JPS61165351A - オキシフエニルマロン酸半エステルの製造法 - Google Patents
オキシフエニルマロン酸半エステルの製造法Info
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- JPS61165351A JPS61165351A JP1339586A JP1339586A JPS61165351A JP S61165351 A JPS61165351 A JP S61165351A JP 1339586 A JP1339586 A JP 1339586A JP 1339586 A JP1339586 A JP 1339586A JP S61165351 A JPS61165351 A JP S61165351A
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- Japan
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- methoxybenzyl
- acid
- ester
- oxyphenylmalonic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はオキシフェニルマロン酸半エステルの製造法、
とくに、一般式： （式中、Ｘはｐ−メトキシベンジルまたはテトラヒドロ
ピラニル基、 Ｒ１はｐ−メトキシベンジル基 をそれぞれ示す） で表わされるオキシフェニル酢酸類に二酸化炭素を作用
させたのち、中和して一般式： （式中、Ｘ、Ｒ’は前記と同意義） で表わされるオキシフェニルマロン酸半エステルを製造
する方法に関する。
とくに、一般式： （式中、Ｘはｐ−メトキシベンジルまたはテトラヒドロ
ピラニル基、 Ｒ１はｐ−メトキシベンジル基 をそれぞれ示す） で表わされるオキシフェニル酢酸類に二酸化炭素を作用
させたのち、中和して一般式： （式中、Ｘ、Ｒ’は前記と同意義） で表わされるオキシフェニルマロン酸半エステルを製造
する方法に関する。
また、本発明は、前記式（Ｉ）で表わせれる化合物を一
般式： （式中、Ｘ、Ｒ’は前記と同意義） で表わされる化合物にヘキサ低級アルキルシラザンのナ
トリウム塩を作用させてα位水素の１個をナトリウムと
置換する方法で製造して前記主反応の出発物質として利
用する方法をも包含する。
般式： （式中、Ｘ、Ｒ’は前記と同意義） で表わされる化合物にヘキサ低級アルキルシラザンのナ
トリウム塩を作用させてα位水素の１個をナトリウムと
置換する方法で製造して前記主反応の出発物質として利
用する方法をも包含する。
本発明の工程を以下に示す。
二里璽−ユ
［１１
［Ｉ［］
［式中、ＸおよびＲ１は前記と同意義；（Ｒ”ｓＳ ｔ
）ＩＮ−はヘキサアルキルジシラザン基；２はアルカ
リ金属；をそれぞれ意味する］本発明の方法は、ヘキサ
アルキルジシラザンのアルカリ金属塩の存在下に二酸化
炭素を導入する第一工程、および部分加水分解する第二
工程よりなる。これらの工程は、−容器内中で連続して
行なうことができるため、一工程のように処理しうる。
）ＩＮ−はヘキサアルキルジシラザン基；２はアルカ
リ金属；をそれぞれ意味する］本発明の方法は、ヘキサ
アルキルジシラザンのアルカリ金属塩の存在下に二酸化
炭素を導入する第一工程、および部分加水分解する第二
工程よりなる。これらの工程は、−容器内中で連続して
行なうことができるため、一工程のように処理しうる。
（第一工程）
本工程は、適当な無水溶媒中、原料物質［Ｉ］１当量に
対し、ヘキサアルキルジシラザンのアルカリ金属塩１〜
３当量、好ましくは１．５〜２当量を作用させた後、二
酸化炭素を導入することにより達成される。
対し、ヘキサアルキルジシラザンのアルカリ金属塩１〜
