシ
ブチロニトリルを合成することも可能である。
［実施例］
以下、実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明するが
、もとより本発明はこれらに限定されるものではない。
、もとより本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
３．４−ジヒドロキシブチロニトリルの合成９５９６Ｎ
ａＣＮ ５Ｂ、ｌｉ ｇ （１，１ｅｑ）とジメチルホ
ルムアミド ５００ ｍｌおよびＣＨ３０Ｈ５０ｍｌか
らなる溶液に３−クロル−１，２−プロパンジオール１
１０ｇ （ＬＭ）を加え、浴内温度６０℃で５時間撹拌
した。反応液をそのままＴＬＣ用にスポット（シリカゲ
ル）し、ブタノール：酢酸：水、酢酸エチル−１・１：
１：３０を展開液として展開したのち、リンモリブデン
酸を用いて検出し、原料（３−クロル−１，２−プロパ
ンジオール）がほぼ消失したことを確認した。反応容器
を１０℃までに冷却し、塩酸を加えｐＨを３としたのち
、溶媒を減圧溜去した。えられた濃縮物にアセトン ２
００ ｍｌを加え、不溶の無機塩を吸引濾過し、濾液を
減圧溜去することによって粗生成物として３，４−ジヒ
ドロキシブチロニトリルを １０２．６ｇえた。ＧＬＣ
（カラム：ガラスカラム（２ｍ、ＩＤ ３ ａｍ） 、
シリコーン オヴ（−２１０（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ ０Ｖ
−２１０）１０％ 、−Ｌニーポート エイチビ−（Ｕ
ｎｉｐｏｒｔ ＨＰ）８０〜１００メツシュ、キャリア
ー・ガス：ヘリウム（２５ｍｌ ／ｗｉｎ） インジ
ェクション温度：１７０℃、カラム温度：１５０℃、検
出器： ＦＩＤ）で分析した結果、純度は９５．６％、
生成率は９７％であった。粗生成物は、さらにシリカゲ
ルカラム（Ｃ２００、ヘキサン：アセトン−１＝１）に
よって精製した。
ａＣＮ ５Ｂ、ｌｉ ｇ （１，１ｅｑ）とジメチルホ
ルムアミド ５００ ｍｌおよびＣＨ３０Ｈ５０ｍｌか
らなる溶液に３−クロル−１，２−プロパンジオール１
１０ｇ （ＬＭ）を加え、浴内温度６０℃で５時間撹拌
した。反応液をそのままＴＬＣ用にスポット（シリカゲ
ル）し、ブタノール：酢酸：水、酢酸エチル−１・１：
１：３０を展開液として展開したのち、リンモリブデン
酸を用いて検出し、原料（３−クロル−１，２−プロパ
ンジオール）がほぼ消失したことを確認した。反応容器
を１０℃までに冷却し、塩酸を加えｐＨを３としたのち
、溶媒を減圧溜去した。えられた濃縮物にアセトン ２
００ ｍｌを加え、不溶の無機塩を吸引濾過し、濾液を
減圧溜去することによって粗生成物として３，４−ジヒ
ドロキシブチロニトリルを １０２．６ｇえた。ＧＬＣ
（カラム：ガラスカラム（２ｍ、ＩＤ ３ ａｍ） 、
シリコーン オヴ（−２１０（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ ０Ｖ
−２１０）１０％ 、−Ｌニーポート エイチビ−（Ｕ
ｎｉｐｏｒｔ ＨＰ）８０〜１００メツシュ、キャリア
ー・ガス：ヘリウム（２５ｍｌ ／ｗｉｎ） インジ
ェクション温度：１７０℃、カラム温度：１５０℃、検
出器： ＦＩＤ）で分析した結果、純度は９５．６％、
生成率は９７％であった。粗生成物は、さらにシリカゲ
ルカラム（Ｃ２００、ヘキサン：アセトン−１＝１）に
よって精製した。
ｌＨ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚＳＣＤＣＩ３＋ＣＤ３０Ｄ）
： δ ２，５７〜２．７３（ｗ、２Ｈ） ３．
６２（ｄ、２８．Ｊ−５Ｈｚ）３．８ 〜４．１３
（ｍ、ＩＨ）、４．５ （ｂｓ 、 ２Ｈ）ＩＲに−ト
） （叩−１）：３４００．２９２５．２２５０．１４
１５．１１００．１０４２ 実施例２ ３．４−ジヒドロキシブチロニトリルの合成９５％Ｎａ
ＣＮ ５．１５ ｇ （１，０ｅｑ）とジメチルホルム
アミド３６．７ｍｌからなる溶液に３−クロル−１，２
−プロパンジオール１１ ｇ （１００ｉＭ）を加え、
浴内温度６０℃で５時間撹拌した。反応液をそのままＴ
ＬＣ用にスポット（シリカゲル）し、ブタツル：酢酸：
