JPS6245238B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6245238B2 JPS6245238B2 JP20459684A JP20459684A JPS6245238B2 JP S6245238 B2 JPS6245238 B2 JP S6245238B2 JP 20459684 A JP20459684 A JP 20459684A JP 20459684 A JP20459684 A JP 20459684A JP S6245238 B2 JPS6245238 B2 JP S6245238B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- group
- general formula
- mixture
- butoxycarbonyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 31
- -1 t-butoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N tetrahydropyrrole Natural products C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- ILCLANVYOPHXJF-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphane;sodium Chemical compound [Na].C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 ILCLANVYOPHXJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 6
- BFMKBYZEJOQYIM-UCGGBYDDSA-N tert-butyl (2s,4s)-4-diphenylphosphanyl-2-(diphenylphosphanylmethyl)pyrrolidine-1-carboxylate Chemical compound C([C@@H]1C[C@@H](CN1C(=O)OC(C)(C)C)P(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BFMKBYZEJOQYIM-UCGGBYDDSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMMYEEVYMWASQN-DMTCNVIQSA-N Hydroxyproline Chemical compound O[C@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-DMTCNVIQSA-N 0.000 description 2
- VJRYOXFGJXDWKB-UHFFFAOYSA-N [Rh].C=CCCC=C Chemical compound [Rh].C=CCCC=C VJRYOXFGJXDWKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 2
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 4-toluenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIHGPLIXGGMJB-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-triene Chemical compound C1=CC=C2OC2=C1 OMIHGPLIXGGMJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBQJSKKFNMDLON-JTQLQIEISA-N N-acetyl-L-phenylalanine Chemical compound CC(=O)N[C@H](C(O)=O)CC1=CC=CC=C1 CBQJSKKFNMDLON-JTQLQIEISA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001294 alanine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012069 chiral reagent Substances 0.000 description 1
- XGRJZXREYAXTGV-UHFFFAOYSA-N chlorodiphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(Cl)C1=CC=CC=C1 XGRJZXREYAXTGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical class C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- JMHQESARJMGVCZ-GDVGLLTNSA-N ethyl (2s)-4-hydroxypyrrolidine-2-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)[C@@H]1CC(O)CN1 JMHQESARJMGVCZ-GDVGLLTNSA-N 0.000 description 1
- OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;hexane Chemical compound CCCCCC.CCOC(C)=O OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000012746 preparative thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2-thiol Chemical compound SC1=NC=CC=N1 HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Description
本発明は新規不斉還元試薬に関し、更に詳しく
は、一般式 （但し、R1は水素原子又はｔ・ブトキシカルボニ
ル基を表わす。） で示されるピロリジン類化合物に関する。 従来、合成化学の分野においては光学活性化合
物を直接合成することができる不斉還元に関する
機多の研究がなされている。それらのうち、リガ
ンド（配位子）としてリン化合物を利用した不斉
還元方法としては例えば、ケミカル・コミユニケ
ーシヨン；1445頁（1968）：ジヤーナル・オブ・
ゼ・アメリカン・ケミカル・ソサエテイ；94巻、
6429頁（1972）：テトラヘドロン・レターズ；
1133頁（1976）等が知られている。しかし、これ
らの方法に使用されているリン化合物は比較的入
手が困難である等により、より簡便な方法が望ま
れている。 本発明者は、不斉還元に利用でき、かつ入手容
易なリン化合物を得べく研究を重ねた結果、容易
に入手できるＬ−４−ヒドロキシプロリンを出発
原料として数工程で簡単に合成できる（2S・
4S）−１−ｔ・ブトキシカルボニル−４−ジフエ
ニルフオスフイノ−２−ジフエニルフオスフイノ
メチルピロリジン〔−ａ〕（以下、BPPMと称
す）及び（2S・4S）−４−ジフエニルフオスフイ
ノ−２−ジフエニルフオスフイノメチルピロリジ
ン〔−ｂ〕（以下、PPMと称す）が不斉試薬と
して不斉還元に好適に利用できることを見出し、
更に本発明の化合物を使用することにより光学活
性アラニン類化合物を収率よく製し得ることを見
出して本発明を完成した。 本発明の不斉試薬であるBPPM〔−ａ〕及び
PPM〔−ｂ〕は下記反応式で示される方法に
より製することができる。 （但し、R2はトジル基を表わす） 即ち、Ｌ−４−ヒドロキシプロリン〔〕を常
法に従つてエチルエステル〔〕となし、次いで
これをｔ・ブトキシカルボニル化して化合物
〔〕を得る。化合物〔〕のエチルエステル部
をテトラヒドロフラン中１モル当量のリチウムア
ルミニウムヒドリドで還元して化合物〔〕とな
し、これにトジルクロリドを反応させてジトジレ
ート〔〕を得る。化合物〔〕にソジウムジフ
エニルフオスフインを反応させることにより
BPPM〔−ａ〕が得られる〔化合物〔〕より
化合物〔−ａ〕までの通算収率50〜60％〕。ま
た、PPM〔−ｂ〕はこのBPPMをさらに三フツ
化酢酸等の強酸性物質と冷時接触処理することに
より高収率で製することができる。これら化合物
の物性を表１に例示する。
は、一般式 （但し、R1は水素原子又はｔ・ブトキシカルボニ
ル基を表わす。） で示されるピロリジン類化合物に関する。 従来、合成化学の分野においては光学活性化合
物を直接合成することができる不斉還元に関する
機多の研究がなされている。それらのうち、リガ
ンド（配位子）としてリン化合物を利用した不斉
還元方法としては例えば、ケミカル・コミユニケ
ーシヨン；1445頁（1968）：ジヤーナル・オブ・
ゼ・アメリカン・ケミカル・ソサエテイ；94巻、
6429頁（1972）：テトラヘドロン・レターズ；
1133頁（1976）等が知られている。しかし、これ
らの方法に使用されているリン化合物は比較的入
手が困難である等により、より簡便な方法が望ま
れている。 本発明者は、不斉還元に利用でき、かつ入手容
易なリン化合物を得べく研究を重ねた結果、容易
に入手できるＬ−４−ヒドロキシプロリンを出発
原料として数工程で簡単に合成できる（2S・
4S）−１−ｔ・ブトキシカルボニル−４−ジフエ
ニルフオスフイノ−２−ジフエニルフオスフイノ
メチルピロリジン〔−ａ〕（以下、BPPMと称
す）及び（2S・4S）−４−ジフエニルフオスフイ
ノ−２−ジフエニルフオスフイノメチルピロリジ
ン〔−ｂ〕（以下、PPMと称す）が不斉試薬と
して不斉還元に好適に利用できることを見出し、
更に本発明の化合物を使用することにより光学活
性アラニン類化合物を収率よく製し得ることを見
出して本発明を完成した。 本発明の不斉試薬であるBPPM〔−ａ〕及び
PPM〔−ｂ〕は下記反応式で示される方法に