３当量、好ましくは１．５〜２当量を作用させた後、二
酸化炭素を導入することにより達成される。
本反応は、無水条件下で、窒素気流下に冷却しながら行
なうのが好ましい。
なうのが好ましい。
ヘキサアルキルジシラザンとしては、ヘキサメチルジシ
ラザン、ヘキサエチルジシラザン、ヘキサプロピルジシ
ラザンなどを用いうる。これらは、米国化学会誌見６，
１７０７（１９４４）に記載の方法により、容易に製造
しうる。
ラザン、ヘキサエチルジシラザン、ヘキサプロピルジシ
ラザンなどを用いうる。これらは、米国化学会誌見６，
１７０７（１９４４）に記載の方法により、容易に製造
しうる。
アルカリ金属塩としては、ナトリウム塩、リチウム塩、
カリウム塩などを例示しうる。
カリウム塩などを例示しうる。
ヘキサアルキルジシラザンのアルカリ金属塩は、例えば
無水溶媒中、窒素気流下に、ヘキサアルキルジシラザン
とアルカリ金属アミド（特にナトリウムアミド）を反応
させることにより容易に製造しうる。
無水溶媒中、窒素気流下に、ヘキサアルキルジシラザン
とアルカリ金属アミド（特にナトリウムアミド）を反応
させることにより容易に製造しうる。
溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ヘ
キサンなどの炭化水素類、ジエチルエーテル、グライム
、ジグライム、テトラヒドロフランなどのエーテル類、
その他、ジメチルホルムアミドなどを単独で、または数
種以上の混合溶媒として用いうるが、好ましくはトルエ
ン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランおよび
ｎ −ヘキサンなどである。
キサンなどの炭化水素類、ジエチルエーテル、グライム
、ジグライム、テトラヒドロフランなどのエーテル類、
その他、ジメチルホルムアミドなどを単独で、または数
種以上の混合溶媒として用いうるが、好ましくはトルエ
ン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランおよび
ｎ −ヘキサンなどである。
二酸化炭素を導入するには、反応液中に直接、ｃｏ、ガ
スを導入してもよいが、ドライアイスを用いると簡便に
達成しうる。
スを導入してもよいが、ドライアイスを用いると簡便に
達成しうる。
（第二工程）
本工程は、第一工程で得た化合物［ｍｌを酸で加水分解
することにより達成しうる。
することにより達成しうる。
酸としては、塩酸、硫酸など、カルボン酸の塩の氷解に
通常用いられるすべての酸を利用しうる。
通常用いられるすべての酸を利用しうる。
この新製法は、入手し易い原料を用い、発火の危険が少
なく、反応温度が比較的高くてもよく、安全な溶媒を使
えるという点ですぐれている。また、反応が速やかに完
結し、より簡便な操作で、高収率が得られる点で有利で
ある。
なく、反応温度が比較的高くてもよく、安全な溶媒を使
えるという点ですぐれている。また、反応が速やかに完
結し、より簡便な操作で、高収率が得られる点で有利で
ある。
本発明の方法により得られる化合物［１［］を、要すれ
ば、以下の工程図に従って、ジエステル体にしたり、あ
るいはエステル変換したりしうる。
ば、以下の工程図に従って、ジエステル体にしたり、あ
るいはエステル変換したりしうる。
これらの操作も本発明の範囲内とする。
（以下余白）
工程図 ２
または
（式中、ＸおよびＲ１は前記と同意義；ＲｓはＲ１とは
異なるエステル残基を示す）上記定義中、Ｒ３で示きれ
るエステル残基とは、Ｒ１よりやや除去しにくいエステ
ル残基を意味し、具体的にはＲ１で示したと同様の基を
例示しうる。
異なるエステル残基を示す）上記定義中、Ｒ３で示きれ
るエステル残基とは、Ｒ１よりやや除去しにくいエステ
