JPH0256723A - 磁気記録媒体およびその製造方法と磁気ディスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体に係り、特に耐ヘツド摺動性に優
れた磁気記録媒体および磁気ディスク装置に関する。

〔従来の技術〕

近年、磁気記録の分野では、高密度記録化をはかるため
に、金属薄膜を用いる磁気記録媒体の研究開発が積極的
に進められている。しかしながらこの金属または合金薄
膜を用いた磁気記録媒体は耐食性や、磁気ヘッドの摺動
に対する耐久性が悪いという欠点があるため、従来から
実用化に際して種々の保護膜の検討がなされている。例
えば、特開昭６１−５４０１７号公報や特開昭６］、　
−５４０１９号公報に見られるように、磁性股上に炭素
質保護膜を形成する場合、磁性膜との結合力を強化する
ため炭素質保護膜中に鉄、コバルト、ニッケルなどの金
属を含有させるものがある。また、特開昭６１−９６５
１２号公報に見られるように、炭素質保護膜の耐ヘツド
摺動性を改善するため、カーボン層のボアの部分に潤滑
剤を含浸させるもの、さらにまた、特開昭６１−２２０
１２０号公報に見られるように炭素質保護膜とその上し
こ付着させた潤滑剤との結合力を強化させるために、炭
素質保護膜上に金属酸化物層を形成するものなどが知ら
れている。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術では、保護膜自体の機械的強度が十分でな
いか、保護膜と潤滑剤との付着力が小さく、磁気ヘッド
の摺動、磁気記録媒体の回転、装胃稼動時の温度上昇な
どにより、潤滑剤が保護Ｉ膜表面より、飛散したり、は
ぎとられるため、長期的に見て磁気記録媒体の耐久性が
十分ではないといった問題があった。特に、この問題は
、高速でディスクが回転する磁気ディスク装置で顕著で
あった。

本発明の目的は、上記課題を解決することにあり、その
第１の目的は、炭素質保護膜が本来所持している高強度
特性を維持しつつ、その表層部を潤滑剤との付着が強化
向上するよう改質し、潤滑剤を合わせて使用することに
より、実用上十分に長期的耐久性をもつ磁気記録媒体を
、第２の目的はその製造方法を、そして第３の目的はそ
れを用いた磁気ディスク装置をそれぞれ提供することに
ある。

〔課題を解決するための手段〕

上記本発明の第１の目的は、非磁性基板−ヒに設けられ
た磁性薄膜上に炭素質保護膜とさらにこの保護膜上に有
機物から成る潤滑剤が付着形成されて成る磁気記録媒体
において、前記炭素質保護膜の表層部領域に金属元素を
含有せしめて成ることを特徴とする磁気記録媒体により
、達成される。

すなわち１本発明の炭素質保護膜においては、金属元素
をその全面に含有させるのではなく、表層部領域に限定
して含有させるところに特徴がある。

その理由については作用の項で詳述する。この金属元素
を含有する表層部領域の好ましい厚みは保護膜全体の０
．５〜３０％である。また、炭素質保護膜全体の厚みは
、出来るだけ薄いことが望ましく通常２〜１１００ｎが
好ましい。さらにまた、上記保護膜表層部領域に含有さ
せる金属元素としては、いずれの金属元素でもよい。そ
の理由は後の作用の項でも触れるが、周知のように金属
元素は自由電子を有しており、この自由電子が保護膜表
面における潤滑剤の付着力強化に好ましい表面状態の改
質を与えると思われるからである。しかし、実用的に好
ましいものとしては、Ｃｏ、　Ｎｉ、　Ｆｅ。

ＡＱ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｔｉｏ、Ｃｕ、Ｃｒの少なくとも１
種であり、そしてより好ましいものとして、　Ｃｏ。

Ｎｉ、Ｆｅの少なくとも１種を挙げることができる。

炭素質保護膜の表層部領域に含有せしめる金属元素の含
有量については、少量でもそれなりの効果が認められる
が、好ましくは０．１〜２０原子％（以後ａｔ％と略す
）である。潤滑剤の付着力のみを改善するのであれば２
０ａｔ％を越える含有率であっても差支えないが、含有
率が高くなると保護膜の機械的強度が著しく劣化するこ
とから両者の関係から２０ａｔ％程度までが実用的で好
ましい。