より製することができる。 （但し、R2はトジル基を表わす） 即ち、Ｌ−４−ヒドロキシプロリン〔〕を常
法に従つてエチルエステル〔〕となし、次いで
これをｔ・ブトキシカルボニル化して化合物
〔〕を得る。化合物〔〕のエチルエステル部
をテトラヒドロフラン中１モル当量のリチウムア
ルミニウムヒドリドで還元して化合物〔〕とな
し、これにトジルクロリドを反応させてジトジレ
ート〔〕を得る。化合物〔〕にソジウムジフ
エニルフオスフインを反応させることにより
BPPM〔−ａ〕が得られる〔化合物〔〕より
化合物〔−ａ〕までの通算収率50〜60％〕。ま
た、PPM〔−ｂ〕はこのBPPMをさらに三フツ
化酢酸等の強酸性物質と冷時接触処理することに
より高収率で製することができる。これら化合物
の物性を表１に例示する。
【表】
次に、本発明化合物を用いるクロトン酸誘導体
の不斉還元方法を説明する。 不斉還元は反応系にリガントとしての不斉試薬
を添加することを除いて通常の接触還元方法に従
つて実施することができる。即ち、適当な溶媒中
で触媒としてのロジウム金属類化合物及び不斉試
薬としての本発明化合物〔〕の存在下に一般式 （但し、R3は反応に関与しない置換基を有するこ
ともあるフエニル基、R4は水素原子又はエステ
ル残基、R5は脂肪族アシル基を表わす） で示されるクロトン酸誘導体〔〕と水素ガスと
を接触させることにより実施することができる。
この際、反応系に第３級アミン、例えばトリエチ
ルアミンを共存させれば収率を上げることができ
るので好都合である。原料化合物〔〕として
は、記号R3で示される基が例えばフエニル基、
３・４−メチレンジオキシフエニル基、３−メト
キシ−４−アセトキシフエニル基、４−アセトキ
シフエニル基等であり、記号R4で示される基が
例えば水素原子、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等であり、記号R5で示される基が
例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチロイル
基等である化合物があげられる。触媒たるロジウ
ム金属類化合物としては例えば１・５−ヘキサジ
エン−ロジウム錯体〔Rh（CH2＝CH−CH2−
CH2−CH＝CH2）Cl〕2が使用できる。反応は常
温常圧乃至加熱加圧下にスムースに進行し、一般
式 （但し、R3、R4及びR5は前記と同一意味を有す
る）で示される光学活性アラニン類化合物〔〕
を収率よく得ることができる。 実施例 １ (1) （2S・4R）−４−ヒドロキシプロリンエチル
エステル塩酸塩（化合物〔〕）19.7ｇ、Ｓ−
ｔ・ブトキシカルボニル−４・６−ジメチル−
２−メルカプトピリミジン25ｇ及びピリジン
200mlの混合物を０℃で１時間、次いで室温で
20時間撹拌する。混合物に10％塩酸を加えて酸
性とし、酢酸エチルで抽出する。有機層を水、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄、乾
燥後溶媒を減圧留去する。残渣のシリカゲルク
ロマトグラフイ（溶媒：エーテル）で分離精製
することにより、（2S・4R）−Ｎ−ｔ・ブトキ
シカルボニル−４−ヒドロキシプロリンエチル
エステル（化合物〔〕）24.5ｇを油として得
る。 (2) （2S・4R）−Ｎ−ｔ・ブトキシカルボニル−
４−ヒドロキシプロリンエチルエステル（化合
物〔〕）23.9ｇの無水テトラヒドロフラン100
ml溶液をリチウムアルミニウムヒドリド70ｍ
molのテトラヒドロフラン300ml懸濁液に−78
℃で撹拌下徐々に滴下する。混合物を−78℃で
１時間、次いで０℃で２時間撹拌する。混合物
に水15mlを徐々に滴下した後、室温で１時間撹
拌する。不溶物を去し、液を減圧下で濃縮
することにより化合物〔〕を粗生成物（オイ
ル）として得る。得られたオイル（化合物
〔〕）を無水ピリジン300mlに溶解する。該溶
液にＰ−トルエンスルホン酸クロリド60ｇを０
℃で撹拌下徐々に加える。混合物を０℃で１時
間、次いで室温で40時間撹拌する。混合物を10
％塩酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出する。有
機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗
浄、乾燥後溶媒を減圧留去する。結晶性残渣を
エーテル−ｎ・ヘキサン（１：１）混液より再
結晶することにより、（2S・4R）−Ｎ−ｔ・ブ
トキシカルボニル−４−ヒドロキシプロリノー
ルジトシレート（化合物〔〕）19.5ｇをプリ
ズム晶として得る。m.p.105−106℃ (3) ソジウムジフエニルフオスフインのジオキサ
ン溶液（金属ナトリウム500ｍmol、クロロジ
フエニルフオスフイン115ｍmolをジオキサン
250ml中で７時間加熱還流して調整）にテトラ
ヒドロフラン250ml及び(2)で得た化合物〔〕
26.2ｇを０℃で加える。混合物を室温で15時間
撹拌する。反応液を吸引過し、液を濃縮す
る。残渣をシリカゲルクロマトグラフイ（溶
媒：ベンゼン）で分離精製後、エタノール−
ｎ・ヘキサン（１：９）混液から再結晶するこ
とによりBPPM21.0ｇを針状晶として得る。m.