ル残基を意味し、具体的にはＲ１で示したと同様の基を
例示しうる。
以下に実施例を示して本発明の態様を明らかにする。
参考例 １
ヘキサアルキルジシラザンナトリウムの 造無水トルエ
ン５０ｍ１に、ヘキサメチルジシラザン（以下ＨＭＤＳ
と略す）、１０．５ｍ１（５０，３６ミリモル）および
ナトリウムアミド２．５ｇを加え、窒素気流下で３時間
加熱還流する。冷後、濾過すると、ＨＭＤＳ−アルカリ
金属塩のトルエン溶液（以下、ＨＭＤＳ−Ｎａ溶液と略
す）を、淡黄色透明の液体として得る。
ン５０ｍ１に、ヘキサメチルジシラザン（以下ＨＭＤＳ
と略す）、１０．５ｍ１（５０，３６ミリモル）および
ナトリウムアミド２．５ｇを加え、窒素気流下で３時間
加熱還流する。冷後、濾過すると、ＨＭＤＳ−アルカリ
金属塩のトルエン溶液（以下、ＨＭＤＳ−Ｎａ溶液と略
す）を、淡黄色透明の液体として得る。
（Ｒｅａｇａｎｔｓ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ ５ｙｎ
ｔｈａｓｉｓ Ｌ、ＬＯ４６（１９６７）哀及±ユ 参考例１で得たＨＭＤＳ−Ｎａのトルエン溶液１０ｍ１
に、窒素気流下、水冷下に、ｐ−（ｐ−メトキシベンジ
ルオキシ）フェニル酢酸ｐ−メトキシベンジルエステル
１．５７ｇ（４ミリモル）ヲ無水トルエン１２ｍ１に溶
かした溶液を滴下し、室温で３５分攪拌した後、再び氷
冷する。これに大過剰のドライアイスを徐々に加え、２
０分間攪拌し、ついで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を
カロえ、水冷下で激しく攪拌した後、濾過する。沈殿を
、トルエン１０ｍ１ずつで３回、更に水１５ｍ１ずつで
３回洗浄後、水冷攪拌下にＩＮ−塩酸４０ｍ１と酢酸エ
チル１２０ｍ１で溶解する。有機層を分取し、水２０ｍ
１ずつで３回洗う、また水層１更番こ酢酸エチル２０ｍ
１で抽出し、洗浄後、先の有機層と合わせる。有機層を
硫酸ナトリウム２０ｇで乾燥し、減圧下で溶媒を留去す
ると、結晶性残渣１．６２ｇを得る。これを、エーテノ
し一石油工−テル（３：２）１５ｍｌから再結晶し、洗
浄すると、ｍｐ１２８〜１３０℃の目的化合物１．５４
９ｇ（収率８８．７％）を得る。また、母液力箋らは、
ｍｐ１２１〜１２３℃の目的化合物０．０２１ｇ（収率
１．２０％）を得る。
ｔｈａｓｉｓ Ｌ、ＬＯ４６（１９６７）哀及±ユ 参考例１で得たＨＭＤＳ−Ｎａのトルエン溶液１０ｍ１
に、窒素気流下、水冷下に、ｐ−（ｐ−メトキシベンジ
ルオキシ）フェニル酢酸ｐ−メトキシベンジルエステル
１．５７ｇ（４ミリモル）ヲ無水トルエン１２ｍ１に溶
かした溶液を滴下し、室温で３５分攪拌した後、再び氷
冷する。これに大過剰のドライアイスを徐々に加え、２
０分間攪拌し、ついで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を
カロえ、水冷下で激しく攪拌した後、濾過する。沈殿を
、トルエン１０ｍ１ずつで３回、更に水１５ｍ１ずつで
３回洗浄後、水冷攪拌下にＩＮ−塩酸４０ｍ１と酢酸エ
チル１２０ｍ１で溶解する。有機層を分取し、水２０ｍ
１ずつで３回洗う、また水層１更番こ酢酸エチル２０ｍ
１で抽出し、洗浄後、先の有機層と合わせる。有機層を
硫酸ナトリウム２０ｇで乾燥し、減圧下で溶媒を留去す
ると、結晶性残渣１．６２ｇを得る。これを、エーテノ
し一石油工−テル（３：２）１５ｍｌから再結晶し、洗
浄すると、ｍｐ１２８〜１３０℃の目的化合物１．５４
９ｇ（収率８８．７％）を得る。また、母液力箋らは、
ｍｐ１２１〜１２３℃の目的化合物０．０２１ｇ（収率
１．２０％）を得る。
総収量Ｈ１，５７ｇ（収率８９．９％）Ｉ Ｒ： νｍ
ａｘ（ＫＢｒ） ３２６０．１？４０．Ｌ６１２．Ｌ５