次に上記本発明の第２の目的が達成される代表的な製造
方法としては、以下の２例を挙げることができる。

（１）非磁性基板上に、必要に応じ下地膜の形成を施し
たのち、磁性金属ターゲットを用いて磁性薄膜を形成す
る第１のスパッタリング工程と、次いで炭素ターゲット
を用いて所定膜厚の第１の炭素質保護膜を形成する第２
のスパッタリング工程と、前記第１の夏素質保護膜の形
成に引き続き炭素と金属元素のターゲットを用いて所定
膜厚の前記金属元素含有の第２の炭素質保護膜を形成す
る第３のスパッタリング工程と、潤滑剤付着工程とを有
して成ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

（２）上記第２のスパッタリング工程の代りに。

炭化水素ガスを原料とした第１のＣＶＤ工程により上記
第１の炭素質保護膜を形成し、次いで上記第３のスパッ
タリング工程の代りに有機金属ガスと必要に応じ炭化水
素ガスとを原料とした第２のＣＶＤ工程により上記金属
元素含有の第２の炭素質保護膜を形成することを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。

なお、上記のスパッタリングもしくはＣＶＤで炭素質保
護膜を形成する工程としては、これら２つの成膜工程を
適宜組み合わせて用いることもでき、それぞれの工程の
特長を生かして用いることが望ましい、また、金属元素
のみを炭素質膜に含有させる手法として、周知のイオン
インブランティジョン（通称イオン打込み法）技術があ
るが、これにて炭素質保護膜の表層部領域に金属元素を
打ち込み含有させることも可能である。

最後に本発明の第３の目的は、磁気ディスクの回転駆動
制御手段と、磁気ヘッドを駆動制御するアクチュエータ
と、前記磁気ヘッドに接続された入出力信号処理手段と
を有して成る磁気ディスク装置であって、前記磁気ディ
スクが上記本発明の第１の目的の達成される磁気記録媒
体から成ることを特徴とする磁気ディスク装置により、
達成される。

〔作用〕

本発明における磁気記録媒体の保護膜・潤滑膜の必要条
件は、磁気ヘッドの摺動に対して、優れた耐久性を持つ
こと、および、電磁変換特性の劣化を抑えるために、そ
の膜厚が出来るだけ薄いことである。そして、磁気ヘッ
ドの摺動に対して、媒体に優れた耐久性を持たせるため
には、保護膜自体の強度が大きく、潤滑剤が保護膜に強
固に付着していることが望ましい。

本発明者らは、磁性層上に保護膜として炭素膜を形成し
、その最表面領域に金属元素を含有せしめ、さらにその
上に潤滑剤を付着させたところ。

保護膜と潤滑剤との結合力が強化され磁気記録媒体の耐
久性が一段と向上する知見を得て本発明を完成するに至
った。すなわち、機械的強度は大きいが、潤滑剤の付着
性が劣る炭素質保護膜の表層部領域のみに金属元素を添
加することにより、保護膜自体の強度を実質的に低下さ
せることなく、潤滑剤の付着性が向上するからである。

つまり、本発明者らは、炭素膜に対する潤滑剤の付着性
を検討するため試料として、（イ）炭素膜に何の処理を
も施すことなく直接潤滑剤を付着させたもの。

（ロ）炭素膜上に金属酸化物膜を形成した上に付着した
もの、（ハ）炭素膜の表面に金属を含む炭素膜を形成し
たものの３種につき詳細な検討を行った。勿論（ハ）の
ものが他の２者に比較して著しく潤滑剤の付着性が良好
であった。（ロ）の酸化膜を介在させたものは（イ）よ
りも付着力が大きいものの実用的には不十分のものであ
った。このように本発明の試料に係る（ハ）が優れてい
る理由について、検討してみると、炭素質保護膜中に金
属元素が含まれることにより、保護膜表面での自由電子
１度が高まり、それが潤滑剤と電気的に作用し合って潤
滑剤がより強く保護膜表面に付着するためと考えられる
。また、炭素膜中に含まれる金属元素の状態は製造条件
にもよるが、炭素と金属元素とが均一に混合し合ったも
の、その代表的なものとして、非晶質カーボン膜中に金
属元素が分散されたものが挙げられる。また、場合によ
っては一部が炭素と化合し炭化物を形成することも考え
られる。

