JPS63100015A - トリクロロシランの製造方法 - Google Patents

トリクロロシランの製造方法

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JPS63100015A
JPS63100015A JP24315986A JP24315986A JPS63100015A JP S63100015 A JPS63100015 A JP S63100015A JP 24315986 A JP24315986 A JP 24315986A JP 24315986 A JP24315986 A JP 24315986A JP S63100015 A JPS63100015 A JP S63100015A
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trichlorosilane
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silicon
silicon tetrachloride
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JP24315986A
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Kaoru Inoue
薫 井上
Hiroji Miyagawa
博治 宮川
Masayoshi Ito
正義 伊藤
Kiyougo Koizumi
鏡悟 小泉
Noriyuki Yanagawa
紀行 柳川
Masami Murakami
雅美 村上
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 皮呈上二且里立立 本発明は四塩化ケイ素と水素からトリクロロシランを製
造する方法に関する。
丈米坐茨■ 近年のエレクトロニクス産業の発展に伴ない多結晶シリ
コン、単結晶シリコン、モノシランガス等の需要は急激
に増大しており今後ますますその需要は増加の一途をた
どることが見込まれている、ここにおいてトリクロロシ
ランは上記シリコン物質の原料として最も大量に利用さ
れているものである0例えば高純度多結晶シリコンはト
リクロロシランの熱分解によって製造されており、現在
全世界での高純度多結晶シリコンの殆どがこの方法で製
造されている。また最近トリクロロシランの不均化反応
によってモノシランが製造される方法が実用化されつつ
あり極めてトリクロロシランの需要は今後その重要性が
増大する。しかしながら、これらの方法においては、ト
リクロロシランが消費されるとともに大量の四塩化ケイ
素が副生ずる。たとえばトリクロロシランの熱分解によ
る高純度多結晶シリコンの製造においては、トリクロロ
シランの約60%が四塩化ケイ素として副生じ、また、
トリクロロシランの不均化によるモノシランの製造にお
いては実質的にモノシランの3倍モルの四塩化ケイ素が
副生する事になる。従ってこの副生じた四塩化ケイ素は
例えばアエロジル等の原料として利用することでトリク
ロロシランの生産コストを低減する方法等が知られてい
るが。
実質上置も優れた四塩化ケイ素の利用方法はこれを再び
トリクロロシランに変換し、上記方法の原料として再利
用することである0例えば四塩化ケイ素をトリクロロシ
ランに変換することによって、トリクロロシランの不均
化によるモノシランの製造は実質的には金属ケイ素と水
素によってモノシランを製造するプロセスに帰着し、こ
のプロセスは最近実用化されつつある。
従って四塩化ケイ素をトリクロロシランに変換する技術
はきわめて有用であり、特にこれを安価、簡便かつ効率
よく行うことはプロセスの経済上極めて重要である。
従来、四塩化ケイ素をトリクロロシランに変換する方法
としては次の方法が知られている。
(1)四塩化ケイ素と水素を1000°C前後またそれ
以上の温度で反応させトリクロロシランを製造する方法
(2)四塩化ケイ素水素および金属ケイ素を500℃付
近で反応させトリクロロシランを製造する方法。
