JPS63171444A - 光記録媒体 - Google Patents

光記録媒体

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Publication number
JPS63171444A
JPS63171444A JP62002533A JP253387A JPS63171444A JP S63171444 A JPS63171444 A JP S63171444A JP 62002533 A JP62002533 A JP 62002533A JP 253387 A JP253387 A JP 253387A JP S63171444 A JPS63171444 A JP S63171444A
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JP
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adhesive layer
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optical recording
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Pending
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JP62002533A
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Inventor
Masahiro Yatake
正弘 矢竹
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光記録媒体の密着貼り合わせ構造に関する。
〔従来の技術〕
従来の光記録媒体は特開昭6°0−101737、特開
昭60−11534.実開昭60−85726、特開昭
61−80535などにあるようにエアサンドイッチ構
造をとったり、特開昭57−50557 、特開昭60
−182055 、特開昭61−54.50.特開昭6
0−5452などにあるように密着貼り合わせ構造をと
ったりしていた。また、接着層としては特開昭60−1
85235のようにエポキシ系の接着層を用いたりして
いた。また、接着の方法として、接着剤をロールコート
、スピンコードなどして塗布した後、熱と圧力または圧
力をかけて硬化させることがこころみられている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、前述の従来技術ではエアサンドイッチ構造ある
いは密着貼り合わせ構造がとられているが、エアサンド
イッチ構造は空気層を挾んでいるため機械的強度が弱く
、記録層自身が耐酸化性が強いものか記録層の耐酸化性
のための強固な保護が必要であるが、記録層の耐酸化性
のための保護層としてセラミックスを用瞬ると機械的強
度の弱さに起因する温湿度の変化による基板変形でセラ
ミックス層にクラックを生じやすくなり、セラミックス
層は用いることができない。また、密着貼り合わせ構造
においてエポキシ系の接着剤を用いると、保護層を介し
て貼り合わせたとしても保護層のピンホールからエポキ
シ系の接着剤の中の酸触媒が浸透して記録層を酸化させ
る。あるいは、接着剤の中に嫌気硬化性を付与したり、
イオン重合系の触媒を用いると、嫌気性触媒あるいはイ
オン重合系の触媒が、上述のエポキシ系の接着剤の中の
酸触媒と同様に、保護層のピンホールから浸透して記録
層を酸化させる。さらに、嫌気硬化性を付与した接着剤
は機械を用いて塗布しようとしたり、真空系内で貼り合
わせようとすると、機械中でゲル化しやすく、真空中で
もゲル化しやすいため均一に塗布させるための制御が非
常に難しい。また、uF剤をロールコート、スピンコー
ドなどして塗布した後熱と圧力または圧力をかけて硬化
させることにより、透光性支持体として用いる樹脂を変
形させたり、記録層や保護層にクラックを生じやすい。
また、従来の接着方法では接着層の中に多くの気泡が残
り、その気泡の影りにより光学的ばらつきや、熱伝導率
の違いによる記録ビットの形状が均一にならないと−う
問題点を有していた。
そこで本発明はこのような問題点を解決するものでその
目的とするところは、充分な機械的強度を有し、保護層
や記録層にクラックを生じさせたり、記録層を酸化させ
ることが極めて少ない量産性に富んだ密着貼り合せ構造
の光記録媒体を提供するところにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の光記録媒体は、光を用いて記録、再生または消
去を行なう光記録媒体の密着貼り合わせ構造において、
接着層の主成分がアクリレート基を有する単官能アクリ
ンート、多官能アクリレート、変成アクリレートあるい
