JPS6297128A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録媒体に関し、更に具体的には該媒葎に
設けられた媒体構成層の膜品位の高い磁気テープの製造
方法に関する。

（従来技術） 磁気テープ、磁気シート、磁気ディスクのような磁気記
録媒体は、オーディオ分野やビデオ分野やコンピュータ
ー分野で広く使用されている。このよ５な例えば磁気テ
ープは、強磁性粉末等をバインダーに含有、懸濁させた
塗料を塗布する分散型のものが使用されて来たが、最近
高密度記録に対する要望が高まるにつれてバインダーの
分だけ記録密度が小さくなるこの分散型のものにかわっ
て飽和磁化が大きくしかもバインダーを必要としないで
直接に蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等
の気相堆積法或は渡金法等により支持体上に強磁性金属
薄膜を形成できる金属薄膜型磁気記録媒体が多く使用さ
れるようＫなってきた。

しかしながら、このような金属薄膜型磁気記録媒体の強
磁性層は、摩擦係数が大きいため例えばビデオデツキで
走行させたときに磁気ヘッドに擦られていわめるテープ
鳴きといわれる摩擦音を“生じることがある。この摩擦
が甚だしいときはテープがストップすることもある。こ
のように走行性が悪（・のみならず、磁気ヘッド、ガイ
ドローラ、ライナ等との摩擦により傷が付き易いという
こともある。このため、ビデオテープをデツキで再生し
て静止画像をみるときのいわゆるスチル耐久性゛やこの
テープを繰返し再生してその耐久性をみるいわゆる繰返
し耐久性は分散型のものに比べ甚だしく劣り、実用的に
は使用に耐えないというのが現状である。更に金属薄膜
が空気中にさらされるときにその金属が酸素や水分の存
在により酸化されるので耐蝕性、保存性に乏しいという
問題が浮彫されて来た。このように酸化腐蝕されると生
成される例えば酸化鉄は磁性を示さなくなりそれだけ記
録媒体としての記録密度を減少させるのみならず、この
腐蝕された部分や傷が生じた部分がノイズの原因になる
こともある。

また走行性、潤滑性を向上するために設けられるバック
コート層についてもデツキ巡路部材及びバックコート層
自体の損傷が問題になって来ている。

尚バックコート層には必要によってフィラーが一分散含
有させられる。

これらのことを解決するために強磁性金属薄膜、必要按
よりてはバックコート層上に被覆膜（オーバフート層）
を設けることが行われ、種々の無機化合物または有機化
合物を磁性層表面に付着またはオーバコートすることが
行われている。例えば特開昭５６−１４３５４０号には
磁性金属薄膜層にポリウレタン樹脂を主成分とする層を
設けた磁気記録媒体が示されている。また、特開昭５８
−１３３６３１号、同５８−１４６０２７号等にもオー
バコート層に関する技術開示がある。

前述のように磁気記録媒体の層構成が複雑になるにつれ
て重積される眉間の層表上の欠陥（例えば大小のはじき
、凝集顆粒、亀裂）の発生、その波及増大酸は前後して
塗設される層間相互もしくは他方への障害（例えばカー
リング（カッピング）損傷）発生等、電磁変換特性、テ
ープ物性に関する問題のみならず生産技術上の問題がク
ローズ７ノブされて来ており、特に金属薄膜型磁性層を
備える磁気記録媒体に於て障害の発生が多く、磁性層に
致命的な亀裂もしくは塗布むらを生ずることがある。

一方に於て最近磁気記録に関する技術の傾向としては、
例えばオーディオテープ関係ではコンパクトカセット、
マイクロカセットの使用へと移行しつつあり、またビデ
オの分野では現行のＶＨａ方式、β方式から８ミリビデ
オ、電子カメラへと移行しつつあって、いずれも更に小
型化、高密度化、高精度化が指向されているので、例え
ば磁気テープについて言えば、その電磁変換特性、テー
プ膜物性は勿論磁気テープ層表の物質性のよい即ち膜品
位の高い且つテープ変形、癖のない磁気テープが要求さ
れている。