(3)四塩化ケイ素、水素、金属ケイ素及び塩化水素を
500″C付近で反応させトリクロロシランを製造する
方法。
(1)の方法に関してはたとえば特開昭57−3711
号においては1100−1600°Cで水素および四塩
化ケイ素を上記温度の発熱体に吹き付ける方法でトリク
ロロシランが60%の収率で得られている。また特開昭
57−156318号では第一段目で900°Cの温度
において水素と四塩化ケイ素をモル比Hz/5iC1n
−2で反応させ25%の収率でトリクロロシランを得て
いる。また特開昭59−45920号においてはプラズ
マ中で四塩化ケイ素と水素を反応させてトリクロロシラ
ンを得ている。また特開昭60−81010号において
は1200−1400℃の温度範囲で四塩化ケイ素と水
素を反応させて約30%の収率でトリクロロシランを得
ている。
(2)の方法は(1)の方法に比較して比較的低温で反
応が進行し、エネルギー的に有利な方法であると云える
。また(2)の方法でさらに有効に反応を進行させるた
めに塩化水素ガスを使用する(3)の方法も当然のこと
ながら同様な特長を有している。(2)及び(3)の方
法に関しては触媒を用いることが有効であり銅化合物ま
たは金属銅を触媒としている0例えば特開昭56−73
617号においては銅粉を触媒として350〜600″
Cで流動床反応を行いトリクロロシランを得ている。又
特開昭58−11042号においては銅担持又は銅及び
ニッケルを担持した触媒を用いて反応を行いトリクロロ
シランを得ている。
これらの方法において9例えば(1)の方法では。
かなり高い四塩化ケイ素の転化率でトリクロロシランが
得られているが、とりわけ30%以上の収率でトリクロ
ロシランを得るためには1000°C以上の高温で反応
を行わねばならずこれに費やすエネルギーは真人なもの
である。加えて、高温反応であるため、塩素化ケイ素に
よる反応器等の腐食が激しくさらに、望ましくない高分
子量のクロロシラン類が不可避的に副生する等の欠点を
存しており未だ実用化には程遠いものである。
これに対し、(2)及び(3)の方法は熱力学的見地か
らも、トリクロロシランの製造に有用な方法であり、前
記した様にトリクロロシランの不均化によるモノシラン
を製造する方法で副生ずる四塩化ケイ素を変換しトリク
ロロシランを製造することは特に(2)の方法では実質
的にはケイ素と水素からモノシランを製造することとな
るため、非常に有用な方法であると云える。なお、(3
)の方法に於いては、トリクロロシランの収量は多いが
、塩化水素は四塩化ケイ素のトリクロロシランへの変換
には関与せず、実質的には金属シリコンからトリクロロ
シランを合成することに過ぎない、従って、四塩化ケイ
素の再利用という観点からすれば(2)の方法よりは幾
分有用性は劣るが、一方、トリクロロシランの収量が多
いと云う利点も有しており、塩化水素の使用量を少量に
して行うことにより、その特徴を発渾させることが望ま
しい。
さらに、これら(2)及び(3)の方法を組合せたプロ
セスも知られている(特開昭60−36318号)。
以上の方法において、四塩化ケイ素の存効再利用という
観点からすれば(2)の方法が最も優れており、またト
リクロロシランの生成という観点からすれば(3)の方
法も優れた方法であり捨てがたい。
すなわち、(2)または(3)の方法は経済性も高(特
に(2)の方法は現在本命の方法として実用化されつつ
ある。
しかしながら、(2)の方法においては3反応温度が通
常500〜600°Cで行われており、300°C以下
の反応温度においては実質上トリクロロシランが生成し
た例はない、従って当然のことながら9本発明における
が如く、四塩化ケイ素の臨界温度以下で四塩化ケイ素を
液体状として気体−液体一固体相の不均一反応によるト
リクロロシランを製造した例は従来全く知られていない
またこの(2)の方法においては、従来大量かつ連続的
にトリクロロシランを製造する場合には、気体一固体相
流動床装置が用いられている。しかしながら、その場合
、流動床を用いるため9反応により粒度の小さくなった
ケイ素金属や触媒成分の揮散等による有効成分の損失、
