JPH027583B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
Description
本発明は新規なグリセロール誘導体に関する。
本発明のグリセロール誘導体は下記一般式
()で表わされる。 (式中R1はニトロ基又はアミノ基を示し、R2及
びR3は夫々水素原子、アルキル基、シクロアル
キル基、テトラハイドロピラニル基、テトラハイ
ドロフルフリル基又はフエニル基を示す。) 上記一般式()中、R2及びR3で表わされる
アルキル基としては、炭素数1〜6のアルキル
基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル基等を、シ
クロアルキル基としては、炭素数5〜7のシクロ
アルキル基、例えばシクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル基等を、それぞれ例示でき
る。又、R1で表わされるニトロ基又はアミノ基
はベンゼン環上の位置に置換しうる。 本発明の上記一般式()で表わされるグリセ
ロール誘導体は、例えば抗アレルギー作用を有す
る一般式 (式中Xは陰イオンを、R2及びR3は前記と同一
の意味を示す。) で表わされるスルホニウム誘導体の製造原料とし
て有用である。 一般式()で表わされるスルホニウム誘導体
の製造方法については、後記参考例において具体
的に述べる。 本発明の一般式()で表わされるグリセロー
ル誘導体は、その有するR1、R2及びR3の種類に
応じて、夫々以下に示す反応経路に従い製造され
る。 <R1がニトロ基及びR3が水素原子である本発明
化合物(a)の製造> 一般式(a)で表わされる本発明化合物は、
次に示す三種の製造方法により製造される。 A法 (式中R2は前記と同一の意味を示す。) すなわち、一般式()で表わされるアルキ
レンオキサイド誘導体に、一般式()で表わ
されるアルコール誘導体を反応させることによ
り一般式(a)で表わされる本発明化合物を
得る。 該反応はベンゼン、トルエン、キシレン、ア
セトニトリル、ニトロメタン等の溶媒の存在下
又は無溶媒下で行なわれる。式()の化合物
と式()の化合物との使用割合は、式()
の化合物1モルに対し、式()の化合物を1
〜10倍モル程度とすればよく、反応温度は通常
約50℃〜150℃とすればよい。又、反応系内に
濃硫酸等の鉱酸を添加することにより、反応を
促進させることができる。 B法 (式中R2は前記と同一の意味を示す。) また、ニトロフエノールに、一般式()で
表わされる化合物を反応させることによつて
も、一般式(a)で表わされる本発明化合物
を得ることができる。該反応はベンゼン、トル
エン、キシレン、テトラハイドロフラン、ジオ
キサン等の反応に関与しない溶媒の存在下、又
は無溶媒下で行なわれる。ニトロフエノールと
式()の化合物との使用割合は、通常ニトロ
フエノール1モルに対し式()の化合物を1
〜2倍モル程度とすればよく、反応温度は、室
温から100℃程度とされる。該反応においては、
反応系内に例えばピリジン、炭酸カリウム等の
塩基を添加することにより、反応を促進させる
ことができる。 C法 (式中R2は前記と同一の意味を示す。) 更に、ニトロフエノールに、一般式()で
表わされる化合物を、アルカリ金属の水酸化物
の存在下に反応させることによつても、一般式
(a)で表わされる本発明化合物を収得でき
る。該反応は、本反応自体に影響を与えない、
メタノール、エタノール等のアルコール類、ア
セトン、ジオキサン等の有機溶媒、水、又は前
記有機溶媒と水の混合溶媒中で行なわれる。こ
こで用いられるアルカリ金属の水酸化物として
は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等が挙げられる。ニトロフエノールと式()
の化合物との使用割合は通常ニトロフエノール
1モルに対し、式()の化合物を1〜2倍モ
ルとすればよく、アルカリ金属の水酸化物もま
たニトロフエノール1モルに対し約1〜2倍モ
ルとなる量で用いられる。反応温度は通常、50
℃から100℃である。 <R1がアミノ基及びR3が水素原子である本発明
化合物(b)の製造> (式中R2は前記と同一の意味を示す。) 一般式(b)で表わされる本発明化合物は、
上記反応式に示したように、一般式(a)で表