本発明の炭素質保護膜のうち金属元素を含む表層部領域
の組成は、金属元素の組成が、０．　ｌａｔ％より少な
いと潤滑剤の付着性の改善効果が比較的小さく、２０％
を超えると、保護膜の強度が低下するため、この表層部
領域における金属元素の組成は、０．１〜２０ａｔ％で
あることが望ましい。

また１本発明の炭素質保護膜中に占める金属元素が含ま
れる表層部領域の膜厚は、全体の膜厚の３０％を超えて
も０．５％より少なくても、磁気記録媒体の耐久性が劣
化するため、実用的にはこの領域の膜厚を０．５〜３０
％とすることが望ましい。つまり、３０％を越えると炭
素質保護膜の機械的強度が著しく低下し、０．５％より
少ないと潤滑剤の付着力強化の効果が少なくなるからで
ある。

さらにまた、本発明の炭素質保護膜の膜厚は、２ｎｍ未
満では、保護膜としての効果が少なく、１００ｎ　ｍを
超えると磁気記録再生特性が劣化するので、２〜１１０
０ｎの範囲が好ましく、より好ましい範囲は、５〜５０
ｎｍである。

本発明の炭素質保護膜上に付着させる潤滑剤としては、
ステアリン酸、オレイン酸のごとき飽和、不飽和脂肪酸
、もしくはこれら脂肪酸のエステルなど、さまざまなも
のが有効であるが、特に、パーフルオロポリエーテル系
潤滑剤は上記金属元素を含む保護膜との付着性が良く、
優れた効果がある。

本発明の炭素質保護膜上に付着させる潤滑剤の量は、多
すぎると、ヘッドと媒体間に粘着が生じ、また、少なす
ぎると耐久性が十分ではなくなる。

従って、実用的な潤滑剤の付着量は、入射角７０’の反
射型赤外吸収強度で、ＩＸＬＯ−’〜５Ｘ１０−’であ
ることが望ましい。

〔実施例〕

以下に本発明の実施例を挙げ１図面を参照しながら、さ
らに、具体的に説明する。

実施例１〜２５゜ アルミニウム合金基板を用いて、スパッタリング法によ
り、第１図に示す構造の磁気記録媒体を作製した。外径
１３０ｍｍφ、内径４０ｍｍφ、厚さ１　、９ｍｍのＡ
Ｑ金合金らなるディスク基板１の上に、厚さ１５、ｕｎ
のＮ１−ＰまたはＮ１−Ｗ−Ｐ等からなる非磁性メツキ
層２を形成した。次に、非磁性メツキ層２の表面を、Ａ
Ｑ２０３研磨テープ等を用いて、円周方向に微細傷が入
るように研磨し、膜厚を１０μｍとした。この時、半径
方向の中心線平均面粗さが１０ｎｍになるようにした。

この非磁性メツキ層２を形成し、表面粗さを制御した基
体上に、基体温度１８０℃、ＤＣ投入電力密度４Ｗ／■
２で、Ａｒガスを用い、ガス圧を１０ｍＴｏｒｒとした
条件下で、Ｃｒターゲットを用い、スパッタリング法で
厚さ４００ｎ　ｍの下地膜３を形成した。このＣｒ下地
膜３の上に、上記と同一条件のスパッタリング法で、６
３ａｔ％Ｃｏ　−３２ａｔ％Ｎｉ−５ａｔ％Ｚｒ合金タ
ーゲットを用いて、磁性膜４を５０ｎｍの厚さに形成し
た。次に磁性膜４の上に、上記と同一条件のスパッタリ
ング法で、炭素ターゲットを用いて、炭素からなる保護
膜５を形成し、さらに、金属元素を含有する炭素ターゲ
ットを用いて、金属元素を含有する炭素保護膜６を形成
した。炭素保護膜６としては、ターゲット組成を変える
ことにより、０．１〜２０ａｔ％の金属元素を含有する
ものを作製した。ここで用いた金属元素は、Ｃｏ、　Ｎ
ｉ、　Ｆｅ。

