JPS63182892A - 厚膜ハイブリツドicのスル−ホ−ル形成方法 - Google Patents

厚膜ハイブリツドicのスル−ホ−ル形成方法

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JPS63182892A
JPS63182892A JP1332487A JP1332487A JPS63182892A JP S63182892 A JPS63182892 A JP S63182892A JP 1332487 A JP1332487 A JP 1332487A JP 1332487 A JP1332487 A JP 1332487A JP S63182892 A JPS63182892 A JP S63182892A
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work stage
hole
vacuum
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 この発明は、スクリーン印刷機等を用いた厚膜ハイブリ
ッド印刷装置におけるFX[sハイブリッドICのスル
ーホール形成方法に関するものである。
(ロ)従来技術 従来のハイブリッドIC用のスクリーン印刷装置は、第
8図の印刷処理工程図に示すように、印刷処理するセラ
ミック族の基板を数10枚収納可能なカセットを備え、
そのカセットから基板を自動送出するローダ部と、この
ローダ部より、搬送され、ワーク・ステージに供給され
た基板を、ブツシャ・アーム機構による位置決め(後述
する)および印刷部と、印刷処理済基板の整列を行ない
乾燥オーブンに供給する基板の整列部と、乾燥オーブン
等の各処理工程から構成される装置上記の基板の位置決
め工程で用いられているワーク・ステージとしては、例
えば、第9図の斜視図に示すように構成されたものがあ
る。
この従来のワーク・ステージ2は、第10図の側面図に
示すように基板1を載置する位置に、複数個のバキュー
ム穴2aが形成されている。このバキューム穴2aは、
それぞれ吸引ポンプ(図示しない)に接続されている。
さらに、ワーク・ステージ2には、基板1の直交するコ
ーナーの1つを形成する2つの端面を、それぞれ基準面
として接触させて位置決めを行なう2ピン基準ビンA。
Bと、1ピン基準ピンCとが配置されている。この各基
準ピンに基準面が押しつけられることで位置決めされた
基板1は、バキューム穴2aの吸引力によりワーク・ス
テージ2に吸着固定され、印刷部に搬送される。
上記のワーク・ステージ2に載置された基板1を、ブツ
シャ・アーム機構によって、高精度な位置決めを行なう
方法としては、例えば、第11図(1)〜 (6)の基
板位置決め動作説明用の平面配置図に示すようなブツシ
ャ・アーム・シーケンスをへて位置決めが行なわれてい
た。
なお、第11図(1)〜 (6)において、1は基板、
A、Bは2ピン基準ピン、Cは1ビン基準ビン、D、E
はブツシャ・アーム、■〜■は基板1の各端面を示して
いる。
第8図に示すローダ部より送出された基板1は、第10
図のように、吸着固定するワーク・ステージ2上に搬送
され、第11図(1)に示すように、基板1の表面を上
向きにして載置される。この時、ブツシャ・アームDお
よびEは下降状態にある。
ワーク・ステージ2上に載置された基板lは、第1+図
(2)に示すように、ブツシャ・アームDによって、端
面0を押して、端面■を2ピン基準ビンA、Bへ接触さ
せるように押しつけ動作を行なう。
続いて、第11図(3)に示すように、ブツシャ・アー
ムEによって、基板1の端面■を押して、端面◎を1ピ
ン基準ピンCへ接触させるように押しつけ動作を行なう
このような、ブツシャ・アーム・シーケンスによって、
ワーク・ステージ2上の所定位置へ位置決めされた基板
1は、ワーク・ステージ2に形成された複数個のバキュ
ーム穴2aの吸着作用により、ワーク・ステージ2に吸
着固定される。その後、ワーク・ステージ2全体が印刷
部へ移動し、基板1の表面へ印刷を開始するように構成
されている。
一方、基板1の裏面に、印刷を施す場合は、第11図(
4)に示すように、基板1を裏返してた状態で、ワーク
・ステージ2に載置する。ワーク・ステージ2上に載置
された基板1は、第11図(5)に示すように、ブツシ