わされる本発明化合物を、接触還元することによ
り製造される。接触還元に使用する触媒として
は、例えば白金、酸化白金、パラジウム、酸化パ
ルジウム、パラジウム硫酸バリウム、パラジウム
炭酸カルシウム、パラジウム炭素、酸化ニツケ
ル、ラネーニツケル等が挙げられる。接触還元反
応は、本反応に関与しない溶媒、例えばメタノー
ル、エタノール等のアルコール類;テトラハイド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチ
ル等のエステル類及びこれら有機溶媒と水との混
合溶媒等を用いて行なわれる。反応は通常、室温
から100℃の範囲で行なわれる。 <R3が水素原子以外の基である本発明化合物
(c)及び(d)の製造> (式中R2は前記と同一の意味を示し、R4は水素
原子以外のR3基、即ちアルキル基、シクロアル
キル基、テトラハイドロピラニル基、テトラハイ
ドロフルフリル基又はフエニル基を示す。またX
はハロゲン原子を示す。) 一般式(c)及び(d)で表わされる本発
明化合物は、上記反応式に示す方法に従い製造さ
れる。即ち一般式(a)で表わされる本発明化
合物に、一般式()で表わされる化合物を、ア
ルカリ金属又はそれらの水素化物の存在下に反応
させることにより一般式(c)の化合物を得る
ことができる。また該一般式(c)の化合物
を、更に接触還元することにより一般式(d)
の化合物を得ることができる。 一般式において、Xで表わされるハロゲン原
子としては塩素、臭素又はヨウ素原子を例示する
ことができる。 一般式(c)で表わされる本発明化合物を製
造する反応において、使用する溶媒としては、反
応に関与しないものである限り特に限定されない
が、具体的にはベンゼン、テトラハイドロフラ
ン、ジオキサン等を例示することができる。又、
本反応に使用するアルカリ金属又はそれらの水素
化物としては、ナトリウム、カリウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等が挙げられる。一般
式(a)で表わされる化合物と一般式()で
表わされる化合物、及びアルカリ金属又はその水
素化物の使用割合は、通常一般式(a)の化合
物1モルに対し、一般式()で表わされる化合
物及びアルカリ金属又はその水素化物を、それぞ
れ1〜2倍モル程度とするのがよく、反応温度
は、通常0℃〜80℃とされるのが好ましい。 また一般式(d)で表わされる本発明化合物
は、上記の製造方法によつて得られた一般式(
c)で表わされる化合物を接触還元することによ
り製造することができる。接触還元の反応条件は
一般式(b)の化合物の製造において述べた条
件と同一とすることができる。このようにして各
反応行程に従い製造された本発明化合物は、通常
の分離精製手段、例えば蒸留、再結晶、クロマト
グラフイー等により単離することができる。 次に本発明を具体的に説明するため、本発明化
合物から抗アレルギー作用を有する化合物の合成
例を参考例として挙げ、次いで本発明化合物の製
造例を実施例として挙げる。尚参考例及び実施例
中の化合物番号は、後記表1中の化合物番号に対
応するものである。 参考例 1 2−〔4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシプ
ロピルオキシ)フエニルカルバモイル)エチル
ジメチルスルホニウム p−トルエンスルホネ
ートの合成 4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシプロピ
ルオキシ)アニリン(化合物20)15.2g(0.0720
モル)とトリエチルアミン14.6g(0.144モル)
とをジメチルホルムアミド40mlに溶解し、これに
氷冷下、3−メチルメルカプトプロピオニルクロ
ライド11g(0.0792モル)を滴下する。室温で12
時間、次いで40〜50℃で1時間撹拌後、濃縮し、
水100mlを加え、クロロホルム100mlで抽出する。
このクロロホルム溶液を1規定塩酸50ml、飽和炭
酸ナトリウム水溶液50ml及び水100mlで順次洗浄
し、クロロホルム溶液を濃縮する。これにエーテ
ル20mlを加え、氷冷し、析出した結晶を過し、
乾燥して、mp79〜81℃の2−〔4−(3−エトキ
シ−2−ハイドロキシプロピルオキシ)フエニル
