JPS63106919A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体及びその製造方法

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JPS63106919A
JPS63106919A JP62131816A JP13181687A JPS63106919A JP S63106919 A JPS63106919 A JP S63106919A JP 62131816 A JP62131816 A JP 62131816A JP 13181687 A JP13181687 A JP 13181687A JP S63106919 A JPS63106919 A JP S63106919A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) この発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に関する
ものでおり、とりわけ最表面に改良された潤滑層を有す
る磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
(従来の技術) 近年、記録密度の高密度化の要請に伴ない、磁気記録媒
体は塗布型のものから薄膜型のものに推移しつつある。
薄膜型磁気記録媒体は、蒸着法、スパッタリング法や湿
式めっき法等により非磁性基板上に直接、強磁性層が形
成される。このため、薄膜型磁気記録媒体は、磁性体粒
子をバインダーで固めた塗布型のものに比べて極めて高
い記録密度が達成される。強磁性層用の材料には、スパ
ッタリング法の場合はCo−N i、Co−Cr、Co
、Go−Re、Co−N i−W、Go−Pt。
Co−N 1−Pt、Co−3m等が、まためっき法の
場合はQo−P、 Co−N i −P、 Co−Ni
 −Mn−P、 Co−Re−N i −P等が用いら
れる。また、基板と磁性層との間に表面硬化層(Ni−
Pめつき層等)や磁性層の特性を改善する為の下地m(
例えばQO−Cr垂直磁化層の場合にはTi、(3e等
、Co−Ni面内磁化層にはCr等)を形成したり、磁
性層上には磁気ヘッドの接触に対する保護及び潤滑のた
めに保護・潤滑11!(Si02.C等)を形成する。
とくにこれらの層形成には、種々の材料の選択ができ、
磁気特性、耐食性に優れた構成を作り易く、表面性、工
程管理に優れたスパッタ法が多く用いられる。
ところで、磁気記録媒体の最表面に位置する潤滑層は、
wi源オフ時に磁気ヘッドが磁気記録媒体上に落下して
間接するので耐1j撃性が要求されると共に、安定した
再生出力を得るために表面平滑性が要求される。このた
め、コンタクト・スタート・アンド・ストップ(以下C
8Sと称す)試験と呼ばれる、停止時のヘッド落下繰り
返し耐数試験において2〜3万回の侵も無傷という条件
を満足しなければならない。
塗布型の磁気記録媒体では、表面に潤滑油を塗布するこ
とにより、□滑油が媒体の表層粒状凹凸部に適量浸透し
て、それが随時表面に露出してくることで、潤滑性を保
っている。
しかし、薄膜型磁気記録媒体では、液体でおる潤滑油を
、スパッタ法やめっき法により形成した極めて平滑な面
に塗布すると、磁気ヘッドと磁気記録媒体とが接触した
場合に吸着により両者が離れ雌くなる、いわゆるヘッド
吸着現象が生じ易く、好ましくなかった。また塗15型
磁気記録媒体のように表面層中に□滑油を貯えておく空
隙が存在せず、短期間の使用で潤滑油が欠乏するので長
期的な使用に耐えなかった。
このような理由から、1WIIl型磁気記録媒体では、
固体潤滑剤が採用される。固体潤滑剤としては、層状構
造を有するカーボンWi(グラファイト)が一般に用い
られる。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、層状構造を有するグラファイト状のカーボンは
、下地となる層との密着性には優れているものの、ある
程度の摺動回数になると層自体に破壊が生じ、下部層の
摩耗が進行して保護効果が無くなるという欠点がめった
。また、磁気記録媒体を旦産した場合、この層の再現性
も問題であり、グラファイトの層状構造が充分に具現さ
れて耐久性に優れたものと、層状性が不十分で、C8S
時の剪断力を水平方向に逃がせず、層自体が破壊するも
のが混在し、製品の歩留りを低下させている。
本発明は、耐久性に優れた磁気記録媒体およびその製造
方法を提供することを目的とする。
〔発明の構成〕
(問題点を解決するための手段) この発明の磁気記録媒体では、特に、潤滑層はカーボン
を主成分とし、潤滑層の表面領域において、水素及びハ
ロゲンのうちの少なくとも一種の元素が潤滑層の主成分
であるカーボンと結合していることを特徴とする。
また、このような潤滑層は、カーボン・ターゲットのス
パッタリング法により形成され、まず不活性ガス雰囲気
でカーボン・ターゲットをスパッタし、その後水素及び