はアクリレート基を有するオリゴマーから選ばれた1種
または2種以上の混合物であることを特徴とする。゛本
発明ではラジカル重合系の光重合開始剤の有効励起波長
域を少なくとも290nmから450nmに有すると限
定しているが、透光性支持体が樹脂基体であるため29
0nmより短い波長の光は樹脂基体に吸収され透過しな
いので290nmより短−波長の光は実質的に硬化に寄
与しなく、−450がmより長い波長の光でラジヵをを
発生するものは非常に不安定なものであり、作業性が悪
くなるためである。ラジカル重合系光重合開始剤は少な
くとも2903mから4503mに有効励起波長域を有
すればよいが、硬化に用いる光の発生源に合わせて開始
効率が高くなるように設定した方がよ−。例えば、56
5nmの波長の光を最もよく出す高圧水銀笛などを用い
る場合は3655mの波長の光に対して有効励起波長域
を有・するものを用−ればよい。嫌気硬化性触媒はラジ
カル重合系の光重合開始剤の5分の1モルパーセント以
上含むと、嫌気硬化性触媒の硬化が出て、機械で塗布す
ることが難しく、記録層の酸化も多くなり、長期信頼性
がなくなるため、5分の1モルパーセント以上含まない
方がよい。
また、本発明で用いるアクリレート基を有する単官能ア
クリレート、多官能アクリレート、変成アクリレートあ
るいはアクリレート基を有するオリゴマーから選ばれた
1種または2種以上の混合物は、塗布や硬化に問題が出
ない程度にメタアクリレート基、ニゲキシ基、水酸基、
カルボキシル基等を有するうのを添加して慢かまわない
が、エチレングリコールジアクリレート、テトラヒドロ
フリルアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリアクロキ
シエチルフォスフェート、ヒドロキシピクリン酸ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタ−トリアクリレ−) 、
  、1 、4−ブタンジオールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロール
メタンテトラアクリレート、ビスジエチレングリコール
フタレートジアクリレート、ビスフェノール人ジオキシ
ジエチレングリコールエーテルのジアクリレート、ビス
フェノールAジグリシジルエーテルのジアクリレート、
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、フッ素変
成アクリレート、硅素変成アクリレートなどを用いると
よく、これらの1種または2種以上の混合物の粘度を2
5℃で200センチダイズ以下に配合して用いると作業
性に優れるが均一塗布のためには25℃で100センチ
ボイス以下に配合する方がよい。
〔実施例〕
第1図(α)から第7図体本発明の光記録媒体の基本構
成図である。
第1図(α)に示す円で囲った部分を拡大して示したの
が第1図(b)であるが、1は1.2−m厚さのディス
ク状のポリカーボネートの透光性支持体であり、ニッケ
ルのスタンパを用いた射出成形により第1図(A)に示
すように1.6μピツチでスパイラル状のトラツ午ング
用の溝が形成されたものである。2は1の透光性支持体
上に直接成膜されたSiA/、Hの第1保護層であり、
初期真空度1−0″″’TOrr以下で、硅素703i
ilパーセントでアルミニウム30重量パーセントの合
金ターゲットを用いて、窒素20パーセント、アルゴン
80パーセントの混合ガスを導入しテ1.5 rIL’
L’ 。
rrにしてIKWのパワーを印加することによるDC反
応マグネトロンスパッタリング法により800大成膜し
たものである。6はNdDy7aOoTiの記録層であ
り、2の第1保護層を逆スパツタした後、真空系を10
″″”rorr以下にしてアルゴンガスを導入して1.
4 m T Or rとして800Wのパワーを印加す
ることによるDoマグネトロンスパッタリング法により
57o1成膜したものである。4は81AtHの第2保
誰層であり、2と同様に真空系を10−6以下己して硅
素70重鑓パーセントでアルミニウム30重量パーセン
トの合金ターゲットを用いて窒素15パーセント、アル
ゴン85パーセントの混合ガスを導入して1、5 m 
T Or rにしてIKWのパワーを印加することによ
るDC反応マグネトロンスパッタリング法により1so
oi成膜したものである。5は本発明になる接着層であ
り、ヘキサンジオールジアクリレート65部、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート30部の混合物にチバ
ガイギー社製イルガキュ゛ア907を5部添加したもの
を透光性支持体の記録層が成膜されている側に塗布した
後真空系に置いて貼り合わせて、高圧水銀笛により紫外
線を照射して硬化させたものである。6は1と同様な方
法により作成したポリカーボネートの透光性支持体であ