カルバモイル〕エチルメチルサルフアイド15.2g
を得た。 次に上記で得られた化合物20g(0.0639モル)
に、p−トルエンスルホン酸メチルエステル23.8
g(0.128モル)を加え、室温で4日間放置する。
この溶液にエーテル200mlを加え油状物を分離し、
エタノール−エーテルで精製して、mp72〜73℃
の標記化合物27g(収率84.7%)を得た。 元素分析 C23H33NO6S2(499.64として) C H N 計算値(%) 55.23 6.66 2.80 測定値(%) 55.16 6.72 2.96 実施例 1 グリシジルp−ニトロフエニルエーテル40g
に、n−プロパノール200mlと濃硫酸4滴とを加
え、6時間還流する。過剰のn−プロパノールを
留去し、水200mlを加え、これをクロロホルム500
mlで抽出する。クロロホルム溶液を水洗後、芒硝
で乾燥し、濃縮する。減圧蒸留し、b.p.188〜192
℃/2〜3mmHgの4−(2−ハイドロキシ−3−
プロピルオキシプロピルオキシ)ニトロベンゼン
(化合物3)36.4g(収率70%)を得た。 実施例 2 実施例1と同様にして、化合物4、6、7及び
8を合成した。 実施例 3 ニトロフエノール50gにグリシジルフエニルエ
ーテル53.9gとピリジン3滴とを加え、100℃で
5時間撹拌する。反応終了後、冷却し、水200ml
を加え、クロロホルム500mlで抽出する。このク
ロロホルム抽出液を2規定塩酸200ml、2規定水
酸化ナトリウム200ml及び水200mlで順次洗浄し、
芒硝乾燥後、濃縮する。これをシリカゲルカラム
クロマトグラフイー(展開溶媒:クロロホルム:
エタノール=10:1)で分離精製して4−(2−
ハイドロキシ−3−フエノキシプロピルオキシ)
ニトロベンゼン(化合物9)86.6g(83%)を得
た。 実施例 4 実施例3と同様にして、化合物1及び5を合成
した。 実施例 5 水酸化ナトリウム18.5gを90%エタノール500
mlに溶解し、これにニトロフエノール50gと1−
クロル−3−エトキシプロパン−2−オール60g
とを加え、8時間還流する。これを濃縮し、残渣
に水200mlを加え、クロロホルム500mlで抽出す
る。このクロロホルム抽出液を水洗し、芒硝乾燥
後濃縮する。減圧蒸留してb.p.173〜174℃/2〜
3mmHgの4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシ
プロピルオキシ)ニトロベンゼン(化合物2)
60.6g(収率70.2%)を得た。 実施例 6 実施例5と同様にして化合物10及び11を合成し
た。 実施例 7 水素化ナトリウム2.87gを無水ジメチルホルム
アミド100mlに加え、冷却し、この溶液に、4−
(2−ハイドロオキシ−3−プロピルオキシプロ
ピルオキシ)ニトロベンゼン(化合物3)15.25
gを加え室温で2時間撹拌する。次に氷冷下、プ
ロピルアイオダイド50gを滴下し、室温で4時間
撹拌後、80〜90℃で2時間撹拌する。反応液を濃
縮し、水100mlを加え、これをクロロホルム200ml
で抽出する。このクロロホルム溶液を水洗後、濃
縮し、減圧蒸留を行ないb.p.203〜205℃/2〜3
mmHgの4−(2,3−ジプロピルオキシプロピル
オキシ)ニトロベンゼン(化合物14)13.6g(収
率76.5%)を得た。 実施例 8 実施例7と同様にして化合物12、13、15、16、
17及び18を得た。 実施例 9 4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシプロピ
ルオキシ)ニトロベンゼン(化合物2)10gをエ
タノール200mlに溶解し、10%パラジウム炭素
0.25gを加え、室温で圧力2Kg/cm2で水素添加す
る。水素吸収が認められなくなつた後、反応液を
過し、液よりエタノールを留去し、ベンゼン
10mlを加え、室温で放置する。析出した結晶を
過、乾燥してm.p.83〜84℃の4−(3−エトキシ
2−ハイドロキシプロピルオキシ)アニリン(化
合物20)8.0g(収率91.4%)を得た。 実施例 10 実施例9と同様にして化合物19、21、22、24〜
29及び31〜36を得た。 実施例 11 4−(3−ブチルオキシ−2−ハイドロキシプ
ロピルオキシ)ニトロベンゼン(化合物5)10g