水：酢酸エチル−１： １ ： １ ： ３０を展開液
として展開したのち、リンモリブデン酸を用いて検出し
、原料（３−クロル−１，２−プロパンジオール）がほ
ぼ消失したことを確認した。
： δ ２，５７〜２．７３（ｗ、２Ｈ） ３．
６２（ｄ、２８．Ｊ−５Ｈｚ）３．８ 〜４．１３
（ｍ、ＩＨ）、４．５ （ｂｓ 、 ２Ｈ）ＩＲに−ト
） （叩−１）：３４００．２９２５．２２５０．１４
１５．１１００．１０４２ 実施例２ ３．４−ジヒドロキシブチロニトリルの合成９５％Ｎａ
ＣＮ ５．１５ ｇ （１，０ｅｑ）とジメチルホルム
アミド３６．７ｍｌからなる溶液に３−クロル−１，２
−プロパンジオール１１ ｇ （１００ｉＭ）を加え、
浴内温度６０℃で５時間撹拌した。反応液をそのままＴ
ＬＣ用にスポット（シリカゲル）し、ブタツル：酢酸：
水：酢酸エチル−１： １ ： １ ： ３０を展開液
として展開したのち、リンモリブデン酸を用いて検出し
、原料（３−クロル−１，２−プロパンジオール）がほ
ぼ消失したことを確認した。
反応容器を１０℃まで冷却し、塩酸を加えｐＨを３とし
たのち、溶媒を減圧溜去した。えられた濃縮物にアセト
ン２０ｍ１を加え、不溶の無機塩を吸引濾過し、濾液を
減圧溜去することによってえられた粗生成物を蒸留しく
１４０〜ｂａ＋ｍＨｇ）、８．９５ ｇの３．４−ジヒ
ドロキシブチロニトリルをえた。生成率は８９％であっ
た。ＩＨ−ＮＭＲ。
たのち、溶媒を減圧溜去した。えられた濃縮物にアセト
ン２０ｍ１を加え、不溶の無機塩を吸引濾過し、濾液を
減圧溜去することによってえられた粗生成物を蒸留しく
１４０〜ｂａ＋ｍＨｇ）、８．９５ ｇの３．４−ジヒ
ドロキシブチロニトリルをえた。生成率は８９％であっ
た。ＩＨ−ＮＭＲ。
ＩＲは実施例１と同じであった。
実施例３
Ｓ−３、４−ジヒドロキシブチロニトリルの合成９５％
ＮａＣＮ ５６．８ ｇ （１，１ｅｑ）とジメチルホ
ルムアミド５００ ｍｌおよびＣＨ３０Ｈ５０ｍ１から
なる溶液にＲ−３−クロル−１，２−プロパンジオール
１１０ｇ（ＩＭ）を加え、浴内温度６０℃で５時間撹拌
した。
ＮａＣＮ ５６．８ ｇ （１，１ｅｑ）とジメチルホ
ルムアミド５００ ｍｌおよびＣＨ３０Ｈ５０ｍ１から
なる溶液にＲ−３−クロル−１，２−プロパンジオール
１１０ｇ（ＩＭ）を加え、浴内温度６０℃で５時間撹拌
した。
反応液をそのままＴＬＣ用にスポット（シリカゲル）し
、ブタノール：酢酸：水：酢酸エチル−１： １ ：
１ ： ３０を展開液として展開したのち、リンモリブ
デン酸を用いて検出し、原料（Ｒ−３−クロル−１，２
−プロパンジオール）がほぼ消失したことを確認した。
、ブタノール：酢酸：水：酢酸エチル−１： １ ：
１ ： ３０を展開液として展開したのち、リンモリブ
デン酸を用いて検出し、原料（Ｒ−３−クロル−１，２
−プロパンジオール）がほぼ消失したことを確認した。
反応容器を１０℃まで冷却し、塩酸を加えｐＨを３とし
たのち、溶媒を減圧溜去した。えられた濃縮物にアセト
ン２００ ｍｌを加え、不溶の無機塩を吸引濾過し、濾
液を減圧溜去することによって粗生成物としてＳ−３，
４−ジヒドロキシブチロニトリルをＩ ０４ｇえた。粗
生成物は、さらにシリカゲルカラム（Ｃ２００、ヘキサ
ン：アセトン−１：１）によって精製した。１）１−Ｎ
ＭＲ。
たのち、溶媒を減圧溜去した。えられた濃縮物にアセト
ン２００ ｍｌを加え、不溶の無機塩を吸引濾過し、濾
液を減圧溜去することによって粗生成物としてＳ−３，
４−ジヒドロキシブチロニトリルをＩ ０４ｇえた。粗
生成物は、さらにシリカゲルカラム（Ｃ２００、ヘキサ
ン：アセトン−１：１）によって精製した。１）１−Ｎ
ＭＲ。
ＩＲは実施例１と同じであった。
［α］ Ｄ −−２４，１’ （Ｃ−１，０２、ＣＨ
３０Ｈ）［発明の効果コ 本発明によれば、経済的かつ効果的に３．４−ジヒドロ
キシブチロニトリルを製造することができる。
３０Ｈ）［発明の効果コ 本発明によれば、経済的かつ効果的に３．４−ジヒドロ
キシブチロニトリルを製造することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で表わされる３−クロル−１，２−プロパンジオールを