（発明の目的） 本発明の目的は前述のような金属薄上剥の磁気記録媒体
（以後磁気テープと称す）の生産技術上の条件に基づく
構成層不全による磁気テープの特性欠陥を排除した （１）　　塗布欠陥がなく層表均質な高上品位の、（２
）走行性、耐久性、耐久性の良好な、（３）　　ドロッ
プアウトのない 磁気テープの製造方法の提供にある。

（発明の構成） 前記本発明の目的は、支持体の一面に磁性層を形成し、
次いで熱処理を行い、次に下記一般式（１）、（２）ま
たは（３）で表わされる化合物の少なくとも１つを含有
する塗料を前記磁性層層表に塗布し、次いで支持体の他
面にバックコート層を設ける工程順　−列から成ること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法によって達成され
る。

一般式（１１Ｃ１Ｆ２ｎ＋＋　ＣＯＯＭ一般式（２１−
ＣｎＦ２ｎ＋ｘ　ＳＯ３Ｍ一般式（３１（ＣｎＦ２ｎ＋
ｔ　）ｐ　ＮＨ４−ｐ−ｑＸ■ （几）９ 式中、ｎは２０以下の整数、ｐは１〜４の整数、ｑはＯ
〜３の整数である。

Ｍは水素原子、アルカリ金属原子またはアンモニウム基
、Ｘはハロゲン原子である。Ｒはフルキル基、フルケニ
ル基である。但しｐ＋ｑ＝４のとき几がすべてＣＨ３で
あることはない。

次に本発明の詳細な説明する。

本発明で月いるオーバコート塗料には前記一般式（１）
、（２）または（３）で示される化合物（潤滑剤）が用
いられる。

〜前記化合物のうち本発明に好ましい実施態様を与える
化合物は前記一般式に於て、ｎが３〜１０の整数、ｐは
１、またｑはＯまたは１であり、几は炭素原子数が１０
〜２０個のアルキル基、Ｘは塩素原子もしくは沃素原子
である。更ＫＭは水素、男すウムもしくはナトリウムで
ある。

前記化合物（潤滑剤）の具体例を次に掲げる。

〔例示潤滑剤〕

ｆｉｌ　　Ｃ５Ｆ７ＣＯＯＨ （２１Ｃ３ＰｙＣＯＯＫ （３１Ｃｓ　ＰＩ３Ｃ００Ｋ （４１Ｃｓ　Ｆ’１７ＣＯＯＨ （５）Ｃｓ　Ｆｒ７ＣＯＯＫ （６１ＣｌｏＰｉｔ　Ｃ００Ｋ （７１Ｃ３Ｆ７５Ｏ３Ｎａ （８）　　　Ｃａ　Ｆｒ３ＳＯ３Ｋ （９）　　Ｃｙ　Ｆｒ５Ｓ０３に １０１　　　Ｃｌ０Ｆ２１ＳＯ３Ｈ （Ｉｌｌ　　　Ｃ４Ｆ９ＮＨ３１ ＨＣｓ　Ｆｒ２ＮＨ３Ｉ （’３１　　　Ｃｌ０Ｆ２１　ＮＨ３Ｉ（１４（Ｃ６Ｐ
１３）２　ＮＨ２Ｉ −〇、　Ｆ１３ＮＩ（、ＣＩ！ 本発明に係るオーバフート塗料は前記化合物の混合物を
０．ＯＯ５重量％から１重量％含む有機溶剤溶液からな
る。このための有機溶剤にはトルエン、メチルエチルケ
トン、メチルインズチルヶトン、テトラハイドルフラン
、キシレン、ベンゼン、シクロヘキサ７）、メタノール
、エタノール、プルパノール、イングロパノール、ブタ
ノール、エチルセｐンルプ、メチルセｐンルプ等の単独
または混合溶媒が使用される。

前記したように高密度、高精度及び高性能が要求される
磁気テープに於てその層構成は磁性塗料塗布による分散
型磁性層、好ましくは蒸着法、スパッタリング法等によ
って磁性要素を高密度に充填した金属薄膜型磁性層、該
磁性層を化学的、物理的に保護し且つ潤滑性、走行性、
耐久性或は耐蝕性を付与するオーバコート層及び磁気テ
ープの潤滑性、走行性を補食するバックコート層は必須
構成層となって来ている。更にその間にはテープ形状の
カール、カッピング等の矯正熱処理が必要工程となって
来ている。