る6 7は2と同様な方法により成膜した81AANの
第1保論層である。8は3と同様な方法により成膜した
NdDy1FaCOTiの記録層である。9は4と同様
な方法により成膜したS、1AtHの第2保護層である
。10は透光性支持体の内周側にある接着層が直接つく
部分である。11は透光性支持体の外周側にある接着層
カー直接つく部分である。12は10と向9合つた透光
性支持体の内周側にある接着層が直接つく部分である。
、13は11と向い合った透光性支持体の外周側にある
接着層が直接つく部分である。
14はディスクのセンターホールである。
第2図の15は第1図の1と同様に、1.2 m厚さの
ディスク状の透光性支持体であり、ニッケルのスタンパ
を用いる射出成形により1.6μピツチでスパイラル状
のトラッキング用の溝が形成されたものである。16は
15の透光性支持体上に直接成膜された5iAtNの第
1保護層であり、第1図の2と同様に、初期真空度10
−’Torr以下で硅素70fiiパーセントでアルミ
ニウム30型録パーセントの合金ターゲットを用−て、
窒素20パーセント、アルゴン80パー七ントの混合ガ
スを導入して1.5 m T Or rとして11mW
のパワーを印加することによるR?反応マグネトロンス
パッタリング法により850X成膜したものである。1
7はGdTbFe0OTiの記録層であり、1s6の第
1保護層を逆スパツタした後、真空系を10−’Tor
r以下にしてアルゴンガスを導入して1.5 m T 
Or rとしてGd’l’l)’I’iの合金ターゲッ
トに5 Q OW 、 ’T! e Ooの合金ターゲ
ットにIKWのパワーを印加することによるDC同時ス
パッタリング法により400X成膜したものである。1
8はSiA/、Nの第2保護層であり、16の第1保護
層と同様に真空系を10−’ TOrr以下にして硅素
70重量パーセントでアルミニウム30重量パーセント
の合金ターゲットを用いて窒素18パーセント、アルゴ
ン85パーセントの混合ガスを導入して1.5 m T
 o r rにしてIKWのパワーを印加することによ
るDO反応マグネトロンスパッタリング法により155
01成膜したものである。19は本発明になる接着層で
あり、ネオペンチルグリコールジアクリレート60部。
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート20部、ジ
エチレングリコールジアクリレート15部の混合物にベ
ンジルジメチルケタール3部とベンジル2部を添加した
ものを透光性支持体の記録層が成膜されている側に真空
系内で塗布した後貼り合わせて高圧水銀笛により紫外線
を照射して硬化させたものである。20は15と同様な
方法により作成したポリカーボネートの゛透光性支持体
である。21は16と同様な方法により成膜した5IA
tNの第1保護層である。22は17と同様な方法によ
り成膜したGd’L’blFeOoTiの記録層である
。23は18と同様な方法により成膜した5iAtNの
第2保護層である。24は透光性支持体の内周側にある
接着層が直接つく部分である。25は透光性支持体の外
周側にある接着層が直接つく部分である。26は24と
向い合った透光性支持体の内周側にある接着層が直接つ
く部分である。27は25と向い合った透光性支持体の
外周側にある接着層が直接つく部分である。28はディ
スクのセンターホールである。
第3図の29は1.’ 2 m厚さのディスク状のlリ
カーボネートの透光性支持体であり、ニッケルのスタン
パを用いた射出成形によりトラッキング用のビットが形
成されたものである。30は+31Atoo−の第1保
護層であり、初期真空度10″″6Torr以下にして
、硅素60重量パーセントでアルミニラ440重置パー
セントの合金ターゲラトラ用いテ、窒素20パーセント
、fj1素1パー−tryト、アルゴン79パーセント
の混合ガスを導入して1.4 rILT Or rにし
てIKWのパワーを印加することによるRIF反応マグ
ネトロンスパッタリング法により850又成膜したもの
である。31はGdTb1Feの記録層であり、3oの
第1保護層を逆スパツタした後、真空系を10−”I’
Orr以下にしてアルゴンガスな導入して1.5 m 
T o r rとして、99.99パ一セント純度の鉄
のターゲットの上に5II11角のガドリニウムとテル
ビウムのペレットを置いた状態でIKWのパワーを印加
することにより300裏成膜したものである。52は1
91AtNOの第2保護層であり、3oの第1保護層と
同様に、硅素60重舷パーセントのアルミニウム40重
量パーセントの合金ターゲットを用いて、窒素18パー
セント、酸素2パーセント。
アルゴン80パーセントの混合ガスを導入して15 m
 T Or rにして800Wのパワーを印加すること
によるR?反応マグネトロンスパッタリング法により1
oooi成膜したものである。33はアルミニウムの反