p104−105℃ 実施例 ２ （2S・4S）−１−ｔ・ブトキシカルボニル−４
−ジフエニルフオスフイノ−２−ジフエニルフオ
スフイノメチルピロリジン（化合物〔−ａ〕）
１ｇを三フツ化酢酸５mlに０℃で加え、０℃で１
時間かくはんする。１時間後、三フツ化酢酸を減
圧下に留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフ
イー（溶媒：ベンゼン・エーテル）で分離精製し
てPPMを油として0.54ｇ得る。 〔α〕２０ Ｄ−５゜（Ｃ＝0.5、ベンゼン） 本品はｎ−ヘキサンとエタノール（９：１）の
混液で結晶化することにより、mp.103−104℃、
〔α〕２０ Ｄ−７゜（Ｃ＝1.84、ベンゼン）を示す。 参考例 １〜13 一般操作法 原料化合物〔〕２ミリモル、１・５−ヘキサ
ジエン−ロジウム錯体0.01ミリモル、不斉試薬
0.022ミリモル及び溶媒15mlの混合物を水素気流
中（初圧：50気圧）でかくはんしんとうする。
（トリエチルアミンを使用する場合は0.06ミリモ
ルを添加する。）反応終了後、反応混合物より溶
媒を留去し、残渣を下記いずれかの処理に付す。 (1) 遊離カルボン酸の場合： 残渣を0.5Nカ性ソーダ水溶液にとかし、不
溶物をロ去し、ロ液を希塩酸で酸性となしエー
テルで抽出する。抽出層を水洗、乾燥後溶媒を
留去して化合物〔〕を得る。 (2) エステルの場合： 残渣をプレパラテイブ薄層クロマトグラフイ
ー（シリカゲル；溶媒、酢酸エチル−ｎ・ヘキ
サン）で分離精製して化合物〔〕を得る。 いずれの場合にも、還元成績体〔〕を化学収
率85〜97％で得る。 例 １〜７ ２−アセトアミド−３−フエニルクロトン酸を
出発原料とし、光学活性Ｎ−アセチルフエニルア
ラニンを得た。結果を表２に示す。
の不斉還元方法を説明する。 不斉還元は反応系にリガントとしての不斉試薬
を添加することを除いて通常の接触還元方法に従
つて実施することができる。即ち、適当な溶媒中
で触媒としてのロジウム金属類化合物及び不斉試
薬としての本発明化合物〔〕の存在下に一般式 （但し、R3は反応に関与しない置換基を有するこ
ともあるフエニル基、R4は水素原子又はエステ
ル残基、R5は脂肪族アシル基を表わす） で示されるクロトン酸誘導体〔〕と水素ガスと
を接触させることにより実施することができる。
この際、反応系に第３級アミン、例えばトリエチ
ルアミンを共存させれば収率を上げることができ
るので好都合である。原料化合物〔〕として
は、記号R3で示される基が例えばフエニル基、
３・４−メチレンジオキシフエニル基、３−メト
キシ−４−アセトキシフエニル基、４−アセトキ
シフエニル基等であり、記号R4で示される基が
例えば水素原子、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等であり、記号R5で示される基が
例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチロイル
基等である化合物があげられる。触媒たるロジウ
ム金属類化合物としては例えば１・５−ヘキサジ
エン−ロジウム錯体〔Rh（CH2＝CH−CH2−
CH2−CH＝CH2）Cl〕2が使用できる。反応は常
温常圧乃至加熱加圧下にスムースに進行し、一般
式 （但し、R3、R4及びR5は前記と同一意味を有す
る）で示される光学活性アラニン類化合物〔〕
を収率よく得ることができる。 実施例 １ (1) （2S・4R）−４−ヒドロキシプロリンエチル
エステル塩酸塩（化合物〔〕）19.7ｇ、Ｓ−
ｔ・ブトキシカルボニル−４・６−ジメチル−
２−メルカプトピリミジン25ｇ及びピリジン
200mlの混合物を０℃で１時間、次いで室温で
20時間撹拌する。混合物に10％塩酸を加えて酸
性とし、酢酸エチルで抽出する。有機層を水、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄、乾
燥後溶媒を減圧留去する。残渣のシリカゲルク
ロマトグラフイ（溶媒：エーテル）で分離精製
することにより、（2S・4R）−Ｎ−ｔ・ブトキ
シカルボニル−４−ヒドロキシプロリンエチル
エステル（化合物〔〕）24.5ｇを油として得
る。 (2) （2S・4R）−Ｎ−ｔ・ブトキシカルボニル−
４−ヒドロキシプロリンエチルエステル（化合
物〔〕）23.9ｇの無水テトラヒドロフラン100
ml溶液をリチウムアルミニウムヒドリド70ｍ
molのテトラヒドロフラン300ml懸濁液に−78
℃で撹拌下徐々に滴下する。混合物を−78℃で
１時間、次いで０℃で２時間撹拌する。混合物
に水15mlを徐々に滴下した後、室温で１時間撹
拌する。不溶物を去し、液を減圧下で濃縮
することにより化合物〔〕を粗生成物（オイ
ル）として得る。得られたオイル（化合物
〔〕）を無水ピリジン300mlに溶解する。該溶
液にＰ−トルエンスルホン酸クロリド60ｇを０
℃で撹拌下徐々に加える。混合物を０℃で１時
間、次いで室温で40時間撹拌する。混合物を10
％塩酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出する。有
機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗
浄、乾燥後溶媒を減圧留去する。結晶性残渣を
エーテル−ｎ・ヘキサン（１：１）混液より再
結晶することにより、（2S・4R）−Ｎ−ｔ・ブ
トキシカルボニル−４−ヒドロキシプロリノー
ルジトシレート（化合物〔〕）19.5ｇをプリ
ズム晶として得る。m.p.105−106℃ (3) ソジウムジフエニルフオスフインのジオキサ
ン溶液（金属ナトリウム500ｍmol、クロロジ
フエニルフオスフイン115ｍmolをジオキサン
250ml中で７時間加熱還流して調整）にテトラ
ヒドロフラン250ml及び(2)で得た化合物〔〕
26.2ｇを０℃で加える。混合物を室温で15時間
撹拌する。反応液を吸引過し、液を濃縮す
る。残渣をシリカゲルクロマトグラフイ（溶
媒：ベンゼン）で分離精製後、エタノール−
ｎ・ヘキサン（１：９）混液から再結晶するこ
とによりBPPM21.0ｇを針状晶として得る。m.