アミド系溶剤中、またはアミド系溶剤とアルコールの混
合溶媒中シアノ化剤と反応させることを特徴とする、一
般式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） で表わされる３，４−ジヒドロキシブチロニトリルの製
造法。 ２ シアノ化剤としてアルカリ金属シアン化物を用いる
請求項１記載の製造法。 ３ アルカリ金属シアン化物がＮａＣＮ、ＫＣＮまたは
これらの混合物である請求項２記載の製造法。 ４ アミド系溶剤がジメチルホルムアミド、ジエチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミドまたはこれらの混合
物である請求項１、２または３記載の製造法。 ５ アルコールがメタノール、エタノールまたはこれら
の混合物である請求項１、２または３記載の製造法。 ６ 反応をジメチルホルムアミドとメタノールの混合溶
媒中で行なう請求項１、２または３の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2188654A JP2535436B2 (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | ３，４―ジヒドロキシブチロニトリルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2188654A JP2535436B2 (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | ３，４―ジヒドロキシブチロニトリルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0474157A true JPH0474157A (ja) | 1992-03-09 |
| JP2535436B2 JP2535436B2 (ja) | 1996-09-18 |
Family
ID=16227506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2188654A Expired - Fee Related JP2535436B2 (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | ３，４―ジヒドロキシブチロニトリルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2535436B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007297301A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Daiso Co Ltd | ３，４−ジヒドロキシ−３−メチルブチロニトリルの製造法 |
| JP2013521225A (ja) * | 2010-04-05 | 2013-06-10 | 重▲慶▼博▲騰製薬▼科技股▲フン▼有限公司 | ロスバスタチンカルシウム中間生成物及びその調製方法 |
-
1990
- 1990-07-16 JP JP2188654A patent/JP2535436B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007297301A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Daiso Co Ltd | ３，４−ジヒドロキシ−３−メチルブチロニトリルの製造法 |
| JP2013521225A (ja) * | 2010-04-05 | 2013-06-10 | 重▲慶▼博▲騰製薬▼科技股▲フン▼有限公司 | ロスバスタチンカルシウム中間生成物及びその調製方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2535436B2 (ja) | 1996-09-18 |
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