ャ・アームDによって、基板1の端面θを押して、端面
■を2ピン基準ビンA、Bへ接触させるように、押しつ
け動作を行なう。続いて、第11図(6)に示すように
、ブツシャ・アームEによって、基板1の端面◎を押し
て、端面■を1ピン基準ピンCへ接触させるように押し
つけ動作を行ない位置決めが完了する。
ワーク・ステージ2上に位置決めされた基板1は、上述
の表面印刷時と同様に、ワーク・ステージ2に吸着固定
される。その後、ワーク・ステージ2全体が印刷部へ移
動し、基板1の裏面へ印刷を開始するように構成されて
いる。
さらに、第12図の要部断面側面図に示すように、ワー
ク・ステージ2に形成された複数個のバキューム穴2a
は、基板1に形成されるスルーホールlaの形成位置に
対して、1対1の割合で形成されている。したがって、
印刷された導体ペースト3を、第13図の要部断面側面
図に示すように、バキューム穴2aよりの吸引力で、ス
ルーホールla内へ引き込み、塗布するように構成され
ている。
(ハ)発明が解決しようとする問題点 しかし、上記した従来のワーク・ステージ2においては
、バキューム穴2aの吸引動作は、ワーク・ステージ2
へ基板1が位置決めされた時から印刷加工が完了するま
で、連続して行なうように構成されていたため、印刷時
において、導体ペースト3の印刷が終了していない段階
から、スルーホールla方向に吸引され、基板1に汚わ
が生じたり、あるいはスルーホール内a内の塗布ムラが
生じる虞れがあった。
この発明は、上記した点に鑑みてなされたものであり、
その目的とするところは、基板をワーク・ステージ上に
吸着固定する吸引動作と、基板へスルーホールを形成す
るための吸引動作とを、独立させて行なうことができる
ように構成された厚膜ハイブリッド印刷装置によって、
基板への印刷を施した後に、スルーホールを形成するこ
とができるようにした厚膜ハイブリッドICのスルーホ
ール形成方法を提供することにある。
(ニ)問題を解決するための手段 この発明に係る厚膜ハイブリッドICのスルーホール形
成方法は、基板への印刷終了後に、ワーク・ステージを
基板搬出位置へ移動させる間に、基板のスルーホール形
成部分を吸引するために設けられた第2のバキューム部
を吸引動作させて、基板のスルーホール形成部分に印刷
された導電ペーストを、スルーホール形成部分へ引き込
み、スルーホールを形成するようにしたものである。
(ホ)作用 ワーク・ステージに載置された基板の位置決めは、ワー
ク・ステージに配置された2ビン基準ビンと、この2ピ
ン基準ビンと直交する位置に配置された1ビン基準ビン
に対して、基板の2つの端面からなる基準面を接触させ
て押しつけることによって、行なわれる。
このようにして、ワーク・ステージ上に、位置決めされ
た基板は、その背面外周縁部分が第1のバキューム部の
吸引動作によって、ワーク・ステージに吸着固定される
その後、ワーク・ステージ全体を印刷部に移動し、基板
に印刷を施す。
印刷が完了し、ワーク・ステージを基板搬出位置へ移動
させる間に、第2のバキューム部を吸引動作させて、基
板のスルーホールを形成する部分の導電ペーストを、ス
ルーホール内に引き込み、スルーホール内への導電ペー
ストの塗布を行ない、スルーホールを形成することがで
きる。
(へ)実施例 この発明に係る厚膜ハイブリッドICのスルーホール形
成方法の実施例を、第1図乃至第7図に基づいて説明す
る。第1図はワーク・ステージの移動範囲を示す動作説
明図、第2図および第3図はワーク・ステージへ基板を
載置させた状態を示す要部断面側面図、第4図はワーク
・ステージの斜視図、第5図は平面図、第6図はエアー
の吸引経路を説明するための動作説明図、第7図(1)
〜(6)は基板の位置決め動作説明用の平面配置図を示
すものである。
図において、21はこの発明に使用されるワーク・ステ
ージであって次の各部分から構成されている。
21aは上面中央部の基板載置位置に形成された凹状の
バキューム室(第2のバキューム部)で、基板lの大き
さより少し小さい開口部を有し、底面はぼ中央部には、
このバキューム室り1a内のエアーを外部に導出するた
めの穴21bが形成されている。21cは複数個のバキ
ューム穴(第1のバキューム部)で、バキューム室21
aの開口部の周囲に一定の間隔をおいて形成されている
このバキューム室21aとバキューム穴21cは、第6
図に示すような経路で、吸引したエアーをワーク・ステ