高温反応による触媒成分のI′i1敗、装置の腐食、更
には高分子量のクロロシラン類の生成によるトリクロロ
シランの選択率の低下、高温であるためエネルギーの大
量使用等といった。工業化するためにはさらに解決さる
べき多くの欠点を有している。
又ユ生旦血 すなわち1本発明の目的は、上記トリクロロシランの熱
分解による多結晶シリコンの製造またはトリクロロシラ
ンの不均化反応によるモノシランの製造に於いて、副生
ずる四塩化ケイ素をトリクロロシランへ変換し、四塩化
ケイ素を存効に利用する上記(2)ないしく3)の方法
が有していた欠点を解決する極めて経済性の高い方法を
提供することにある。
本発明に従えば、四塩化ケイ素と金属ケイ素を、水素若
しくは水素及び塩化水素と反応せしめてトリクロロシラ
ンを製造する方法において、該反応を、金属銅、金属の
ハロゲン化物並びに鉄、アルミニウム若しくはバナジウ
ムの並びに鉄、アルミニウム若しくはバナジウムの臭化
物或いはヨウ化物の存在下に行うことを特徴とするトリ
クロロシランの製造方法が提供される。
光里■園丞 以下本発明の詳細な説明する。
本発明で行う四塩化ケイ素のトリクロロシランへの変換
は基本的に次式 %式%(1) で表わされる。この反応は平衡反応であり、温度が高い
ほど、圧力が高いほど、さらにH,、’stc+4モル
比が高いほど反応が右方向へ進行する。従って300℃
前後の低温でトリクロロシランを製造した例は今まで知
られていなかったが1本発明においては上記反応を金属
銅、金属のハロゲン化物並びに鉄、アルミニウム若しく
はバナジウムの臭化物或いはヨウ化物と云う特定の添加
物の存在下に行うことで、トリクロロシランを収率よく
製造することを可能ならしめたものである。また当然の
ことであるが塩化水素ガスを本発明反応系内に加えるこ
とによって明らかにトリクロロシランの収量を増大させ
る結果をもたらす手段を採用しても良い。
本発明に使用する金属ケイ素の純度等はとくに限定する
ものではなく、冶金ケイ素の98%程度の低純度品でも
高純度ケイ素でもいずれであっても構わない、経済的な
観点からすれば前者で充分好結果が得られるのでこれを
使用することが好ましい、これら金属ケイ素の形態は問
わないが好ましくは反応速度の観点から表面積の大きい
粉末状で使用することが推奨される。勿論9粒状等他の
形態で使用することも可能である。
本発明においては、上記反応を金属銅、金属のハロゲン
化物並びに鉄、アルミニウム若しくはバナジウムの臭化
物或いはヨウ化物の存在下に行うが9本発明で使用する
金属銅は特に限定するものではなく1通常型版の電解S
口が用いられるがその他還元銅も使用可能である。純度
に関してはそれほど問題にする必要はない、金属銅の形
態は問わないが好ましくは反応速度の観点から表面積の
大きい粉末状で使用することが推奨される。勿論。
粒状等信の形態で使用することも可能である。
また本発明で使用する金属のハロゲン化物とは、元素記
号でCu + T j + V + Cr t M n
 + M n + F e + CO+ N j + 
Z n + Z r +W、 Mo、 Ru、 Rh、
 Pd、 Ag、 Sn、 Sb、 Hg、 Ptおよ
びpbのハロゲン化物であり、具体的には分子式でCu
Cl、 CuCl2゜TiCl3 + T 1c14.
 WCl3 + VCl5+ vocl s + Cr
Ch、 CrCl1゜MnC1z+FeC1z+FeC
l3.CoC1z+N+C1z、ZnC1g+ZrCl
41Zr oat 2 + MoC1s + MoCI
s + RuC1t + RuC13+ RhCl 3
+ PdC1z 。
AgC1,5nC1t、5nC1n、5bC1s、5b
CIS、WCl5.WCli。
HgzCh、 HgC1m、PtC1a、PbCl1及
びPbC1a等の金属塩化物: CuBr、CuBr1
.TiBr5+VBrs、CrBr1.MnBrz。
FeBrx+FeBr3.CoBrt+N1Brx+Z
nBrt、ZrBr4.MoBr3+PdBrz、 A
gBr、 5nBrt+ 5nBra、 5bBr3.