をエタノール100mlに溶解し、二酸化白金0.1gを
加え、室温で常圧下水素添加する。3モル当量の
水素吸収が終つた後、反応液を過し、液から
エタノールを留去し油状物を得た。この油状物を
乾燥して4−(3−ブチルオキシ−2−ハイドロ
キシプロピルオキシ)アニリン(化合物23)7.5
g(収率84.6%)を得た。 実施例 12 4−(2,3−ジメトキシプロピルオキシ)ニ
トロベンゼン(化合物12)34gをメタノール200
mlに溶解し、ラネーニツケル0.5gを加え、40℃
で35Kg/cm2の圧力で水素添加を行なつた。3モル
当量の水素の吸収が終つた後、反応液を過す
る。液からメタノールを留去後、減圧乾燥して
油状の4−(2,3−ジメトキシプロピルオキシ)
アニリン(化合物30)28g(収率94.0%)を得
た。 次に本発明化合物の化学構造、b.p.又はm.p.を
表1に、そのNMR分析結果を表2に示す。
()で表わされる。 (式中R1はニトロ基又はアミノ基を示し、R2及
びR3は夫々水素原子、アルキル基、シクロアル
キル基、テトラハイドロピラニル基、テトラハイ
ドロフルフリル基又はフエニル基を示す。) 上記一般式()中、R2及びR3で表わされる
アルキル基としては、炭素数1〜6のアルキル
基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル基等を、シ
クロアルキル基としては、炭素数5〜7のシクロ
アルキル基、例えばシクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル基等を、それぞれ例示でき
る。又、R1で表わされるニトロ基又はアミノ基
はベンゼン環上の位置に置換しうる。 本発明の上記一般式()で表わされるグリセ
ロール誘導体は、例えば抗アレルギー作用を有す
る一般式 (式中Xは陰イオンを、R2及びR3は前記と同一
の意味を示す。) で表わされるスルホニウム誘導体の製造原料とし
て有用である。 一般式()で表わされるスルホニウム誘導体
の製造方法については、後記参考例において具体
的に述べる。 本発明の一般式()で表わされるグリセロー
ル誘導体は、その有するR1、R2及びR3の種類に
応じて、夫々以下に示す反応経路に従い製造され
る。 <R1がニトロ基及びR3が水素原子である本発明
化合物(a)の製造> 一般式(a)で表わされる本発明化合物は、
次に示す三種の製造方法により製造される。 A法 (式中R2は前記と同一の意味を示す。) すなわち、一般式()で表わされるアルキ
レンオキサイド誘導体に、一般式()で表わ
されるアルコール誘導体を反応させることによ
り一般式(a)で表わされる本発明化合物を
得る。 該反応はベンゼン、トルエン、キシレン、ア
セトニトリル、ニトロメタン等の溶媒の存在下
又は無溶媒下で行なわれる。式()の化合物
と式()の化合物との使用割合は、式()
の化合物1モルに対し、式()の化合物を1
〜10倍モル程度とすればよく、反応温度は通常
約50℃〜150℃とすればよい。又、反応系内に
濃硫酸等の鉱酸を添加することにより、反応を
促進させることができる。 B法 (式中R2は前記と同一の意味を示す。) また、ニトロフエノールに、一般式()で
表わされる化合物を反応させることによつて
も、一般式(a)で表わされる本発明化合物
を得ることができる。該反応はベンゼン、トル
エン、キシレン、テトラハイドロフラン、ジオ
キサン等の反応に関与しない溶媒の存在下、又
は無溶媒下で行なわれる。ニトロフエノールと
式()の化合物との使用割合は、通常ニトロ
フエノール1モルに対し式()の化合物を1
〜2倍モル程度とすればよく、反応温度は、室
温から100℃程度とされる。該反応においては、
反応系内に例えばピリジン、炭酸カリウム等の
塩基を添加することにより、反応を促進させる
ことができる。 C法 (式中R2は前記と同一の意味を示す。) 更に、ニトロフエノールに、一般式()で
表わされる化合物を、アルカリ金属の水酸化物
の存在下に反応させることによつても、一般式
(a)で表わされる本発明化合物を収得でき
る。該反応は、本反応自体に影響を与えない、
メタノール、エタノール等のアルコール類、ア
セトン、ジオキサン等の有機溶媒、水、又は前
記有機溶媒と水の混合溶媒中で行なわれる。こ