Ａ　Ｑ　ＨＺｒ、　Ｓｎ、　Ｔｌｌ　Ｃｕ、　Ｃｒであ
る。

このようにして形成した基体を、潤滑剤溶液中に浸漬、
引き上げを行い、潤滑膜を形成した。潤滑剤としては、
パーフルオロポリエーテル系潤滑剤、およびステアリン
酸、オレイン酸などの有機カルボン酸や、これらのエス
テルを用いた。

耐久性の評価は、ＣＳＳ　（コンタクトスタートアンド
ストップ）試験を行い、試験開始時に比べ、出力が１０
％低下する時点、あるいは、エラーが増大したＣ８Ｓ回
数を測定することにより行った。

また、比較試料として、磁性層上に炭素保護膜５を形成
せずに、直接、金属元素を含有する炭素保護膜６を形成
した試料、および、炭素保護膜５だけを形成した試料を
作製し、潤滑膜を形成、耐久性の評価を行った。このよ
うにして得た試料及び比較試料に分子量がおよそ２００
０であるパーフルオロポリエーテルの、０．１ｗｔ％ト
リフロロトリクロロエタン溶液を用いて潤滑膜を形成し
た。第１表は、これら試料、および、比較試料の潤滑剤
付着量、Ｃ８Ｓ強度の測定結果の一例を示す、なお、潤
滑剤付着量としては、入射角７０’の反射型赤外吸収分
光分析器を用いて、約１２８０カイザーにあられれる。

Ｃ−Ｆ結合に起因する吸収ピークの大きさを用いている
。

第１表 なお、第１表において、保護膜の項の（）内数値は膜厚
を示しており、例えば試料ｌのＣ（３０ｎｍ）＋　１　
ａｔ％Ｃｏ　−Ｃ（１０ｎｍ　）なる表示は、第１図の
構造と対応させると炭素保護膜５が炭素のみの組成で膜
厚３０ｎ　ｍ　（Ｃ（３０ｎ　ｍ　））形成され、その
上の金属元素含有炭素保護膜６がｌａｔ％のＣｏを含む
炭素膜の組成で膜厚１０ｎｍ　（１ａｔ％Ｃｏ　−Ｃ（
１０ｎｍ））形成された構成を意味する。

効果の比較は、ＣＳＳ強度（ｋ回、つまり単位はに回＝
　１０００回である）で対比した。

第１表から、明らかなように、同一条件で潤滑膜を形成
した時のＣＳＳ強度は、炭素質保護膜の表層部領域にの
み金属元素が存在する実施例１〜５（試料１〜５）が、
保護膜全体に金属元素が含まれる比較例１〜２（試料６
．７）および金属元素を含まない比較例３（試料８）な
どに比べて大きな値となっており、特に、ＣＯ＋　Ｎ！
、Ｆｅを添加した試料が優れた耐久性を持っている。ま
た、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｒなど他の金属元素を添加し
た試料でも、実施例４，５と同様の効果があることを確
認している。

第２表は、保護膜中に含まれる金属元素濃度を変えた試
料の耐久性評価結果を示したも辺で、金属元素としてＣ
Ｏを代表例としたものである。なお、その他の金属元素
もほぼ同様な傾向を示すのでそれらについては省略した
。

この表から、明らかなように、０．１〜２０ａｔ％の金
属元素を含む実施例７〜１１　（試料１１〜１５）が０
．０５ａｔ％の金属元素を含む実施例６（試料１０）お
よび３０ａｔ％の金属元素を含む実施例１２（試料１６
）に比べより優れた耐久性を持っている。

第２表 また、保護膜５，６を合わせた膜厚が増大すると、磁性
層と４ヘッド間のスペーシングの増大により、記録再生
特性が劣化する傾向が見られた。

この記録再生特性の劣化が少なく、耐久性の良好な実用
的に好ましい保護膜厚゛は、２〜１１００ｎであった・ 第３表は、保護膜５と６を合わせた膜厚を４０ｎｍとし
、その割合を変えたときの耐久性評価結果を示したもの
である。

