JPS63159428A - 絶縁樹脂ペ−スト - Google Patents

絶縁樹脂ペ−スト

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Publication number
JPS63159428A
JPS63159428A JP30523386A JP30523386A JPS63159428A JP S63159428 A JPS63159428 A JP S63159428A JP 30523386 A JP30523386 A JP 30523386A JP 30523386 A JP30523386 A JP 30523386A JP S63159428 A JPS63159428 A JP S63159428A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cured
weight
insulating resin
pack type
resin paste
Prior art date
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Pending
Application number
JP30523386A
Other languages
English (en)
Inventor
Yukihiro Okabe
岡部 幸博
Akinobu Kusuhara
楠原 明信
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP30523386A priority Critical patent/JPS63159428A/ja
Publication of JPS63159428A publication Critical patent/JPS63159428A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分腎〕 本発明は半導体素子をリードフレームあるいはを機基板
等ヘダイボンディングする場合に用いられる絶縁樹脂ペ
ーストに関するものである。更に詳しくは120℃以下
の低温で硬化でき、かつ−原型の半導体素子グイボンデ
ィング用、絶縁樹脂ペーストに関するものである。
〔従  来  技  術〕
従来グイボンディング用の絶縁ペーストとしては150
〜400℃で硬化させるものが主流であり、これは−原
型で使い易いものの、高温で硬化のため、耐熱性のない
材料、例えば有機基板などでは通用できなかった。この
様な用途には通常低温で硬化するタイプは保存性が悪い
ため、主剤成分との欠点があった。
〔発明の目的〕
本発明は従来不可能であったー液型で90〜120℃の
硬化ができる絶縁樹脂ペーストを得んとして研究した結
果、グアナミン化合物を用いることにより、120℃以
下の硬化ができるにもかかわらず可使時間が非常に長(
なることを見い出し、鋭意検討を進めた結果本発明を達
成するに至ったものである。
〔発明の構成〕
■平均粒径が1〜20μms最大粒径が50μm以下で
あるような無定形シリカ粉末を40〜60重量部、(へ
)一般式 で表わされるグアナミン化合物を2〜30重量部、(c
)重量平均分子量が 200〜500で、含有する塩で
ある。
本発明に用いるグアナミン化合物は常温でのエポキシ樹
脂に飼する溶解性は悪く、エポキシ#Ml旨との混合物
は懸濁状態になる。一般にこの襟な懸濁状態ではエポキ
シ樹脂との分子間衝突カベ妨番デられ、はとんど反応し
ない、この典型的な例カベ一般に潜在性硬化剤といわれ
ているジシアンジアミドである。そしてジシアンジアミ
ドは150℃以上でないとエポキシ樹脂とは反応しなし
1が、本発明に用いる環状イミノ尿素化合物は80℃以
上になるとエポキシ樹脂への溶解性が急に増すため、反
応が起こり硬化する。従って可使時間が非常に長く、1
20℃以下での硬化が可能となるわけである。
本発明に用いるグアナミン化合物の具体例としては、ベ
ンゾグアナミン、2.4−ジアミノ−6−〔2−ウンデ
シルイミダゾリル−(l)〕−〕エチルー8−トリアジ
ン2.4−ジアミノ−6−〔2−メチルイミダゾリル−
(1)〕 −〕エチルー3−トリアジのグアナミン化合
物などである。グアナミン化合物の配合量としては2〜
30重量部であることが望ましい、配合量が2重量部以
下であると硬化が不十分となり好ましくない、また30
重型刃以上であると硬化物の性能が著しく低下するので
好ましくない、またグアナミン化合物とジシアンジアミ
ドなどのアミン系硬化剤やフェノールノボラックなどの
ポリフェノール類を適宜併用しても良い。
本発明に用いる無定形シリカ粉末粒子は平均粒径が1〜
20μmであるが、1μm以下だと粘度が非常に高くな
り好ましくなく、20μm以上だと塗布又は硬化時に樹
脂分が流れでるブリーディングが発生する為好ましくな
いためである。また、最大粒径が50μm以下であるが
、これは粒径がこれより大きいとディスペンサーでペー
ストを塗布する時、細いニードル(口径0.2鰭以下)
ではニードルの出口付近にシリカ粉末が徐々に滞積し、
やがては出口をふさいでしまい、長時間連続使用できな
くなるためである。
本発明におけるシリカ粉末の混合割合としては、組成物
に対して40〜60重量部であることが望ましい、これ
より少ないと沈降分離し易くなること、塗布又は硬化時
に樹脂分が流れでるプリーディングが発生することで望
ましくな(、それ以上用いても粘度が著しく増大し、塗
布時に突起が発生すること、接着力が低下することで望
ましくない。
本発明に用いるエポキシ樹脂としては、重量平均分子量
が200〜500のものが望ましい0重量平均分子量が
200以下であると硬化時に揮発し易く好ましくな(、
また500以上であると、粘度が高くなり好ましくない
また、加水分解性塩素含有量が500ppa+以下であ
ることが必要で、これ以上だと水分によって抽出された
塩素が半導体素子上のアルミ配線を腐食してしまうから
である。
本発明に用いるエポキシ樹脂としては上記の条件を満た