８５．ＬＳＬＬ。
ａｘ（ＫＢｒ） ３２６０．１？４０．Ｌ６１２．Ｌ５
８５．ＬＳＬＬ。
１２５０．１１６８ｃｍ−’
ＮＭＲ：δｐｐＩＩｌ（ｄ＠−アセトン） ３．７８ｓ
６Ｈ，４，７５ｓｌＨ。
６Ｈ，４，７５ｓｌＨ。
５、０５ｓ２Ｌ ５．１５ｓ２Ｂ
ｘ遍」」。
ｐ−ヒドロキシフェニル酢酸メチルエステル３．３２ｇ
（２０ミリモル）およびジヒドロピラン５．５ｍ１（３
，０当量）をトルエン２．５ｍｌに溶かし、ｐ−トルエ
ンスルホン酸・Ｈ２○１ｍｇを加え、室温で１．５時間
撹拌する。これに、４、ＩＮナトリウムメトキシド／メ
タノール０．３ｍｌとアニスアルコール３．０ｍｌのト
ルエン３０ｍ１溶液を加え、塩化カルシウム管を取り付
けて、２０分間加熱還流する。冷却後、これをＨＭＤＳ
−Ｎａ溶液（２，２３モル当量）に１０℃で５分間を要
して満願し、２０℃で４０分間攪拌する。反応液を一６
０℃以下に冷却してドライアイス２０ｇを加え、同温で
１０分間、ついで０℃で１５分間攪拌し、水を加え、析
出した結晶を濾取し、水４０ｍ１ついでトルエン４ｍｌ
で洗う。濾液を有機層および水層に分け、有機層を炭酸
水素ナトリウム水溶液で振る。水層を先の水層と合わせ
てトルエンで洗い、先の結晶と合わせ、酢酸エチルおよ
びリン酸を加えてｐＨ３〜４にｗＩ４ｔする。水層を分
取し、酢酸エチルで洗う、洗液と抽出液を合し、水、つ
いで飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄後、四塩化炭素−
酢酸エチルから結晶化すると目的化合物を得る。
（２０ミリモル）およびジヒドロピラン５．５ｍ１（３
，０当量）をトルエン２．５ｍｌに溶かし、ｐ−トルエ
ンスルホン酸・Ｈ２○１ｍｇを加え、室温で１．５時間
撹拌する。これに、４、ＩＮナトリウムメトキシド／メ
タノール０．３ｍｌとアニスアルコール３．０ｍｌのト
ルエン３０ｍ１溶液を加え、塩化カルシウム管を取り付
けて、２０分間加熱還流する。冷却後、これをＨＭＤＳ
−Ｎａ溶液（２，２３モル当量）に１０℃で５分間を要
して満願し、２０℃で４０分間攪拌する。反応液を一６
０℃以下に冷却してドライアイス２０ｇを加え、同温で
１０分間、ついで０℃で１５分間攪拌し、水を加え、析
出した結晶を濾取し、水４０ｍ１ついでトルエン４ｍｌ
で洗う。濾液を有機層および水層に分け、有機層を炭酸
水素ナトリウム水溶液で振る。水層を先の水層と合わせ
てトルエンで洗い、先の結晶と合わせ、酢酸エチルおよ
びリン酸を加えてｐＨ３〜４にｗＩ４ｔする。水層を分
取し、酢酸エチルで洗う、洗液と抽出液を合し、水、つ
いで飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄後、四塩化炭素−
酢酸エチルから結晶化すると目的化合物を得る。
第一結晶：５．６５ｇ（７０，６％）ｍｐＨ５〜１１８
℃ 第二結晶：０．８０ｇ（１０，０％）ｍｐＨ５〜１１８
℃ ＴＬＣ：Ｒｆ−０，６８（展開溶媒；ｎ−へブタン−酢
酸エチル−酢酸（１５：１５：１）；Ｉ。
℃ 第二結晶：０．８０ｇ（１０，０％）ｍｐＨ５〜１１８
℃ ＴＬＣ：Ｒｆ−０，６８（展開溶媒；ｎ−へブタン−酢
酸エチル−酢酸（１５：１５：１）；Ｉ。
で発色）。
ＮＭＲ：８９９ｍ（ＣＤｓＳＯＣＤｓ ） ２．５〜２
．０ｍ９Ｈ，３，７０ｓ３Ｈ。
．０ｍ９Ｈ，３，７０ｓ３Ｈ。
４、７０ｓｌＨ，５，０３ｓ２Ｈ，５，４６ｂｒｓｌ）
１．６．６−７、３ｍ。
１．６．６−７、３ｍ。
実施例１で得たｐ−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）フ
ェニルマロン酸ｐ−メトキシベンジルエステル１．５ｇ
（３，４４ミリモル）を塩化メチレン１０ｍ１に懸濁し
、窒素気流中、攪拌下に、−１５℃でトリエチルアミン