こで用いられるアルカリ金属の水酸化物として
は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等が挙げられる。ニトロフエノールと式()
の化合物との使用割合は通常ニトロフエノール
1モルに対し、式()の化合物を1〜2倍モ
ルとすればよく、アルカリ金属の水酸化物もま
たニトロフエノール1モルに対し約1〜2倍モ
ルとなる量で用いられる。反応温度は通常、50
℃から100℃である。 <R1がアミノ基及びR3が水素原子である本発明
化合物(b)の製造> (式中R2は前記と同一の意味を示す。) 一般式(b)で表わされる本発明化合物は、
上記反応式に示したように、一般式(a)で表
わされる本発明化合物を、接触還元することによ
り製造される。接触還元に使用する触媒として
は、例えば白金、酸化白金、パラジウム、酸化パ
ルジウム、パラジウム硫酸バリウム、パラジウム
炭酸カルシウム、パラジウム炭素、酸化ニツケ
ル、ラネーニツケル等が挙げられる。接触還元反
応は、本反応に関与しない溶媒、例えばメタノー
ル、エタノール等のアルコール類;テトラハイド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチ
ル等のエステル類及びこれら有機溶媒と水との混
合溶媒等を用いて行なわれる。反応は通常、室温
から100℃の範囲で行なわれる。 <R3が水素原子以外の基である本発明化合物
(c)及び(d)の製造> (式中R2は前記と同一の意味を示し、R4は水素
原子以外のR3基、即ちアルキル基、シクロアル
キル基、テトラハイドロピラニル基、テトラハイ
ドロフルフリル基又はフエニル基を示す。またX
はハロゲン原子を示す。) 一般式(c)及び(d)で表わされる本発
明化合物は、上記反応式に示す方法に従い製造さ
れる。即ち一般式(a)で表わされる本発明化
合物に、一般式()で表わされる化合物を、ア
ルカリ金属又はそれらの水素化物の存在下に反応
させることにより一般式(c)の化合物を得る
ことができる。また該一般式(c)の化合物
を、更に接触還元することにより一般式(d)
の化合物を得ることができる。 一般式において、Xで表わされるハロゲン原
子としては塩素、臭素又はヨウ素原子を例示する
ことができる。 一般式(c)で表わされる本発明化合物を製
造する反応において、使用する溶媒としては、反
応に関与しないものである限り特に限定されない
が、具体的にはベンゼン、テトラハイドロフラ
ン、ジオキサン等を例示することができる。又、
本反応に使用するアルカリ金属又はそれらの水素
化物としては、ナトリウム、カリウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等が挙げられる。一般
式(a)で表わされる化合物と一般式()で
表わされる化合物、及びアルカリ金属又はその水
素化物の使用割合は、通常一般式(a)の化合
物1モルに対し、一般式()で表わされる化合
物及びアルカリ金属又はその水素化物を、それぞ
れ1〜2倍モル程度とするのがよく、反応温度
は、通常0℃〜80℃とされるのが好ましい。 また一般式(d)で表わされる本発明化合物
は、上記の製造方法によつて得られた一般式(
c)で表わされる化合物を接触還元することによ
り製造することができる。接触還元の反応条件は
一般式(b)の化合物の製造において述べた条
件と同一とすることができる。このようにして各
反応行程に従い製造された本発明化合物は、通常
の分離精製手段、例えば蒸留、再結晶、クロマト
グラフイー等により単離することができる。 次に本発明を具体的に説明するため、本発明化
合物から抗アレルギー作用を有する化合物の合成
例を参考例として挙げ、次いで本発明化合物の製
造例を実施例として挙げる。尚参考例及び実施例
中の化合物番号は、後記表1中の化合物番号に対
応するものである。 参考例 1 2−〔4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシプ
ロピルオキシ)フエニルカルバモイル)エチル
ジメチルスルホニウム p−トルエンスルホネ
ートの合成 4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシプロピ
ルオキシ)アニリン(化合物20)15.2g(0.0720