ージ21の同一側面21dから外部に導出するように構
成されている。したがって、バキューム室り1a内のエ
アーは、凹部の底面はぼ中央部に形成された穴21bを
通じて、第6図に矢印ので示すように、外部に導出され
る。また、複数個のバキューム穴21cは、第6図に矢
印θで示すように、ワーク・ステージ21内で、総て繋
がっていて、その各バキューム穴21cから吸引された
エアーは、まとめて、外部に導出される。
なお、このバキューム室21aおよびバキューム穴21
cのエアー導出部は、吸引ポンプ(図示しない)と送気
管によって接続され、その吸引動作は、それぞれ独立し
て行なうことができるように制御されている。
21eはワーク・ステージ21の各側壁面の上端縁に設
けたL字状の切り欠き部で、ブツシャ・アームD、E、
Gが、ワーク・ステージ21上に載置された基板1を、
2ビン基準ビンA、Bおよび1ビン基準ビンC方向に押
したり、基板1を挟持して搬送または載置したりする動
作の障害とならないようにするために形成されたもので
ある。21fはバキューム室21aを覆うように載置し
た基板1の背面側を支える支柱21gを立てる穴で、バ
キューム室21’aの底面に複数個、所定の間隔で形成
したものである。21hはワーク・ステージ21を固定
するためのネジ穴である。
なお、ワーク・ステージ21に設けた、1ビン基準ビン
Cは、抜き取って、180度位置の異なる反対側に、予
め形成されている穴に差し込むことにより、1ビン基準
ビンFとして設定することができるように構成されてい
る。また、2ビン基準ビンA、Bは、ワーク・ステージ
21の上面に設けられている。さらに、ブツシャ・アー
ムD、E。
Gの内、ブツシャ・アームEおよびGは、基板1の端面
◎、0を挟持しつつ、ワーク・ステージ21上まで搬送
し、載置するための搬送用アームとしても兼用されてい
る。■〜■は基板1の各端面を示すものであって、その
各端面■〜■の交点は、それぞれ直角に形成されている
このように、上記実施例によれば、次のように基板位置
決めおよび印刷を行なうことができる。
まず、ローダ部より送出された基板1は、ワーク・ステ
ージ21上に搬送され、第7図(+)に示すように、基
板1の表面に印刷が施される向きに載置される。この時
、ブツシャ・アームD、E。
Gは下降状態にある。
ワーク・ステージ21上に載置された基板1は、第7図
(2)に示すように、ブツシャ・アームDによって、基
板1の端面θを押して、端面■を2ビン基準ビンA、B
へ接触させるように押しつけ動作を行なう。
続いて、第7図(3)に示すように、ブツシャ・アーム
Eによって、基板1の端面■を押して、端面◎を1ビン
基準ビンCへ接触させるように、押しつけ動作を行なう
このような、ブツシャ・アーム・シーケンスによって、
ワーク・ステージ21上の所定位置に位置決めされた基
板1は、各バキューム穴21cの吸引動作によって、基
板1の背面外周縁がワーク・ステージ21の上面に吸着
固定される。
その後、第1図に示すように、ワーク・ステージ21全
体が印刷部へ移動し、基板1の表面へ印刷を開始する。
基板1への印刷が完了した時における、基板lのスルー
ホール形成部分1aは、第2図のように、印刷された導
電ペーストによって穴の上部が塞がれた状態にある。
基板1の表面への印刷が完了した後、ワーク・ステージ
21は、第1図に示すように、基板搬出位置(旧位置)
へ移動を開始する。
この動作と同時に、バキューム室21aを吸引動作を開
始させ、第3図に示すように、基板lに印刷された導電
ペースト3を、スルーホールIa内に引き込み、穴の内
壁面に塗布することができる。
この時、バキューム室21aは、基板1に形成される複
数のスルーホールlaを、一括して同時に吸引動作させ
ることができる。この吸引動作は、第1図に示すように
、基板1の搬出位置(旧位置)に至る間Sにおいて行な
われる。
一方、基板1の裏面に、印刷を施す場合は、まず、ワー
ク・ステージ21の1ビン基準ビンCを、ワーク・ステ
ージ2Iから抜き取り、180度位置を変えた反対側に
設けられた穴に差し込み、1ビン基準ビンFとして設定
する。その後、第7図(4)に示すように、基板1を裏
返してワーク・ステージ21上に載置する。ワーク・ス
テージ21上に載置された基板1は、第7図(5)に示
すように、ブツシャ・アームDによって、基板1の端面