０．４８ｍ１（３，４４ミリモル）およびオキサリルク
ロリド０．２９ｍ１（３，４４ミリモル）を加え、同温
で２０分、更に０℃で１０分間攪拌すると、対応する酸
クロリド溶液を得る。
ェニルマロン酸ｐ−メトキシベンジルエステル１．５ｇ
（３，４４ミリモル）を塩化メチレン１０ｍ１に懸濁し
、窒素気流中、攪拌下に、−１５℃でトリエチルアミン
０．４８ｍ１（３，４４ミリモル）およびオキサリルク
ロリド０．２９ｍ１（３，４４ミリモル）を加え、同温
で２０分、更に０℃で１０分間攪拌すると、対応する酸
クロリド溶液を得る。
５−ヒドロキシインダン４１５ｍｇ（３，１０ミリモル
）を塩化メチレン１０ｍ１に溶かし、窒素気流中、攪拌
下に、０℃でピリジン０．２５ｍ１（３，１０ミリモル
）、ついで上記酸クロリド溶液を加え、１時間攪拌した
後、酢酸エチルで抽出する。抽出液を２Ｎ−塩酸、水、
５％炭酸水素ナトリウム水溶液および水で順次洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下で濃縮する。残渣を
１０％含水シリカゲルのカラムクロマトグラフィーに付
し、ベンゼンで溶出した後、ｎ−ヘキサンで洗浄すると
、目的化合物９５０ｍｇ（収率５０％）を得る。
）を塩化メチレン１０ｍ１に溶かし、窒素気流中、攪拌
下に、０℃でピリジン０．２５ｍ１（３，１０ミリモル
）、ついで上記酸クロリド溶液を加え、１時間攪拌した
後、酢酸エチルで抽出する。抽出液を２Ｎ−塩酸、水、
５％炭酸水素ナトリウム水溶液および水で順次洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下で濃縮する。残渣を
１０％含水シリカゲルのカラムクロマトグラフィーに付
し、ベンゼンで溶出した後、ｎ−ヘキサンで洗浄すると
、目的化合物９５０ｍｇ（収率５０％）を得る。
ｍｐ１０６〜１０７℃。
Ｎ Ｍ Ｒ： ８ ｐｐｍ（ＣＤＣ１，） ２．０７ｍ
２Ｈ，２，８０ｔ（６Ｈｚ）４Ｈ。
２Ｈ，２，８０ｔ（６Ｈｚ）４Ｈ。
３、７２ｓ３Ｈ，４，７５ｓｌＨ，４，９０ｓ２Ｈ，５
，１０ｓ２Ｈ参考例２で得たｐ−（ｐ−メトキシベンジ
ルオキシ）フェニルマロン酸ｐ−メトキシベンジル５−
インダニルエステル４．４１ｇを無水塩化メチレン９０
ｍ１ニ溶かし、窒素気流中、Ｏ’Ｃでアニソール９ｍｌ
およびトリフルオロ酢酸９ｍｌを加え、同温で４０分間
攪拌した後、減圧濃縮する。残渣をｎ−ヘキサンから結
晶化させ、ｎ−ヘキサンで洗浄すると目的化合物を定量
的に得る。
，１０ｓ２Ｈ参考例２で得たｐ−（ｐ−メトキシベンジ
ルオキシ）フェニルマロン酸ｐ−メトキシベンジル５−
インダニルエステル４．４１ｇを無水塩化メチレン９０
ｍ１ニ溶かし、窒素気流中、Ｏ’Ｃでアニソール９ｍｌ
およびトリフルオロ酢酸９ｍｌを加え、同温で４０分間
攪拌した後、減圧濃縮する。残渣をｎ−ヘキサンから結
晶化させ、ｎ−ヘキサンで洗浄すると目的化合物を定量
的に得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘはｐ−メトキシベンジルまたはテトラヒドロ
ピラニル基、 Ｒ＾１はｐ−メトキシベンジル基 をそれぞれ示す］ で表わされるオキシフェニル酢酸類に二酸化炭素を作用
させたのち、中和することを特徴とする一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、ＸとＲ＾１は前記と同意義］ で示されるオキシフェニルマロン酸半エステルの製造方
法。 ２、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘはｐ−メトキシベンジルまたはテトラヒドロ
ピラニル基、 Ｒ＾１はｐ−メトキシベンジル基 をそれぞれ示す］ で表わされる化合物に、ヘキサアルキルジシラザンのナ