即ちニーズに適応しうる磁気テープの製造工程としては
磁性層の集積工程（Ｅｖ工程）、矯正熱処理工程（ＨＴ
Ｃ工程、オーバコート層形成工程（ｏｃ工程）及びバッ
クコート層形成工程（ＢＣ工程）は必須工程となって来
ている。尚必要ならばバックコート層に対するオーバコ
ート層形成工程が加えられる。

前記必須４工程はＯＣ工程がＥＶ工程の後にあることを
除けば原則的には七〇頭序は任意である。

しかしながらＢＣ工程後にＥＶ工程を置く場合には磁性
層、バックコート層共に膜損傷（擦傷、亀裂、熱による
膜損傷）が著しく、甚しいドロップアウトを発生する。

従ってＰＪｖ工程はＢＣ工程の前に置かれる。

また本発明に係る前記オーバコート塗料を用いる場合、
ＢＣ工程とＯＣ工程の関係では、ＨＴＣ工程両工程の組
のいづこに介在させるかには関係なく、　　−ＢＣ工程
→ＯＣ工程の順とするとオーバコート層に甚しいはじき
及び塗布むらを発生し走行性、耐久性、耐蝕性の劣化、
ドロップアウトを招き実用に耐える磁気テープかえられ
ない。

更にＨＴＣ工程他の工程の介入を許さすＥＶ工程に直結
させて早々にＥＶ工程で生ずるカッピング等の癖直しを
行うことが効率的である。

尚ＨＴＣ工程の熱処理温度は１１０℃以上であることを
要し、８０〜９０°Ｃで行われるスーパカレンダー処理
では矯正熱処理の効果かえられない。

一方ＥＶ工程−ＨＴ工程−ＯＣ工程の順序からなる工程
順列を選ぶことによって膜品位の高い磁気テープかえら
れるが、該磁気テープにバックフート層を設は特性の更
に優れた磁気テープとする本発明では、前記工程順列で
磁性層側構成層の形成が終った後にＢＣ工程が接続され
る。

本発明に係る工程順列はバインダーに磁性粉等を含有し
た磁性塗料を支持体に塗布して磁性層を構成する分散型
磁気テープの製造に適用してもよい。

尚本発明に係る前記オーバコート塗料を記録媒体の構成
層の層表に適用する場合未乾燥塗布厚み１０μｍ以下、
好ましくは５〜０，５μｍである。厚きに過ぎると層表
の均質性を損い、薄きに過ぎると膜品位を保つことがで
きないし、潤滑性、耐蝕性、耐久性等の重要な効果が失
われる。

尚前記塗布厚みに於て層表への適用量は０．５〜３０１
９　／　ｍ’、好ましくは１〜１０Ｍｇ／ｄである。

尚本発明に係る塗料中に可溶な他の潤滑剤の併用は差支
えない。

このオーバコート塗料を塗布するには、上記塗料に浸漬
するディッピング方式、この塗料を塗り付けるリバース
ルール方式、エクストルージョン方式、ドクターブレー
ド方式、グラビア印刷方式、スプレ一方式等が使用され
、これらにより塗布された塗膜は通常の手段により乾燥
される。

本発明における強磁性金属薄膜としては、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ等の金属或はＦｅ−Ｃｏ、　Ｆｅ　−Ｎｉ　％Ｃｏ
　−Ｎｉ　、　Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ％Ｆｅ−Ｒｈ、　ｒｅ
−ＣｕＳＣｏ−Ｃｕ、　Ｃｏ−Ａｕ、　Ｃ。