 irs+ HggBrx+HgBrz+及びPbBr
t等の金属臭化物:及びCul、Ti1n+Cr1z+
Mn1z+Fe1t+Co1z+Nil!+Zn1z+
Zr14+pdt、、Ag1.5nlx+5nla、5
bls、5blsJIa+Hg1lz+Pt1z+Pt
1a、及びPbl□等の金属ヨウ化物などである。また
、ハロゲン原子が二種以上混在したハロゲン化物も有効
であり、これらの一種または二種以上の混合物で使用す
る。
次に本発明で使用する並びに鉄、アルミニウム若しくは
バナジウムの臭化物或いはヨウ化物とは分子式□でFe
Brz、FeBr3+Fe1z+AIBrz、 AlI
3.AItBr、。
VBr3.などであり、これらの1種又は2種以上の混
合物で使用する。
次に本発明に於ける四塩化ケイ素のトリクロロシランへ
の変換方法について述べる。
変換反応は基本的には上記(1)式に従って行われるが
3本発明においては1反応は、気体相−固体相の所謂気
−固相の不均一系で行う0通常四塩化ケイ素及び水素が
、若しくは四塩化ケイ素。
水素及び塩化水素が気体状態になるようにして反応を行
う、また反応に使用する水素はあらかじめ反応に不活性
な媒体(気体)たとえばアルゴン。
ヘリウム及び/又は窒素等で稀釈して用いても構わない
が1反応平衡1反応速度及び経済的な観点から水素単独
で使用することが好ましい、又通常予期される程度の不
純物を含んでいても差し支えなくさらには加圧で反応を
行う際には水素を同時に加圧媒体とすることが好ましい
、また反応条件に於いて原料、生成物、および金属銅;
金属のハロゲン化物、並びに鉄、アルミニウム若しくは
バナジウムの臭化物或いはヨウ化物等の添加物等にたい
して不活性な溶媒1例えばn−ヘキサン、n−へブタン
に代表される脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、シクロ
オクタンに代表される脂環式炭化水素及びベンゼン、ト
ルエンに代表される芳香族炭化水素等を使用することも
可能である。
また9反応温度は敢えて規定しないが、実質的に反応を
進行させるためには150″C以上好ましくは四塩化ケ
イ素の臨界温度以上で加圧反応を行うことが反応平衡上
の観点からも推奨される。なお本反応を行うに際して原
料として仕込む四塩化ケイ素中に反応平衡量以下のトリ
クロロシランが混在していても構わなく、このことは反
応によって生成したトリクロロシランを蒸留等により分
離した際四塩化ケイ素中にトリクロロシランが残存して
いるものも使用可能であることを意味するが。
好ましくは反応平衡上なるべくトリクロロシランを含ま
ない若しくはトリクロロシラン含有量が出来るだけ少な
い四塩化ケイ素を使用することが実質的にトリクロロシ
ランの生成量が最も多くなる事となり望ましい。
次に本発明における原料、金属銅、金属のハロゲン化物
等の添加物の使用量について述べる0本発明に於ける。
金属ケイ素の使用量は特に限定はしないが、バッチ式で
行う場合は四塩化ケイ素に対して1重量%以上で行うこ
とが好ましくこの値未満であると反応とともに金属ケイ
素が消費され有効に反応が行いえなくなる恐れがある。
又金属銅、金属ハロゲン化物並びに鉄、アルミニウム芳
しくはバナジウムの臭化物或いはヨウ化物等の添加物の
使用量は特に限定はしないが、金属ケイ素に対して金属
原子比(g−atms/g−atms)で各々金属銅は
0.5%以上、金属ハロゲン化物並びに鉄、アルミニウ
ム若しくはバナジウムの臭化物或いはヨウ化物は0.1
%以上で行うことが反応速度上好ましい。
次に本発明を実際に実施するための具体的な態様につい
て述べる。前記した様に本発明における反応は150℃
以上を必要とし、さらに加圧(水素加圧が好ましい)状
態で行われることが好ましく、また流通式反応法もしく
はバッチ式反応のいずれの方法で行うことも可能である
本発明に於ける実施方法に関しては特に規定はしないが
実施し易い方法として以下の方法が挙げられる。もちろ
んこれらの方法に本発明は限定されるものではない。
(])オートクレーブ中に所定量の四塩化ケイ素。
金属ケイ素、金属銅、金属ハロゲン化物並びに鉄、アル
ミニウム若しくはバナジウムの臭化物或いはヨウ化物を
入れたのち所定の圧力に水素で加圧しその後加熱撹拌反
応を行う方法。
(2)予め所定温度、及び水素で所定圧に保たれた加圧
反応器中に所定量の四塩化ケイ素、銅、金属ハロゲン化
物並びに鉄、アルミニウム若しくはバナジウムの臭化物