モル)とトリエチルアミン14.6g(0.144モル)
とをジメチルホルムアミド40mlに溶解し、これに
氷冷下、3−メチルメルカプトプロピオニルクロ
ライド11g(0.0792モル)を滴下する。室温で12
時間、次いで40〜50℃で1時間撹拌後、濃縮し、
水100mlを加え、クロロホルム100mlで抽出する。
このクロロホルム溶液を1規定塩酸50ml、飽和炭
酸ナトリウム水溶液50ml及び水100mlで順次洗浄
し、クロロホルム溶液を濃縮する。これにエーテ
ル20mlを加え、氷冷し、析出した結晶を過し、
乾燥して、mp79〜81℃の2−〔4−(3−エトキ
シ−2−ハイドロキシプロピルオキシ)フエニル
カルバモイル〕エチルメチルサルフアイド15.2g
を得た。 次に上記で得られた化合物20g(0.0639モル)
に、p−トルエンスルホン酸メチルエステル23.8
g(0.128モル)を加え、室温で4日間放置する。
この溶液にエーテル200mlを加え油状物を分離し、
エタノール−エーテルで精製して、mp72〜73℃
の標記化合物27g(収率84.7%)を得た。 元素分析 C23H33NO6S2(499.64として) C H N 計算値(%) 55.23 6.66 2.80 測定値(%) 55.16 6.72 2.96 実施例 1 グリシジルp−ニトロフエニルエーテル40g
に、n−プロパノール200mlと濃硫酸4滴とを加
え、6時間還流する。過剰のn−プロパノールを
留去し、水200mlを加え、これをクロロホルム500
mlで抽出する。クロロホルム溶液を水洗後、芒硝
で乾燥し、濃縮する。減圧蒸留し、b.p.188〜192
℃/2〜3mmHgの4−(2−ハイドロキシ−3−
プロピルオキシプロピルオキシ)ニトロベンゼン
(化合物3)36.4g(収率70%)を得た。 実施例 2 実施例1と同様にして、化合物4、6、7及び
8を合成した。 実施例 3 ニトロフエノール50gにグリシジルフエニルエ
ーテル53.9gとピリジン3滴とを加え、100℃で
5時間撹拌する。反応終了後、冷却し、水200ml
を加え、クロロホルム500mlで抽出する。このク
ロロホルム抽出液を2規定塩酸200ml、2規定水
酸化ナトリウム200ml及び水200mlで順次洗浄し、
芒硝乾燥後、濃縮する。これをシリカゲルカラム
クロマトグラフイー(展開溶媒:クロロホルム:
エタノール=10:1)で分離精製して4−(2−
ハイドロキシ−3−フエノキシプロピルオキシ)
ニトロベンゼン(化合物9)86.6g(83%)を得
た。 実施例 4 実施例3と同様にして、化合物1及び5を合成
した。 実施例 5 水酸化ナトリウム18.5gを90%エタノール500
mlに溶解し、これにニトロフエノール50gと1−
クロル−3−エトキシプロパン−2−オール60g
とを加え、8時間還流する。これを濃縮し、残渣
に水200mlを加え、クロロホルム500mlで抽出す
る。このクロロホルム抽出液を水洗し、芒硝乾燥
後濃縮する。減圧蒸留してb.p.173〜174℃/2〜
3mmHgの4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシ
プロピルオキシ)ニトロベンゼン(化合物2)
60.6g(収率70.2%)を得た。 実施例 6 実施例5と同様にして化合物10及び11を合成し
た。 実施例 7 水素化ナトリウム2.87gを無水ジメチルホルム
アミド100mlに加え、冷却し、この溶液に、4−
(2−ハイドロオキシ−3−プロピルオキシプロ
ピルオキシ)ニトロベンゼン(化合物3)15.25
gを加え室温で2時間撹拌する。次に氷冷下、プ
ロピルアイオダイド50gを滴下し、室温で4時間
撹拌後、80〜90℃で2時間撹拌する。反応液を濃
縮し、水100mlを加え、これをクロロホルム200ml
で抽出する。このクロロホルム溶液を水洗後、濃
縮し、減圧蒸留を行ないb.p.203〜205℃/2〜3
mmHgの4−(2,3−ジプロピルオキシプロピル
オキシ)ニトロベンゼン(化合物14)13.6g(収
率76.5%)を得た。 実施例 8 実施例7と同様にして化合物12、13、15、16、
17及び18を得た。 実施例 9 4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシプロピ
ルオキシ)ニトロベンゼン(化合物2)10gをエ