トリウム塩を作用させてα−水素の１個をナトリウムと
置換したのち、二酸化炭素を作用させ、その生成物を中
和して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ、Ｒ＾１は前記と同意義］ で示されるオキシフェニルマロン酸半エステルを製造す
ることを特徴とする特許請求の範囲（１）の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1339586A JPS61165351A (ja) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | オキシフエニルマロン酸半エステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1339586A JPS61165351A (ja) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | オキシフエニルマロン酸半エステルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61165351A true JPS61165351A (ja) | 1986-07-26 |
| JPS6310143B2 JPS6310143B2 (ja) | 1988-03-04 |
Family
ID=11831924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1339586A Granted JPS61165351A (ja) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | オキシフエニルマロン酸半エステルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61165351A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102229531A (zh) * | 2011-05-09 | 2011-11-02 | 山东睿鹰先锋制药有限公司 | 对羟基苯丙二酸衍生物的制备方法 |
| CN112299966A (zh) * | 2020-10-22 | 2021-02-02 | 山西海泰电子材料有限公司 | 一种拉氧头孢酸侧链合成方法 |
| CN113372316A (zh) * | 2021-07-07 | 2021-09-10 | 山西千岫制药有限公司 | 一种拉氧头孢7位侧链的制备方法 |
-
1986
- 1986-01-23 JP JP1339586A patent/JPS61165351A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102229531A (zh) * | 2011-05-09 | 2011-11-02 | 山东睿鹰先锋制药有限公司 | 对羟基苯丙二酸衍生物的制备方法 |
| CN112299966A (zh) * | 2020-10-22 | 2021-02-02 | 山西海泰电子材料有限公司 | 一种拉氧头孢酸侧链合成方法 |
| CN113372316A (zh) * | 2021-07-07 | 2021-09-10 | 山西千岫制药有限公司 | 一种拉氧头孢7位侧链的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6310143B2 (ja) | 1988-03-04 |
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