射膜であり、真空系を10−6’rorr以下にして、
アルゴンガスを導入して2s’rorrとして、アルミ
ニウムのターゲットを用いたDoマグネトロンスパッタ
リング法により6001成膜したものである。34は本
1発明になる接着層であり、1,4−ブタンジオールジ
アクリレート60部、トリエチレングリコールジアクリ
レー) 20 [1ジペンタエリスリトールへキサアク
リレート15部、フッ素変成アクリレート1部の混合物
に、ベンゾインイソブチルエーテル2部とベンジルジメ
チルケタール2部を添加したものを、貼り合わせる片方
の透光性支持体の記録層が成膜されている側に塗布した
後、真空系に置いて貼り合わせて、高圧水銀燈により紫
外線を照射して硬化させたものである。35は29と同
様な方法により作成したぎりカーボネートの透光性支持
体である。36は30と同様な方法により成膜した5i
AANOの第1保護層である。37は31と同様な方法
により成膜したG(LTb76の記録層である。38は
32と同様な方法により成膜した!91AtNoの第2
保護層である。39は53と同様な方法により成膜した
アルミニウムの反射膜である。40は透光性支持体の内
周側にある接着層が直接つく部分である。41は透光性
支持体の外局側にある接着層が直接つく部分である。
40は38と向い合った透光性支持体の内周側にある接
着層が直接つく部分である。43は41と向い合った透
光性支持体の外周側にある接着層がt接つく部分である
。44はディスクのセンターホールである。
第4図の45は1.2順厚さのディスク状のエポキシの
透光性支持体であり、酸硬化型のエポキシ樹脂を注型成
形により作成したものである。46は2P層であり、本
発明の特許請求の筒口で述べた中間層ということになる
が、ニッケルのスタンパラ用v−て1.65μピツチの
スパイラル状の溝を形成したものである。47はSiH
の第1保護層であり、46の2P層を逆スパツタした後
、真空系を10″″・TOrr以下にして、アルゴンガ
スを導入して2s’rorrとして、窒化硅素の焼結体
ターゲットを用いて、soowのパワーを印加すること
によるR7マグネトロンスパッタリング法により1oo
oi成膜したものである。4BはTb1FeOoの記録
層であり、47の第1保護層を逆スパツタした後、真空
系を10−’ T o r r以下にしてアルゴンガス
を導入して1.6m T o r rとして、99.9
5パ一セント純度鉄−コバルトのターゲット上に5 m
 X 5 m X 1 mのテルビウムのペレットを置
いた状態で500Wのパワーを印加することによるDo
マグネトロンスパッタリング法によりaoo′j−成膜
したものである。49はSiHの第2保峨層であり47
の@1保護層と同様に、真空系を10″″’ Torr
以下にして、アルゴンガスな導入して2mTOrrとし
て、窒化硅素の焼結体ターゲットを用いて600Wのパ
ワーを印加することによるR?マグネトロンスパッタリ
ング法により1sooX成膜したものである。
50は本発明になる接着層であり、1,6へ午サンジオ
ールジアクリレート30部、トリメチロールプロパント
リアクリレート30部2日本化薬製0AYARAD  
R12Bを20部、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート15部の混合物にチバガイギー社製イルガキュア9
07を5部添U口したものを透光性支持体の記録層が成
膜されている側に塗布した後、真空系に置いて貼り合わ
せて高圧水銀燈により紫外線を照射して硬化させたもの
である。51は45と同様な方法により作成したエポキ
シの透光性支持体である。52は46と同様な方法によ
り作成した2P層である。53は47と同様な方法によ
り成膜した31Nの第1保護層である。54は48と同
様な方法により成膜したTb1FeOOの記録層である
。55は49と同様な方法により成膜したSiHの第2
保論層である。56は透光性支持体の内周側にある接着
層が直接つく部分である。57は透光性支持体の外周側
にある接着層が直接つく部分である。58は56と向い
合った透光性支持体の内周側にある接着層が直接つく部
分である。59は57と向い合った透光性支持体の内周
側にある接着層が直接つく部分である。60はディスク
のセンターホールである。
第°5図の61は1.2団厚さのディスク状のポリメチ
ルメタクリレートの透光性支持体であり、ニッケルのス
タンパを用いた射出成形により1.6μピツチでスパイ
ラル状のトラッキング用の溝カ形成されたものである。
62はAtN0の第1保護層であり、61のボザメチル
メタクリV−トの透光性支持体を逆スパツタした後、真
空系を10−・’rorr以下にして、アルゴンガスを
導入して3m’I’orrとして、AtN0の焼結体タ
ーゲットを用いるR7マグネトロンスパッタリング法に
より1500X成膜したものである。63はTe−Te