ハロゲンのうちの少なくとも一種の元素を含むガスを添
加してカーボン・ターゲットをスパッタして形成される
(作 用〉 炭素・水素結合(C−H結合)、炭素・ハロゲン結合(
C−X結合:Xはハロゲン元素)が形成された表面領域
は、潤滑性が高く、C8S時の剪断力を水平方向に逃が
すことができ、潤滑層の耐久性が向上する。また表面領
域のみにC−H結合、C−X結合を形成するので、潤滑
層と下地となる層との密着性を損なうことがなく、磁気
記録媒体全体の耐久性が向上する。
なお、C−H結合等を含む改質された表面領域は、表面
より50人乃至200人までの範囲にあることが好まし
く、また水素及びハロゲンの含有旦は、5乃至40原子
%であるものがC8S試験結果が良好であることが確認
された。なお、潤滑層と下地となる層との密着性を確保
するためには、水素およびハロゲンを含まないカーボン
のみの層を100へ以上の厚さとすることが好ましい。
また上述の潤滑層は、カーボン・ターゲットのスパッタ
リング法により形成され、スパッタリング当初において
は雰囲気ガスとして不活性ガスを導入し、不活性ガスの
陽イオンによりカーボン・ターゲットをスパッタし、そ
の後水素及びハロゲン元素のうちの少なくとも一種を含
むガスを添加してカーボン・ターゲットをスパッタリン
グして形成される。このようにすることにより、スパッ
タリング時の導入ガスのコントロールのみで、容易に所
定の潤滑層を形成することができる。なお、水素及びハ
ロゲン元素を含むガスとしては、CH4、CF4 、C
2He 、CHFa 、CCRt Fg、CCl4など
が利用できる。しかしながら、4個以上の炭素原子を含
むガスを添加するとポリマーが形成され易く、好ましく
ないことが確認された。
本発明においては、潤滑層以外の部分は、種々の構成を
とることができる。例えば、磁性材料としては上述した
コバルト系材料が利用できる。また、磁性層を2層にし
て、下部層としてコバルト−ニッケル等を用い、上部層
として耐食性のあるコバルト−クロム等を配置した構造
とすることもできる。
(実施例1) 以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
第1図は本発明の磁気記録媒体の部分断面図である。
この実施例に係る磁気記録媒体は、非磁性基板(11)
上に硬化・平滑層(12)、下地層(13)、磁性層(
14)、保護層(15)および潤滑層(16)を順次形
成した構造を有する。
この磁気記録媒体は、次のようにして作られる。
まず、外形95m、内径25m、板厚1.27 mmの
アルミニウム合金からなる非磁性基板(11)を準備す
る。この表面に膜厚12μmのニッケル・リンのめつき
層を形成し、この表面を鏡面研磨仕上げをして硬化・平
滑層(12)を形成する。
次に、このように準備された基板をマグネトロン式直流
スパッタリング装置内に装着してスパッタリング法によ
り下地層(13)、磁性12 (14)、保護層(15
)を形成した。成膜方法、条件は次の通りである。膜厚
及び磁気特性を均一にするために基板装着台は自公転運
動が可能で、台を1Or、 p、 IIf、で回転ざぜ
た。各層の形成は、初期到達真空度5xi。
−7Torrで、希ガス、例えばアルゴン・ガスを導入
し、導入アルゴン・ガス圧を4 X 1O−2TOrr
とし、スパッタリング・パワー’IKW、至温下に於い
て行った。まず、磁性層の結晶軸配向性を良くするため
の下地層(13)としてCrを3000人の厚さに形成
した。その上に磁性m (14)としてQo−Niを5
00人、次に保l1l(15)としてGo−Crを30
0人形成した。なお、co−crの保1層(15)ハ、
磁性層としても作用する。
続いて、同一のアルゴン・ガス圧、スパッタリング・パ
ワーにて、カーボン・ターゲットをスパッタして100
人のカーボン層を形成し、直ちにCH4ガスをスパッタ
装置に導入し、アルゴンとCH4ガスの流旦比を1:1
にとって総圧力を8×10−2Torrとし、スパッタ
リング・パワー1KWとして、カーボン・ターゲットを
スパッタして先に形成されたカーボン層の上にC−H結
合を含むカーボン層を100人形成した。以上の操作に
より、表面層にC−H結合を含む潤滑層(16)が形成
された。
こうして作成した磁気記録媒体の特性を測定したところ
、面内保磁力900エルステツドを得、また飽和磁化は
、その他の磁気特性に関しても優れた結果を得た。更に
、電磁変換特性及びヘッドとの摩耗試験及び環境試験を
行った結果、次の特性を得た。電磁変換特性については
35kbpiの高密度記録が可能であった。C8S試験
を行い、3万回の後の歩留りは98%で、ディスク表面
に実質的に傷のつかないことを確認した。また、耐環境
性についても温度85℃、相対温度85%でi ooo
時間放首したが外観上の変化は全黙認められず欠陥箇所
の増加も皆無でおり、十分な耐食性が確認された。
なお、′IA滑層中のC−H結合の存在は、FT−IR