或いはヨウ化物を連続的に導入しかつ生成ガスを連続的
に抜出し反応を行う方法(3)予め金属ケイ素、銅、金
属ハロゲン化物並びに鉄、アルミニウム若しくはバナジ
ウムの臭化物或いはヨウ化物を反応器中に入れ所定温度
に保ち乍ら水素加圧で四塩化ケイ素及び水素を連続的に
導入し且つ生成ガスを連続的に抜出しながら反応を行い
必要に応じて金属ケイ素、金属銅、金属ハロゲン化物並
びに鉄、アルミニウム若しくはバナジウムの臭化物或い
はヨウ化物を間歇的に導入する方法。
とりわけ大量にトリクロロシランを製造する方法として
(2)又は(3)の方法が望ましい、加えて連続反応を
行うことで1反応によって金属ケイ素は消費されるが、
銅、金属ハロゲン化物並びに鉄、アルミニウム若しくは
バナジウムの臭化物或いはヨウ化物は実質上消費されな
い、従って反応を低温で行えばこれらの揮散を防ぐこと
ができるので反応器中で金属ケイ素に対する銅、金属ハ
ロゲン化物並びに鉄、アルミニウム若しくはバナジウム
の臭化物或いはヨウ化物との比率が高くても、更にこれ
らを継足す必要はそれ番よどないため充分経済的に成立
しうる方法として行える。
立里四来 本発明は四塩化ケイ素をトリクロロシランへ経済的に変
換する極めて有効な方法である。従来行われている反応
温度領域以下である150°C以上で好ましくは四塩化
ケイ素の臨界温度以上で行うトリクロロシランの製造方
法としては極めて有効な方法である。即ち低温でさえ効
率よくトリクロロシランを製造することが出来るため製
造装置の腐食、触媒、添加物等の揮散を抑制することが
出来反応速度が増大する結果反応装置を小型化すること
が可能となった。加えて低エネルギーでトリクロロシラ
ンを製造することが可能となり経済的効果は非常に太き
(工業的にきわめて有用である。
すなわち総括すれば、従来高温反応のため多大のエネル
ギーを要していたものが、低温反応が可能となったため
、これにより大幅なエネルギーの削減が可能となり1反
応容器を小型化出来9反応装置の腐食を抑制し、かつス
チーム等の低温の熱媒体が使用出来るなど、大幅な設備
の削減が可能となるのである。
11■ 以下本発明を実施例によって更に具体的に説明する。
実施例 l 耐圧300にg /cwa”G 、耐湿500℃5US
316製オートクレーブ(内容積200m+1)に、金
属ケイ素(200メツシユ、純度99.9%) 6.0
Og (214mg−ata) 、市販の金属銅粉末8
6.25g (98,4mg−ate) 、塩化第一銅
2.48g(25,0m+wol) 、臭化アルミニウ
ム6.67g(25,Ommol )及び四塩化ケイ素
88.3g  (520msol)を入れた後室温で水
素を40Kg八m”Gに圧入した後、撹拌し乍ら260
℃に加熱しく昇温時間20分)260℃で各々2.5.
1.5.1.O,0,5及びO(昇温直後)時間反応を
行った。後オートクレーブを5°Cに冷却し、常圧に陳
圧し反応液をガスクロマトグラフ法により分析した。結
果は第1表に示したように反応時間1時間で充分反応子
alLtIl成に達しており0.5時間に於いてさえも
殆ど平衡値近くまで反応が進行していることが確認され
た。
第1表 本TC3: )リクロロシラン;src:四塩化ケイ素
を示す、以下同様。
実施例 2 実施例1と同一のオートクレーブに金属ケイ素、金属銅
粉末B、臭化アルミニウム及び四塩化ケイ素をそれぞれ
実施例1と同−量加え、更に塩化第−刷の代わりにこれ
と同一モル量の第2表に掲げたような種々の金属ハロゲ
ン化物を加えてそれぞれ実施例と同一水素圧で260°
Cで0.5時間反応を行った。同様に冷却・降圧後それ
ぞれ反応液を分析した。結果は第2表に示したようにそ
れぞれのハロゲン化物について良い反応活性が認められ
た。
Te3   5TC I  CuC1119,380,7 2NiC1g     21.4   78.63  
FeC1z     20.1    79.94  
FeC1519,980,1 5CrC1z     20.9   79.16  
CoC1g     20.7   79.37  A
gC119,0B1.0 8  TiCl319.6   80.49  ZrC
Im     20.3   79.710  Zr0
C1t     19.8   80.211  Pd
C1g     21.0   79.012 2nC
]z     18.9   81.117  CuB
r      19.1    80.920  Cu
l      18.9   81.121  Ca1