Oxの記録層であり、62のAtN0の第1保護層を成
膜した後真空系を10−″Torr以下にして、アルゴ
ン90パーセントで酸素10パーセントの混合ガスを4
人して5mTorrとして、Teのターゲットを用いる
R7反応マグネトロンスパッタリング法により1ooo
X成膜したものである。64はA/、NOの@2保融層
であり、62と同様に真空系を10″″’TO,rr以
下にして、アルゴンガスを導入して52iTOrrとし
て、A/、Noの焼結体ターゲットを用いるR?マグネ
トロンスパッタリング法により1500X成膜したもの
である。65は本発明になる接着層であり、テトラヒド
ロフリルアクリレート20部、1゜6−ヘキサンジオー
ルジアクリレートs ay、7″トラメチロ一ルメタン
テトラアクリレート20部。
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート25部の混
合物にチバガイギー社製イルガキエア907を5部添D
Oしたものを、貼り合わせる片方の透光性支持体の記録
層が成膜されている側に塗布した後、真空系に置≠て貼
り合わせて、高圧水銀笛により紫外線を照射して硬化さ
せたものである。
66は61と同様な方法により作成したポリメチルメタ
クリレートの透光性支持体である。67は62と同様な
方法により成膜したA/LNOの第1保護層である。6
8は65と同様な方法により成膜したT e −T e
 Oxの記録層である。69は64と同様な方法により
成膜した第2保護層である。70は透光性支持体の内局
側にある接着層が直接つく部分である。71は透光性支
持体の外周側にある接着層が直接つく部分である。72
は70と向い合った透光性支持体の内周側にある接着層
が直接つく部分である。73は71と向−合りた透光性
支持体の外周側にある接着層が直接つく部分である。7
4はディスクのセンターホールである。
第6図の75は1.2 m厚さのディスク状のポリカー
ボネートの透光性支持体であり、ニッケルのスタンパを
用いた射出成形により1.6μピツチでスパイラル状の
トラッキング用の溝が形成されたものである。76はS
10.の第1保一層であり、f910.のペレットを用
−た真空蒸着法により600裏成膜されたものである。
77はシアニン系の有機色素の記録層であり、76の8
10.の第1保護層上にスピンコードにより成膜された
ものである。このとき記録層は、スピンコードであるた
め84及び86の透光性支持体の内周側にある接着層が
直接つく部分や85及び87の透光性支持体の外周側に
ある接着層が直接つく部分にまで広がるが、MWには全
く問題はない。78はS10.の第2保護層であり、7
6の第1保護層と同様に真空蒸着法により成膜したもの
である。
77は本発明になる接NNであり、1,6−ヘキサンジ
オールジアクリレート95whにベンジルジメチルケタ
ール5部添加したち・のを、貼り合わせる片方の透光性
支持体の記録層が成膜されている側に塗布した後、真空
系に置いて貼り合わせて、中圧水銀笛により紫外線を照
射して硬化させたものである。80は75と同様な方法
により作成したポリカーボネートの透光性支持体である
。81は76と同様な方法により成膜したEliO,の
第1保磯層である。82は77と同様な方法により成膜
したシアニン系の有機色素の記録層である。
83は78と同様な方法により成膜した810tの第2
保護層である。88はディスクのセンターホールである
第7図に示す光記録媒体は第1図に示す光記録媒体と全
く同一の条件で作成したものであるが、91及び96O
N(ID7IFθ0oTi、の記録層の側端面が保護層
で覆われた形にな、っている。89及び94がポリカー
ボネートの透光性支持体。
90及び95が5iAtNの落1保護層、92及び97
がSiA/、Nの第2保護層、93が本発明になる接着
層、98及び100が透光性支持体の内周側にある接着
層が直接つく部分であり、99及び101が透光性支持
体の外周側にある接層層が直接つく部分であり、102
がディスクのセンターホールである。
第8図の103は1.2m厚さのポリカーボネートの透
光性支持体であり、ニッケルのスタンパを用いた射出成
形により1.7μピツチでスパイラル状のトラッキング
用の溝がある。104は5iAtNの第1保81119
1であり、103の透光性支持体を逆スパツタした後、
真空系を10″″’ TOrr以下にして、硅素70重
社パーセントでアルミニウム30重量パーセントの合金
ターゲットを用いて9素19パーセント、アルゴン81
パーセントの混合ガスを導入して2mTOrrとして、
IKWのパワーを印加することによるDC反応マグネト
ロンスパッタリング法により1000A成膜したもので
ある。105はNaDy?eOoTiの記録層であり、
104のSiA/、Nの第1保護層を逆スパツタした後
、真空系を10”’TOrr以下にしてアルゴンガスを
導入することにより2m’l’orrとしてNdDy?