p104−105℃ 実施例 ２ （2S・4S）−１−ｔ・ブトキシカルボニル−４
−ジフエニルフオスフイノ−２−ジフエニルフオ
スフイノメチルピロリジン（化合物〔−ａ〕）
１ｇを三フツ化酢酸５mlに０℃で加え、０℃で１
時間かくはんする。１時間後、三フツ化酢酸を減
圧下に留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフ
イー（溶媒：ベンゼン・エーテル）で分離精製し
てPPMを油として0.54ｇ得る。 〔α〕２０ Ｄ−５゜（Ｃ＝0.5、ベンゼン） 本品はｎ−ヘキサンとエタノール（９：１）の
混液で結晶化することにより、mp.103−104℃、
〔α〕２０ Ｄ−７゜（Ｃ＝1.84、ベンゼン）を示す。 参考例 １〜13 一般操作法 原料化合物〔〕２ミリモル、１・５−ヘキサ
ジエン−ロジウム錯体0.01ミリモル、不斉試薬
0.022ミリモル及び溶媒15mlの混合物を水素気流
中（初圧：50気圧）でかくはんしんとうする。
（トリエチルアミンを使用する場合は0.06ミリモ
ルを添加する。）反応終了後、反応混合物より溶
媒を留去し、残渣を下記いずれかの処理に付す。 (1) 遊離カルボン酸の場合： 残渣を0.5Nカ性ソーダ水溶液にとかし、不
溶物をロ去し、ロ液を希塩酸で酸性となしエー
テルで抽出する。抽出層を水洗、乾燥後溶媒を
留去して化合物〔〕を得る。 (2) エステルの場合： 残渣をプレパラテイブ薄層クロマトグラフイ
ー（シリカゲル；溶媒、酢酸エチル−ｎ・ヘキ
サン）で分離精製して化合物〔〕を得る。 いずれの場合にも、還元成績体〔〕を化学収
率85〜97％で得る。 例 １〜７ ２−アセトアミド−３−フエニルクロトン酸を
出発原料とし、光学活性Ｎ−アセチルフエニルア
ラニンを得た。結果を表２に示す。
【表】
※※：文献記載の光学的純品を基準にして計
算(以下同)。
例 ８〜13 BPPMを不斉試薬とし、エタノール中で化合物
〔〕を不斉還元した。結果を表３に示す。
算(以下同)。
例 ８〜13 BPPMを不斉試薬とし、エタノール中で化合物
〔〕を不斉還元した。結果を表３に示す。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （但し、R1は水素原子又はｔ・ブトキシカルボニ
ル基を表わす。） で示されるピロリジン類化合物。 ２ 一般式〔〕で示される化合物が、（2S・
4S）−４−ジフエニルフオスフイノ−２−ジフエ
ニルフオスフイノメチルピロリジンである特許請
求の範囲第１項記載の化合物。 ３ 一般式〔〕で示される化合物が、（2S・
4S）−１−ｔ・ブトキシカルボニル−４−ジフエ
ニルフオスフイノ−２−ジフエニルフオスフイノ
メチルピロリジンである特許請求の範囲第１項記
載の化合物。 ４ 一般式 （但し、R2はトジル基を表わす。） で示される化合物とソジウムジフエニルフオスフ
インを反応させて式 を製し、要すれば該化合物〔−ａ〕を強酸性物
質と接触処理することを特徴とする一般式 （但し、R1は水素原子又はｔブトキシカルボニル
基を表わす。） で示されるピロリジン類化合物の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20459684A JPS60166692A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 新規不斉還元試薬 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20459684A JPS60166692A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 新規不斉還元試薬 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13993176A Division JPS5365872A (en) | 1976-11-19 | 1976-11-19 | Method of novel asymmetric reduction |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60166692A JPS60166692A (ja) | 1985-08-29 |
| JPS6245238B2 true JPS6245238B2 (ja) | 1987-09-25 |
Family
ID=16493081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20459684A Granted JPS60166692A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 新規不斉還元試薬 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60166692A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01103541U (ja) * | 1987-12-24 | 1989-07-13 | ||