t      19.1   80.922  Hil
t      20.2   79.8実施例 3 実施例1〜2と同一のオートクレーブに実施例2のNo
、  2と同一量の金属ケイ素、金属銅粉末B、塩化ニ
ッケル及び四塩化ケイ素を使用し、臭化アルミニウムに
代えてこれと同一量の鉄、アルミニウム及びバナジウム
の臭化物若しくはヨウ化tlを各々仕込み、実施例2と
全く同一の反応条件でそれぞれ反応を行った後、同様に
して冷却、降圧後反応液を分析した。結果を第3表に示
すがそれぞれ良い収率でトリクロロシランが得られるこ
とが確認された。
第4表 実施例 4 金属ケイ素を純度98%、150メツシユのもの9.0
08に変更した他はすべて実施例2のNo、  2と同
一の反応条件で反応を行い、その後同様にして冷却、降
圧後反応液を分析した0反応液組成はトリクロロシラン
21.2モル%、四塩化ケイ素78.8モル%となり実
施例2のNo、 2と実質的に同一の成績が得られた。
すなわち、原料ケイ素は一般の市販品で充分であること
が確認された。
比較例(ブランク試験) 実施例4と同一の反応条件でA)臭化アルミニウムのみ
を添加しない、B)塩化ニッケル及び臭化アルミニウム
を添加しないでそれぞれ同様に反応を行い同様に冷却、
降圧後反応液を分析した。
結果は第4表に示すように添加率は大幅に低下し金属ハ
ロゲン化物及びアルミニウムの臭化物等の相乗効果によ
り始めて反応が好適に促進されることが判明した。
第4表 B )     4.9   95.1実施例 5 内径25+u+、長さ70抛細のSυ5316製反応管
に金属ケイ素(純度98%) 150g、臭化第一鉄1
0.0g、金属銅粉末810g、塩化ニッケル108を
充填し内圧を10にg/cm”(Hに保ちながら各々第
5表に示した反応温度で四塩化ケイ素と水素(Hz/5
iCIa〜2モル比)の混合気体を空間線速度2.1c
+m/秒で導入し流動状態でそれぞれ反応を行った0反
応ガスは反応器出口より取り出し、大気圧に降圧後70
℃に保温しながらガスクロマトグラフ法によりガス状態
のまま分析した。第5表に定常状態でのトリクロロシラ
ンと四塩化ケイ素の組成を示した。この結果は掻めて効
率よ(トリクロロシランが住成したことを示している。
第5表

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)四塩化ケイ素と金属ケイ素を、水素若しくは水素
    及び塩化水素と反応せしめてトリクロロシランを製造す
    る方法において、該反応を、金属銅、金属のハロゲン化
    物並びに鉄、アルミニウム若しくはバナジウムの臭化物
    或いはヨウ化物の存在下に行うことを特徴とするトリク
    ロロシランの製造方法。
  2. (2)金属ハロゲン化物がCu、Ti、V、Cr、Mn
    、Fe、Co、Ni、Zn、Zr、Mo、Ru、Rh、
    Pd、Ag、Sn、Sb、W、Hg、Pt、Pbの塩化
    物、臭化物およびヨウ化物からなる群より選択される金
    属ハロゲン化物である特許請求の範囲第1項に記載の方
    法。
  3. (3)反応を四塩化ケイ素及び水素が、若しくは四塩化
    ケイ素、水素及び塩化水素が気体状態で行う特許請求の
    範囲第1項記載の方法。
  4. (4)反応を四塩化ケイ素の臨界温度以上で行う特許請
    求の範囲第3項記載の方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10061682A1 (de) * 2000-12-11 2002-07-04 Solarworld Ag Verfahren zur Herstellung von Reinstsilicium
US10065864B2 (en) 2014-07-22 2018-09-04 Hanwha Chemical Corporation Method of preparing trichlorosilan

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10061682A1 (de) * 2000-12-11 2002-07-04 Solarworld Ag Verfahren zur Herstellung von Reinstsilicium
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