θを押して、端面■を2ビン基準ビンA、Bへ接触させ
るように、押しつけ動作を行なう。続いて、第7図(6
)に示すようにブツシャ・アームGによって、基板1の
端面■を押して、端面◎を1ビン基準ビンFへ接触させ
るように、押しつけ動作を行ない位置決めが完了する。
このような、ブツシャ・アーム・シーケンスによって、
ワーク・ステージ21上の所定位置に位置決めされた基
板1は、各バキューム穴21cの吸引動作によって、基
板1の背面外周縁がワーク・ステージ21の上面に吸着
固定される。
その後、ワーク・ステージ21全体が印刷部へ移動し、
基板1の裏面へ印刷を開始する。
基板1の裏面への印刷が完了した後、バキューム室21
aを吸引動作を開始させ、第3図に示すように、基板1
に印刷された導電ペースト3を、スルーホール内に引き
込み、塗布することができる。この時、バキューム室2
1aは、基板lに形成する複数のスルーホールlaを、
一括して同時に吸引動作させることができる。この吸引
動作は、第1図に示すように、基板1の搬出位置(旧位
置)に至る間Sにおいて行なわれる。
(ト)発明の効果 この発明に係る厚膜ハイブリッドtCのスルーホール形
成方法によれば、基板をワーク・ステージ上面に吸着固
定させるためのバキューム穴、すなわち、第1のバキュ
ーム部と、基板のスルーホール形成部分に印刷された導
電ペーストをスルーホール内に引き込むためのバキュー
ム室、すなわち、第2のバキューム部とを形成し、この
第1のバキュームと第2のバキュームの吸引動作を独立
させることができるようにしたワーク・ステージを備え
た厚膜ハイブリッド印刷装置において、スルーホール形
成のための導電ペーストの引き込み動作を、印刷終了後
に行なうようにしたから、従来のように基板を汚したり
、あるいは、スルーホールへの導電ペーストの塗布ムラ
等を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第7図は、この発明の実施例を示すものであ
って、第1図はワーク・ステージの移動範囲を示す動作
説明図、第2図および第3図は要部断面側面図、第4図
は斜視図、第5図は平面図、第6図はエアー吸引経路を
説明するための平面図、第7図(+)〜(6)は基板位
置決め動作説明図である。 第8図乃至第13図は従来例を示すものであって、第8
図は基板の印刷処理工程図、第9図は斜視図、第10図
は側面図、第11図(1)〜(6)は基板位置決め動作
説明図、第12図および第13図は要部断面側面図であ
る。 1:基板    1aニスルーホール 2.21: ワーク・ステージ 21a:バキューム室(第2のバキューム部)21c:
バキューム穴(第1のバキューム部)3:導電ペースト ^、B:2ピン基準ピン  C,(F):1ビン基準ビ
ンD、E、G:ブツシャ・アーム ■〜0:基板1の各端面 第6図 第7図 (+ )      (2)      (3)第8図 第9図 第10図 第11図 第12図 第13図 2   2a

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  印刷を施す基板の直交するコーナーの1つを形成する
    2つの端面をそれぞれ基準面として接触させて位置決め
    を行なう基準ピンを配置するとともに、位置決めされた
    基板の背面外周縁部分を吸着固定させるための第1のバ
    キューム部と、基板のスルーホール形成部分を吸引する
    ための第2のバキューム部分とを有し、この第1のバキ
    ューム部と第2のバキューム部とをそれぞれ独立させて
    吸引動作を行なうように構成されているワーク・ステー
    ジを備えた厚膜ハイブリッド印刷装置であって、 基板への印刷終了後、ワーク・ステージを基板搬出位置
    へ移動させる間に、第2のバキューム部を吸引動作させ
    て、基板のスルーホール形成部分に印刷された導電ペー
    ストを、スルーホール形成部分へ引き込み、スルーホー
    ルを形成するようにしたことを特徴とする厚膜ハイブリ
    ッドICのスルーホール形成方法。
JP1332487A 1987-01-24 1987-01-24 厚膜ハイブリツドicのスル−ホ−ル形成方法 Granted JPS63182892A (ja)

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