(フーリエ変換赤外分光法)により確認され、また5乃
至40原子%のHの混入が確認された。
なお、従来のC−H結合を含まないカーボンのみかうな
る潤滑層を形成した場合は、1万回のC8S試験で歩留
り85%でめった。また、潤滑層(16)を全体にわた
ってC−H結合を含むカーボン層としたものでは、1万
回のC8S試験での歩留りは65%であった。
なお、第2図に、本発明の磁気記録媒体のC8S試験結
果を曲線(A)で、潤滑層にC−1−1結合を全く含ま
ない場合の結果を曲線(B)及び潤滑層全体にC−H結
合を含んだ場合の結果を曲線(C)でそれぞれ例示する
。同図は、磁気記録媒体の表面における傷の有無と密接
な関係があるFJ擦係数と、C8Sサイクル数との関係
を示す。従来の(B)が約1万回のC8S試験により不
合格ラインである摩擦係数1.0を越えるのに対して、
本発明によるもの(A)は1万回のC8S試験後におい
ても摩擦係数の増加は殆ど認められなかった。
(実施例2) 実施例1と同様にアルミニウム合金基板(11)上に陽
極酸化法によりアルマイト層を形成し、表面を研磨して
、硬化・平滑層(12)を形成した。この後、実施例1
と同様に下地層(13)、磁性層(14)、保Fa層(
15)、潤滑層(16)を形成した。ただし保護層(1
5)には厚さ300人のCrを用い、また磁性層(14
)の厚味は600八とした。また潤滑層(16)の形成
に当たり、CH,ガスに変えてCF、ガスを用いた。こ
のため、潤滑層(16)にはC−F結合の存在が確認さ
れた。この実施例においても実施例1と同等以上の諸特
性が確認された。
(実施例3) 第3図に示すように、非磁性基体(21)として、厚ざ
2IIIlll、直径3.5インチの表面平滑なガラス
板を用意した。この上に直接、磁性! (22)として
Co−Pt層をスパッタリング法により厚さ500八に
形成した。その上に潤滑II (23)として、アルゴ
ン・ガスによるカーボン・ターゲットをスパッタして得
られた150人のカーボン膜と、続いてC2Hsを含む
ガスをアルゴンガスと等流量導入してスパッタして得た
C−H結合を含むカーボン膜150八とよりなる層を形
成した。この実施例も前述の実施例同様の諸特性が確認
された。
〔発明の効果コ 以上のように、本発明によれば、耐久性に優れた磁気記
録媒体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の磁気記録媒体の部分断面図
、第2図はC8S特性を示す図、第3図は本発明の他の
実施例の磁気記録媒体の部分断面図である。 (11)(21)・・・基板、 (12)・・・硬化・平滑層、 (13)・・・下地層、 (14) (22)・・・磁性層、 (15)・・・保護層、 (i5)(23)・・・TA潤滑層 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同    竹 花 喜久男 第3図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)非磁性基板上に磁性層及び潤滑層を有する磁気記
    録媒体において、 前記潤滑層はカーボンを主成分とし、この 潤滑層の表面領域において、水素及びハロゲンのうちの
    少なくとも一種の元素が潤滑層の主成分であるカーボン
    と結合していることをを特徴とする磁気記録媒体。
  2. (2)非磁性基板上に磁性層及び潤滑層を有する磁気記
    録媒体の製造方法において、 前記潤滑層の形成がカーボン・ターゲット のスパッタリング法により形成され、まず不活性ガス雰
    囲気でカーボン・ターゲットをスパッタし、その後水素
    及びハロゲンのうちの少なくとも一種の元素を含むガス
    を添加してカーボン・ターゲットをスパッタして前記潤
    滑層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
    法。
JP62131816A 1986-06-12 1987-05-29 磁気記録媒体及びその製造方法 Expired - Lifetime JPH07114016B2 (ja)

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JP61-134771 1986-06-12
JP13477186 1986-06-12

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JPS63106919A true JPS63106919A (ja) 1988-05-12
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JPS61115232A (ja) * 1984-11-10 1986-06-02 Tdk Corp 磁気記録媒体
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