eOoTiの合金ターゲットを用いて500Wのパワー
を印〃uすることによるDoマグネトロンスパッタリン
グ法により400又成膜したものである。106は5i
AtNの第2保護層であり、真空系を10””Torr
以下にして、104と同様に硅素70重社パーセントで
アルミニウム50重虚パーセントの合金ターゲットを用
いて窒素19パーセント、アルゴン81パーセントの混
合ガスを導入して2 m TorrとしてIKWのパワ
ーを印加することによるDC反応マグネトロンスパッタ
リング法により1000X成膜したものである。107
は不発明になる接着層であり、1,6−へ午サンジオー
ルシアクリV −) 50部、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート25部、ジペンタエリスリトールへ午す
アクリレート20部、の混合物にチバガイギー社製イル
ガキエア907を5部添加したものを、108の5iA
tNoの上に塗布した後、真空系に置いて置いて貼り合
わせて、高圧水銀笛により紫外線を照射して硬化させた
ものである。108の5iAtNo層は109のlリカ
ーボネートの透光性支持体上に、硅素80重社パーセン
トでアルミニウム20重量パー七ンートの合金ターゲッ
トを用いて、窒素15パーセント、酸素5パーセント、
アルゴン80パーセントの混合ガスを用いるR7反応マ
グネトロンスパッタ・リング法により5001成膜した
ものである。109のポリカーボネートの透光性支持体
は103と同様に1.2園厚さで射出成形により形成し
たものであるが、103のようにトラッキング用の溝は
ない。110はディスクの内周側にある接層層が直接つ
く部分である。111はディスクの外周側にある接着層
が直接つく部分である。112は109の内#fil!
Iにある接着層が直接つく部分である。113は109
の外周側にある接着層が直接つく部分である。
114はディスクのセンターホールである。。
第9図に示す構成の光記録媒体は第8図に示す構成の光
記録媒体と同じ方法により作成したものであるが、貼り
合わせる側の透光性支持体すなわちトラッキング用の溝
がない側のSiA/、No層がなり構成になっている。
115はポリカーボネートの透光性支持体、116は5
iAtNの第1保護層、117はNdDy?eOOTi
の記録層、118は5iAtNの第2保護層、119は
接着層、120はlリカーボネートの透光性支持体、1
21は内周側にある接着層が直接つく部分、122は外
周側にある接着層が直接つく部分、123はディスクの
センターホールである。
次に、本発明になる接着層について説明する。
表1は第1図(α)に示す構成の光記録媒体において接
着層を種々変化させたものである。
表1において耐候性試験条件は60℃90%RH下で1
000時間である。表1の結果から本発明の接着層はピ
ットエラーレートの経時変化が極めめで少ない長期信頼
性のある光記録媒体を提供することがわかる。また、本
発明において、第8図及び第9図に示す構成の光記録媒
体以外は接着層の硬化は少なくとも透光性支持体、第1
保護層、記録層及び第2保護層を通ってきた光により硬
化するが、本発明である第1図(α)から第7図に示す
構成の光記録媒体で全く問題はなかった。
尚、本発明はこれらの実施例に限定されるものではなく
、本発明の主旨を逸脱しない限り種々の変更は可能であ
る。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば以下の効果を有する。
(リ ラジカル重合系の光重合接層層とすることで、エ
ポキシ系の接着剤、イオン重合系の接着剤あるいは嫌気
硬化性の接着剤で用いられる記録層を酸化させやすい酸
触媒イオン重合系触媒あるいは嫌気硬化性触媒をほとん
ど含まないため、記録層の経時による酸化を完全に防ぐ
ことができる。
(2)  接層層に気泡が全く入らないようにすること
が可能なため、第1保護層、記録層、第2保護層の次に
接着層がくる簡単な構成が可能となる。
(3)、ホットメルト型の接着剤のように接着層の硬化
のとき透光性支持体に圧力をかけたり、エボ牛シの接着
剤のように透光性支持体に熱と圧力をかけたりしなくて
よいので、透光性支持体を熱で変形させたり、圧力で光
学的歪を与えたりすることがない。
(4)  比較的低粘度の接着剤がつくれるため作業性
に優れる。また、嫌気硬化性が弱いので機械を用いた塗