タノール200mlに溶解し、10%パラジウム炭素
0.25gを加え、室温で圧力2Kg/cm2で水素添加す
る。水素吸収が認められなくなつた後、反応液を
過し、液よりエタノールを留去し、ベンゼン
10mlを加え、室温で放置する。析出した結晶を
過、乾燥してm.p.83〜84℃の4−(3−エトキシ
2−ハイドロキシプロピルオキシ)アニリン(化
合物20)8.0g(収率91.4%)を得た。 実施例 10 実施例9と同様にして化合物19、21、22、24〜
29及び31〜36を得た。 実施例 11 4−(3−ブチルオキシ−2−ハイドロキシプ
ロピルオキシ)ニトロベンゼン(化合物5)10g
をエタノール100mlに溶解し、二酸化白金0.1gを
加え、室温で常圧下水素添加する。3モル当量の
水素吸収が終つた後、反応液を過し、液から
エタノールを留去し油状物を得た。この油状物を
乾燥して4−(3−ブチルオキシ−2−ハイドロ
キシプロピルオキシ)アニリン(化合物23)7.5
g(収率84.6%)を得た。 実施例 12 4−(2,3−ジメトキシプロピルオキシ)ニ
トロベンゼン(化合物12)34gをメタノール200
mlに溶解し、ラネーニツケル0.5gを加え、40℃
で35Kg/cm2の圧力で水素添加を行なつた。3モル
当量の水素の吸収が終つた後、反応液を過す
る。液からメタノールを留去後、減圧乾燥して
油状の4−(2,3−ジメトキシプロピルオキシ)
アニリン(化合物30)28g(収率94.0%)を得
た。 次に本発明化合物の化学構造、b.p.又はm.p.を
表1に、そのNMR分析結果を表2に示す。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中R1はニトロ基又はアミノ基を示し、R2及
びR3は夫々水素原子、アルキル基、シクロアル
キル基、テトラハイドロピラニル基、テトラハイ
ドロフルフリル基又はフエニル基を示す。) で表わされるグリセロール誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1926483A JPS59144737A (ja) | 1983-02-08 | 1983-02-08 | グリセロ−ル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1926483A JPS59144737A (ja) | 1983-02-08 | 1983-02-08 | グリセロ−ル誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59144737A JPS59144737A (ja) | 1984-08-18 |
JPH027583B2 true JPH027583B2 (ja) | 1990-02-19 |
Family
ID=11994576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1926483A Granted JPS59144737A (ja) | 1983-02-08 | 1983-02-08 | グリセロ−ル誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59144737A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4655173B2 (ja) * | 2000-04-27 | 2011-03-23 | 日立化成工業株式会社 | 分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物の製造方法 |
CN110963953B (zh) * | 2019-12-04 | 2022-02-18 | 植恩生物技术股份有限公司 | 一种甲磺司特工艺杂质i及其制备方法和用途 |
-
1983
- 1983-02-08 JP JP1926483A patent/JPS59144737A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59144737A (ja) | 1984-08-18 |
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