しているものであればいずれも使用可能であるが、特に
液状の低分子量のポリフェノール類のポリグリシシール
化物が反応性、作業性、物性の面より好ましい。
また、以下のエポキシ樹脂も使用可能である。
フロログルシノールトリグリシジールエーテル、トリヒ
ドロオキシビフェニルのトリグリシシールエーテル、テ
トラヒドロシビフェニルのテトラグリシシールエーテル
、テトラヒドロキシビスフェノールFのテトラグリシシ
ールエーテル、テトラヒドロキシベンゾフェノンのテト
ラグリシシールエーテル、エポキシ化ノボラック、エポ
キシ化ポリビニルフェノール、トリグリシジールイソシ
アヌレート、トリグリシシールシアヌレート、トリグリ
シシールS−トリアジン、トリグリシシールアミノフェ
ノール、テトラグリシシールジアミノジフェニルメタン
、テトラグリシシールメタフェニレンジアミン、テトラ
グ′リシジールビロメリット酸、トリグリシシールトリ
メリット酸などの3またはそれ以上の多官能性のエポキ
シ樹脂及びこれに配合する2官能性のエポキシ樹脂、例
えばジグリシジルトルイン、ジグリシジールビスフェノ
ールA、ジグリシジールビスフェノールF1ジグリシジ
ールビスフェノールS1ジヒドロキシ)ンゾフェノンの
ジグリシジールエーテル、ジグ゛)Jシジールオキシ安
息香酸、ジグリシジールフタル酸(o、m、p) 、ジ
グリシジールヒダントイン、ジグリジルアニリン、ジグ
リシジルトルイジンなどであり、またはこれら゛の縮合
タイプの樹脂である。
また特殊なタイプとしてアリルポリフェノール例えば1
〜3核体が主体のものの過酸によるエポキシ化物のよう
にグリシシールエーテル基と核置換のグリシシール基と
を有しているものも上記の条件を充しているならば同様
に用いることが出来る。
また一般に反応性希釈剤と呼ばれる低粘度のエポキシ樹
脂を併用しても良い。例えばビニルシクロヘキセンジオ
キサイドの脂環式エポキシ化合物、ジグリシジルフェニ
ルグリシジルエーテルやジビニルベンゼンジエポキシド
などのポリオレフィンエポキシド類、ジグリジルアニリ
ンやジグリシジルトルイジンなどのグリシジルアミン類
、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエー
テである。
更に本発明においては必要により硬化促進側、難燃剤、
消泡剤等を添加して用いても良い。
また用途は半導体素子の接着に限らず、各種電子部品の
素子及びキャンプの接着、あるいは液晶用やCCDのガ
ラスシール剤などにも用いることができる。
〔発明の効果〕
本発明の絶縁樹脂ペーストは従来品に比べ次の様な特徴
を有している。
(1) 80℃〜120℃で硬化が可能であるため・そ
れ程耐熱性のない基板もしくは電子部品にも使用できる
(2)−111タイプであるため、二液タイプの様に使
用直前の混合などの手間が省け、更に可使時間が長いた
め作業性が非常に良い。
以上の様に、本発明の絶縁樹脂ペーストは最近多様化し
つつあるエレクトロニクス業界の要求に非常に適したも
のである。
〔実施例1〕 フェノールノボラックとエピクロルヒドリンから誘導さ
れるエポキシ樹脂(当量180重量平均分子量380)
にフェニルグリシジルエーテルを重量比で75 : 2
5で混合したちの44重量部に対しベンゾグアナミンの
粉末6重量部を配合し、三本ロールで均一に混合分散さ
せる。これに平均粒径5μm、最大径粒20μmのシリ
カ粉末(以下シリカ粉末Aとする)を50重置部を加え
、三本ロールで均一に混練することにより絶縁ペースト
を得た。結果を第1表に示す。
〔実施例2〕 グアナミン化合物として2.4−ジアミノ−6−〔2−
エチル−4−メチルイミダゾリル−fl))−エチル−
3〜トリアジン(以後イミダゾールトリアジンとする)
を持いる以外は実施例1と全く同じ方法で第1表に示す
組成の絶縁樹脂ペーストを得た。結果を第1表に示す。
〔実施例3〕 実施例2のイミダゾールトリアジンにジシアンジアミド
を併用した以外は実施例1と全く同じ方法で第1表に示
す組成の絶縁樹脂ペーストを得た。
結果を第1表に示す。
〔実施例4〕 実施例3のイミダゾールトリアジン及びジシアンジアミ
ドに平均分子1600のフェノールノボラックを併用し
た以外は実施例1と全く同じ方法で第1表に示す組成の
絶縁樹脂ペーストを得た。結果を第1表に示す。
〔比較例1〕 グアナミン化合物のかわりにジシアンジアミドのみを使
用した以外は実施例1と全く同じ方法で第1表に示す組
成の絶縁樹脂ペーストを得た。結果は第1表に示すが、
硬化条件120℃60分では未硬化である。
〔比較例2〕 グアナミン化合物のかわりにアミドポリアミン(活性水
素当量!30)を使用した以外は実施例1と全く同じ方
法で第1表に示す組成の絶縁樹脂ペーストを得た。12
0℃60分で硬化するが、可使時間が非常に短かい。
(比較例3〕 シリカ粉末Aの代わりに平均粒径が30 u m s最
大粒径が150μmのシリカ粉末Bを用いた以外は実施
例1と全く同じ方法で第1表に示す組成の絶縁樹脂ペー
ストを得た。ディスペンス時にニードル詰まりを生じた

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (a)平均粒径が1〜20μm、最大粒径が50μm以
    下であるような無定形シリカ粉末を40〜60重量部、
    (b)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(R:脂肪族、芳香
    族又はイミダゾール基)で表わされるグアナミン化合物
    を2〜30重量部、(c)重量平均分子量が200〜5
    00で、含有する塩素量が500ppm以下であるエポ
    キシ樹脂を20〜50重量部よりなることを特徴とする
    絶縁樹脂ペースト。
JP30523386A 1986-12-23 1986-12-23 絶縁樹脂ペ−スト Pending JPS63159428A (ja)

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