| EP1477478A2 (en) | 2000-02-23 | 2004-11-17 | UCB Farchim S.A. (AG - LTD) | 2-oxo-1-pyrrolidine derivatives, process for preparing them and their uses. |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03104799A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-01 | Fuji Heavy Ind Ltd | 複合材ブレードの製造方法 |
| EP0989135B1 (en) * | 1996-11-29 | 2003-03-05 | Daiichi Fine Chemical Co., Ltd. | Novel phosphinopyrrolidine compounds and process for producing the same |
-
1984
- 1984-09-28 JP JP20459684A patent/JPS60166692A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01103541U (ja) * | 1987-12-24 | 1989-07-13 | ||
| EP1477478A2 (en) | 2000-02-23 | 2004-11-17 | UCB Farchim S.A. (AG - LTD) | 2-oxo-1-pyrrolidine derivatives, process for preparing them and their uses. |
| EP1604979A1 (en) | 2000-02-23 | 2005-12-14 | UCB Farchim S.A. | 2-oxo-1-pyrrolidine derivative and its pharmaceutical uses |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60166692A (ja) | 1985-08-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2691442B2 (ja) | 新規なプロリン誘導体 | |
| KR19990013522A (ko) | 치환된 퍼히드로이소인돌의 제조 방법 | |
| JPS6245238B2 (ja) | ||
| JP4057088B2 (ja) | ピロリジン誘導体の製造方法 | |
| CN112272665A (zh) | 制备立他司特的方法 | |
| JP3193597B2 (ja) | グリシン誘導体の製造方法 | |
| JPS62286964A (ja) | オキシラセタムの製造方法 | |
| JPH023793B2 (ja) | ||
| JP3529425B2 (ja) | （ｓ）−３−低級アルキル−２−ピペラジノンの製造方法 | |
| JP2770357B2 (ja) | ヌクレオシド誘導体の製造方法 | |
| JPS62249963A (ja) | Ｎ−（スルホニルメチル）ホルムアミド類の製造法 | |
| JPWO2003057665A1 (ja) | ベンゼンスルホンアミド誘導体結晶の製造方法、およびその中間体の新規結晶とその製造方法 | |
| JP2000344694A (ja) | 光学活性３−ペンチン−２−オールの製造方法 | |
| JPS58951A (ja) | Ｎα↓−（３↓−シアノ↓−プロパノイル）↓−アミノカルボン酸誘導体 | |
| JPH0789933A (ja) | 光学活性なインドリン誘導体の製法と中間体 | |
| CA2006665C (en) | Process for purification of 1,2-bis (nicotinamido) propane | |
| JP2002265481A (ja) | 高分子担持光学活性ホスフィン化合物 | |
| JP2558313B2 (ja) | 脱水縮合剤およびその製造方法 | |
| JP4647861B2 (ja) | （Ｓ）−（＋）−５−アミノ−４−ヒドロキシペンタン酸及び（Ｓ）−（＋）−γ−アミノメチル−γ−ブチロラクトンの製造方法 | |
| KR100483317B1 (ko) | α-페닐-α-프로폭시벤젠아세트산 1-메틸-4-피페리디닐에스테르 염산염의 제조방법 | |
| JPH01100147A (ja) | 光学活性マロン酸エステル誘導体 | |
| JPS6251637A (ja) | ２−メチレン−６，６−ジメチル又は５，６，６−トリメチルシクロヘキシルカルバルデヒドの製法 | |
| SU1147250A3 (ru) | Способ получени производных 4-оксоазетидин-2,2-дикарбоновой кислоты | |
| JPH027583B2 (ja) | ||
| JP3387579B2 (ja) | ２−オキサインダン誘導体の製造法 |