以下余白 ＠３表から、明らかなように、保護膜６の膜厚が、およ
そ０．２ｎｍ〜１２ｎｍまでの実施例１４〜１７（試料
１８〜２１）が、Ｃｏ−Ｃの膜厚を０．１ｎｍとした実
施例１３（試料１７）、１５ｎｍとした実施例１８（試
料２２）、３０ｎ　ｍとした実施例１９（試料２３）よ
り大きなＣ８Ｓ強度を示している。このように炭素質保
護膜全体の厚さに占める金属元素を含む保護膜の厚さの
割合が０．５〜３０％においてより優れた特性を示して
いる。なお、これらいずれの試料も潤滑剤付着量はおよ
そ３Ｘ１０−”とした。第３表では、保護膜の総膜厚が
、　４０ｎｍの時の結果を示したが、好ましい総膜厚２
〜１１００ｎの範囲で同様の効果があり、保護膜６の膜
厚が、保護膜５と６を合わせた全体の膜厚の０．５〜３
０％であるときにＣ８Ｓ強度は、特に、優れた値を示す
ことを確認している。

以下余白 第４表は、潤滑膜形成時の潤滑剤濃度を変え、潤滑剤の
付着量を変えたときの耐久性評価結果の一例を示したも
のである。なお、本発明実施例における炭素質保護膜の
構成は、いずれも実施例１（試料１）と同一のものを使
用した。

第４表から明らかなように、比較例４〜６（試料３０〜
３２）では、潤滑剤の付着量を多くしてもＣ８Ｓ強度は
２５に同程度である。なお、付着量は同表の赤外吸収強
度値の大なるものほど多く、２．０ＸＩＯ＝の強度が潤
滑剤の膜厚にしてほぼ６０人に相当する。これにたいし
、本発明実施例では、いずれも優れた耐久性を示すが、
特に実施例２１〜２４（試料２５〜２８）では、赤外吸
収強度が、Ｉ×１０−３〜５Ｘ１０’−”の範囲で優れ
た耐久性を有する。

実施例２５（試料２９）も、ＣＳＳ強度〉５０に回で、
耐久性には優れているが、ヘッドがストップ時に粘着し
易くなり、好ましくない。

また１分子量がおよそ４０００であるパーフルオロポリ
エーテルを用いた実験、およびステアリン酸、オレイン
酸などの有機カルボン酸や、これらの工ステルを用いた
実験でも、同様の効果があることを確認したが、パーフ
ルオロポリエーテル系潤滑剤を用いたときに、特に、媒
体の耐久性が向上した。

なお、本実施例では、スパッタリング法により、保護膜
層を形成しているが、イオンブレーティング法、ＣＶＤ
法（特にプラズマＣＶＤ）等の他の手法により、保護膜
層を形成しても同様の効果がある。

実施例２６〜３０゜ 基板としてポリイミドフィルムを用いて、スパッタリン
グ法によ・って、第２図に示す構造の磁気記録媒体を作
製した。スパッタ装置の試料室を、４　Ｘ　１０−’　
Ｔｏｒｒまで真空排気した後、ポリイミド基板２１の上
に、３ｍＴｏｒｒのＡｒガス圧で、高周波出力４　Ｗ　
／　ａｎ　”　、基板温度１００℃の条件でＣｏ−２０
ｗｔ％Ｃｒ合金磁性層２４を０．３μｍ厚、形成した。

ついで、実施例１と同様にして炭素質保護膜２５、金属
元素を含む炭素質保護膜２６を同一スパッタリング条件
で積層した。ここで、炭素質保護膜２５、金属元素を含
む炭素質保護膜２６の膜厚をそれぞれ変えることにより
、保護膜の総膜厚が１０．２０．４０゜６０、１１００
ｎであり、金属元素を含む炭素質保護膜２６の膜厚の、
保護膜の総膜厚（２５＋　２６）に対する割合が１０〜
２５％となる試料を作製した。潤滑膜の形成法は実施例
１と同様である。

媒体の耐久性の試験は、各試料から、ディスク試料を切
り出し、ディスク回転装置に取り付けた後、荷重１８ｇ
のヘッドを接触させて、ディスクを２ｍ／ｓの速度で連
続回転させ、再生出力が、試験開始時に比べ、１０％低
下したとき、または、エラーが増大したとき、のディス
クの総回転数を測定することにより行った。