−Ｙ　、　Ｃｏ−Ｌａ、　Ｃｏ−Ｐｒ１Ｃｏ−Ｇｄ１Ｃ
ｏ　−８ｍ、　Ｃｏ−Ｐｔ。

Ｎｉ−Ｃｕ、　Ｍｎ　−Ｂｉ　、　Ｍｎ−８ｂ、　Ｍｎ
　−Ａｌ、　ｒｅ−Ｃｒ１Ｃｏ−Ｃｒ、　Ｎｉ　−Ｃｒ
　、　ｒｅ　−Ｃｏ−Ｃｒ　、　Ｆｅ　−Ｃｏ　−Ｎｉ
−Ｃｒ等のような強磁性合金を真空蒸着によって薄膜状
に形成したものが用いられる。この金属薄膜の厚さは５
００Ａから５０００　Ａ位が好ましい。

また、蒸着する際に酸素雰囲気中で蒸着されたものの方
が良好な耐久性を示す。

尚分散型の磁性層及びバックコート層については従来の
技術をそのまま流用することができる。

上記金属薄膜を形成させる支持体としては、ポリエステ
ル、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミ　ド、ポリ
アミ　ド、ポリアミ　ドイミ　ド、ポリ塩化ビニル、三
酢酸セルｐ−ス、ポリカーボネート、ポリエチレンナフ
タレートのようなプラスチックベース或はｌ’、ＡＩ！
合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金、ステンレス鋼のような金属板等
が用いられる。

（実施例） 次に本発明の詳細な説明するが、本発明はこれらに限定
されるものではない。

実施例１ 各工程を次に示す様な条件にしてその工程順列を表１に
示す様にして試料を作製した。

支持体として厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレー
トペースを用いた。

Ｅｖ工程 支持体上ＫＣｏ−Ｎｉ　（Ｎｉ２０　Ｍ　ｉ　％　）　
ヲ厚す１００ＯＡに蒸着して金属薄膜層を形成。

ＨＴＣ工 程持体を１３９℃に加熱したロールと接触させることに
よりカーリングを除去。（搬送速度２０ｍ、１ｉＲ）Ｏ
Ｃ工程 ０７　ＦＩ５ＣＯＯＫの０．１５％エチルセロンルプ溶
液をウェット膜厚が５μｍＫなるようにしてリバースロ
ールツーターにて塗布。（搬送速度２０ｍ／ｍ１Ｒ）Ｂ
Ｃ工程 サンドミルにて十分に混練された次の組成を有する分散
液を磁性層と反対側に塗布。乾燥膜厚０．５μｍ、表面
粗さく几ａ）は０．０２μｍである。

組　　成 カーボンブラック（粒径５９ｍμ、ＢＥＴ値４５　ｍ／
１１　）　−３，５１ 塩化ビニル酢酸ビニル共重合体　　１．８Ｅポリウレタ
ン　　　　　　　　　　　　１．８Ｉシクロヘキサノン
　　　　　　　　　５０　Ｆテトラヒドロフラン　　　
　　　　２４ｇトルエン　　　　　　　　　　　　１８
ｇポリインシアネート硬化剤　　　　　ＩＩ七の製造後
の磁性面の観察結果も合わせて表１に示す。

表　　　１ この結果からもわかるよ５に磁気記録媒体を製造する場
合には、ＥＶ→ＨＴ→ＯＣ→ＢＣの頭に行うと良好な結
果かえられる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 支持体の一面に磁性層を形成し、次いで熱処理を行い、
   次に下記一般式（１）、（２）または（３）で表わされ
   る化合物の少なくとも１つを含有する塗料を前記磁性層
   層表に塗布し、次いで支持体の他面にバックコート層を
   設ける工程順列から成ることを特徴とする磁気記録媒体
   の製造方法。 一般式（１）Ｃ＿ｎＦ＿２＿ｎ＿＋＿１ＣＯＯＭ一般式
   （２）Ｃ＿ｎＦ＿２＿ｎ＿＋＿１ＳＯ＿３Ｍ一般式（３
   ）▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ｎは２０以下の整数、ｐは１〜４の整数、ｑは
   ０〜３の整数である。 Ｍは水素原子、アルカリ金属原子またはアンモニウム基
   、Ｘはハロゲン原子である。Ｒはアルキル基、アルケニ
   ル基である。但しｐ＋ｑ＝４のときＲがすべてＣＨ＿３
   であることはない。〕