布が可能である。さらに、接着層の硬化が秒単位ですむ
ため証産性がある。
(5)  密着貼り合わせ構造であるため機械的強度が
強く、エアサンドイッチ構造のように温湿度の変化に伴
なう透光性支持体の変形による保護層や記録層にクラッ
クを生じるということがない。
【図面の簡単な説明】
第1図(α)(b)〜第9図は本発明の光記録°媒体の
基本構成図である。 1・・・・・・・・・ボ・リカーボネートの透光性支持
体2・・・・・・・・・S i AtNの第1保護層3
・・・・・・・・・NdDy1Fe(30Tiの記録層
4・・・・・・・・・5iAtNの第2保顧層5・・・
・・・・・・接着層 6・・・・・・・・・ポリカーボネートの透光性支持体
7・・・・・・・・・SiA/、Nの第1保護層8・・
・・・・・・・IJdDyFeCOTiの記録層9・・
・・・・・・・S 1AtNの第2保護層10・・・・
・・内周側の接着層が直接つく部分11・・・・・・外
聞側の接着層が直接つく部分12・・・・・・内周側の
接着層が直接つく部分13・・・・・・外局側の接着層
が直接つく部分14・・・・・・ディスクのセンターホ
ール15・・・・・・ポリカーボネートの透光性支持体
16・・・・・・S i AtNの1g1保護層17−
 ・・−G d T b 7 e Oo ’I’ iの
記録層18・・・・・・5iAtNの8g2保護層19
・・・・・・接着層 20・・・・・・ポリカーボネートの透光性支持体21
・・・・・・5iAANの第1保護層22 = −G 
d T b F e Oo T iの記録層23・・・
・・・S i A/、Nの第2保護層24・・・・・・
内周側の接着層が直接つく部分25・・・・・・外周側
の接着層が直接つく部分26・・・・・・内周側の接着
層が直接つく部分27・・・・・・外周側の接着層が直
接つく部分28°°°°°°デイスクのセンターホール
29・・・・・・ポリカーボネートの透光性支持体30
・・・−・SiA/、Noの第1保畿層31・・・・・
・GdTb7eの記録層32・・・・・・SiA/、N
oの第2保護層53・・・・・・アルミニウムの反射膜
34・・・・・・接着層 35・・・・・・ポリカーボネートの透光性支持体36
・・・・・・5iAANOの第1保護層57・・・・・
−GdTb7eの記録層38・・・・・・SiA/、N
oの第2保護層39・・・・・・アルミニウムの反射膜
40・・・・・・内周側の接着層が直接つく部分41・
・・・・・外局側の接層層が直接つく部分42・・・・
・・内周側の接着層が直接つく部分45・・・・・・外
周側の接着層が直接つく部分44・・・・・・ディスク
のセンターホール45・・・・・・工lキシの透光性支
持体46・・・・・・2PM 47・・・・・・SiNの第1保護層 48・・・・・・Tb1FeOoの記録層49・・・・
・・SiNの第2保護層 50・・・・・・接層層 51・・・・・・エポキシの透光性支持体52・・・・
・・2P層 53・・・・・・SiNの第1保護層 54・・・・・・Tb7eOOの記録層55・・・・・
・SiNの第2保論層 56・・・・・・内周側の接着層が直接つく部分57・
・・・・・外周側の接着層が直接つく部分5日・・・・
・・内周側の接着層が直接つく部分59・・・・・・外
周側の接着層が直接つく部分60・・・・・・ディスク
のセンターホール61・・・・・・ポリメチルメタクリ
レートの透光性支持体 62・・・・・・A/、Noの第1保護層65・・・・
・・T e −T e Oxの記録層64・・・・・・
AtN0の第2保護層65・・・・・・接着層 66・・・・・・ポリメチルメタクリレートの透光性支
持体 67・・・・・・A/、NOの第1保護層68・・・・
・・T e −TeOxの記録層69・・・・・・kt
Hoの第2保論層70・・・・・・内周側の接着層が直
接つく部分71・・・・・・外周側の接着31が直接つ
く部分72・・・・・・内周側の接着層が直接つく部分
73・・・・・・外周側の接着層が直接つく部分74・
・・・・・ディスクのセンターホール75・・・・・・
lリカーボネートの透光性支持体76・・・・・・S1
0.の第1保護層77・・・・・・シアニン系の有機色
素の記録層7B・・・・・・SiO□の第2保護層79
・・・・・・接着層 80・・・・・・lリカーボネートの透光性支持体81
・・・・・・S10.の第1保護層82・・・・・・シ
アニン系の有機色素の記録層83・・・・・・S10.