第５表から、明らかなように１本実施例２６〜３゜によ
り、作製した磁気記録媒体（試料３３〜３７）は。

比較例７，８（試料３８．３９）に比べて、優れた耐久
性を持つ。

なお、第５表では、保護膜の添加元素として、Ｃｏを用
いた時の測定結果を示したが、他の金属を用いても同様
の効果があることを確認している。

〔発明の効果〕

以上、詳細に説明したごとく、本発明による炭素質保護
膜の表層部領域にのみに選択的に金属元素を含有する保
護膜を設け、さらに潤滑膜を形成した磁気記録媒体は、
潤滑剤が保護膜表面に強固に付着し、また、金属元素が
保護膜の表層部だけに存在するため、保護膜自体の強度
低下を起こさず、磁気ヘッド摺動に対する優れた耐久性
を示す。

したがって、この磁気記録媒体で構成した磁気ディスク
をその駆動装置に装着することにより、信頼性の高い磁
気ディスク装置を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における磁気記録媒体の構成
を示す断面図、第２図は異なる実施例における磁気記録
媒体の構成を示す断面図である。 図において、 １・・・ＡＱ合金基板 ２・・・Ｎ１−Ｐメツキ層 ３・・・Ｃｒ下地層 ４−−−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｚｒ磁性層 ５．２５・・・炭素質保護膜 ６．２６・・・金属元素含有炭素質保護膜２１・・・ポ
リイミド基板 ２４−Ｃｏ−Ｃｒ磁性膜 代理人弁理士　　中　村　純之助 第１ 図 第２ 図 一−−Ａｆｔ８金基法 ２−−−Ｎｉ−Ｐ〆１１．キ層 ３−−−ｃ汀に漕 ６．２６−−−塗劇Ｉ含１チｔ＃糧涙 ２＋−−−、ｌ；’ノノイミー　Ｌ”！　栖２４−−−
Ｃｏ−ＣｒＢｉｆＪ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、非磁性基板上に設けられた磁性薄膜上に炭素質保護
   膜とさらにこの保護膜上に有機物から成る潤滑剤が付着
   形成されて成る磁気記録媒体において、前記炭素質保護
   膜の表層部領域に金属元素を含有せしめて成ることを特
   徴とする磁気記録媒体。 ２、上記金属元素を含有せしめた炭素質保護膜の表層部
   領域における金属元素の含有率が０．１〜２０ａｔ％で
   あることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 ３、上記金属元素を含有した炭素質保護膜における表層
   部領域の厚さが、前記保護膜全体の膜厚の０．５〜３０
   ％であることを特徴とする請求項１もしくは２記載の磁
   気記録媒体。 ４、上記炭素質保護膜全体の膜厚が２〜１００ｎｍであ
   ることを特徴とする請求項１、２もしくは３記載の磁気
   記録媒体。 ５、上記炭素質保護膜における表層部領域に含有せしめ
   る金属元素が、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｓｎ、
   Ｔｉ、Ｃｕ及びＣｒから成る群の少なくとも１種から選
   択されて成ることを特徴とする請求項１、２、３もしく
   は４記載の磁気記録媒体。 ６、非磁性基板上に、必要に応じ下地膜の形成を施した
   のち、磁性金属ターゲットを用いて磁性薄膜を形成する
   第１のスパッタリング工程と、次いで炭素ターゲットを
   用いて所定膜厚の第１の炭素質保護膜を形成する第２の
   スパッタリング工程と、前記第１の炭素質保護膜の形成
   に引き続き炭素と金属元素のターゲットを用いて所定膜
   厚の前記金属元素含有の第２の炭素質保護膜を形成する
   第３のスパッタリング工程と、潤滑剤付着工程とを有し
   て成ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 ７、上記第２のスパッタリング工程の代りに、炭化水素
   ガスを原料とした第１のＣＶＤ工程により上記第１の炭
   素質保護膜を形成し、次いで上記第３のスパッタリング
   工程の代りに有機金属ガスと必要に応じ炭化水素ガスと
   を原料とした第２のＣＶＤ工程により上記金属元素含有
   の第２の炭素質保護膜を形成することを特徴とする請求
   項６記載の磁気記録媒体の製造方法。 ８、磁気ディスクの回転駆動制御手段と、磁気ヘッドを
   駆動制御するアクチュエータと、前記磁気ヘッドに接続
   された入出力信号処理手段とを有して成る磁気ディスク
   装置であって、前記磁気ディスクが請求項１、２、３、
   ４もしくは５記載の磁気記録媒体から成ることを特徴と
   する磁気ディスク装置。