の第2保護層84・・・・・・内周側の接着層が直接つ
く部分85・・・・・・外周側の接着層が直接つく部分
86・・・・・・内周側の接着層が直接つく部分87・
・・・・・外周側の接着層が直接つく部分88・・・・
・・ディスクのセンターホール89・・・・・・ポリカ
ーボネートの透光性支持体90・・・・・・5iAtN
の第1保護層91・・・・・・NdDyFe0Oで1の
記録層92・・・・・・5iALNの第2保護層93・
・・・・・接着層 94・・・・・・ぎリカーボネートの透光性支持体95
・・・・・・5iAtNの第1保護層96 ・” −N
 6 D y ? e Oo ’]” iの記録層97
・・・・・・SiALMの第2保護層98・・・・・・
内局側の接着層が直接つく部分99・・・・・・外周側
の接着層が直接つく部分100・・・内周側の接着層が
直接つく部分101・・・外周側の接着層が直接つく部
分102・・・ディスクのセンターホール部分105・
・・ポリカーボネートの透光性支持体104・・・5i
AtNの第1保護層 105−NdDyFeC0Tiの記録層106・・・5
iAtNの第2保護層 107・・・接着層 108・・・SiA/、No層 109・・・lリカーボネートの透光性支持体110・
・・内周側の接着層が直接つく部分111・・・外周側
の接着層が直接つく部分112・・・内周側の接着層が
直接つく部分113・・・外周側の接着層が直接つく部
分114・・・ディスクのセンターホール115・・・
ポリカーボネートの透光性支持体116・・・5iAt
Nの第1保護層 117−NdDyFe0O’riの記録層118・・・
SiA/、Nの第2保護層119・・・接着層 120・・・ポリカーボネートの透光性支持体121・
・・内局側の接着層が直接つく部分122・・・外周側
の接着層が直接つく部分123・・・ディスクのセンタ
ーホール以  上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士最上軸(他1名: 11θ7撞1層 第1岨

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光を用いて記録、再生または消去を行なう光記録
    媒体の密着貼り合わせ構造において、接着層の主成分が
    アクリレート基を有する単官能アクリレート、多官能ア
    クリレート、変成アクリレートあるいはアクリレート基
    を有するオリゴマーから選ばれた1種または2種以上の
    混合物であり、前記接着層が少なくとも透光性支持体と
    記録層を通過した光により硬化することを特徴とする光
    記録媒体。
  2. (2)前記光記録媒体の前記接着層に少なくとも290
    nmから450nmの波長の光に対して有効励起波長域
    を有するラジカル重合系の光重合開始剤を含むことを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の光記録媒体。
  3. (3)前記光記録媒体の前記接着層に前記光重合開始剤
    の5分の1モルパーセント以上の嫌気硬化性触媒を含ま
    ないことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光記
    録媒体。
  4. (4)前記光記録媒体において、セラミックスからなる
    保護層により記録層を挾み込んだ構成になつていること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光記録媒体。
  5. (5)前記光記録媒体において、記録層以外の金属薄膜
    を有することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    光記録媒体。
  6. (6)前記光記録媒体において、前記透光性支持体上に
    射出成形または2P法によりトラッキング用の溝又はピ
    ットを配したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の光記録媒体。
JP62002533A 1987-01-08 1987-01-08 光記録媒体 Pending JPS63171444A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1990008382A1 (en) * 1989-01-11 1990-07-26 Seiko Epson Corporation Optical disk and method of manufacturing the same
KR19990071258A (ko) * 1998-02-28 1999-09-15 윤종용 고밀도 기록 가능형 광디스크

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1990008382A1 (en) * 1989-01-11 1990-07-26 Seiko Epson Corporation Optical disk and method of manufacturing the same
US5197060A (en) * 1989-01-11 1993-03-23 Seiko Epson Corporation Dual substrate optical recording medium
KR19990071258A (ko) * 1998-02-28 1999-09-15 윤종용 고밀도 기록 가능형 광디스크

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