JPS6264591A - ゴム印字体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、第３図に示すごときゴム印判の分野において
１台木１の下端面に貼着されるべきゴム印字体２．すな
わち表面に印字部５が突出形成されたゴム印字体２の製
造方法に関する。

より詳しくは、印字面へのインクの付着性を改善して紙
面へのインクの転写性を良好に確保するために、非多孔
性ゴムベース層３の表面に極薄の多孔性ゴム被膜層４を
一体に積層形成した断面構造のゴム印字体２を製造する
方法に関する。

〔従来の技術〕

この種のゴム印字体２に関する従来技術として。

実開昭５５−６３７６３号公報がある。これを第４図で
説明すると２台木１の下端に貼着されるゴム印字体２が
、気泡の殆ど存在しないゴムベースｒｒＩ３の表面に多
孔性ゴム被膜層４を一体に積層形成してなり２台木１に
ゴムベース層３を接着して使用に供したとき、多孔性ゴ
ム被膜層４に含ませたインクで連続捺印できるものとな
っている。

そこでは、未加硫のゴム物質に食塩などの易溶性物質を
均一に混合して、成形金型で加硫成形したのち、中間成
形品を液の中に入れて易溶性物質を抽出することにより
、多孔性のゴム印字体２を得ている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、前出の実開昭５５−６３７６３号公報に示す従
来例では、１０回以上の鮮明な連続捺印を可能にするこ
とを眼目とする。そのために、ゴム印字体２の全厚を略
３．Ｏｆｌとしたうえで、多孔性ゴム被膜層４を略１．
Ｏｆｉ厚に設定している。これでは表面の多孔性ゴム被
膜層４が厚くなり過ぎ。

突出形成される印字部５の全体が多孔性ゴム被膜層４で
構成された断面構造を採る。

かかる従来例では第１に、前記印字部５が元々微細な凹
凸レリーフに仕上げられているところへ多孔化で材質的
に脆弱になっているので、該印字部５が使用中に簡単に
欠落しやすい。

第２に、押捺時に印字部５が過剰に圧縮変形して、印影
の型崩れやインクのベタつきが生じることを避けられず
、過剰圧縮を接当規制するストッパ手段を持たない２本
発明が対象とするゴム印判には現実の使用に供すること
が困難である。

第３に、多孔性ゴム被膜層４が分厚＜、シかもゴムベー
ス層３も基本的には多孔性に形成するものであるから、
中間成形品から易溶性物質を抽出するのに元々時間を要
するところ、この抽出作業に手間取り、形成サイクルす
なわち生産性が悪い。

第４に、未加硫ゴム物質に易溶性物質を均一に混合した
のち加硫成形しその中間成形品を液中に入れて易溶性物
質を抽出したとき、ゴム印字体２の全体が易溶性物質の
混合量に見合う同一の気孔率を持つものとなる筈である
。これを従来例のようにゴム被ＩＩ！ｉ！層４の気孔率
は大に設定して、ゴムベース層３の気孔率を無きに均し
い数値に形成することは、特殊な処理を要して製造工程
が面倒になると想像できる。

第５に２本発明が対象とするゴム印判においては、ゴム
印字体２の表面レリーフにもよるが、その大小（紙面へ
の接触面積の大小）と、ゴムベース層３の硬度と、ゴム
印字体２の全厚つまりゴムベース層３に対するゴム被膜
層４の厚みとの相互関係が問題になる。例えば、ゴムベ
ース層３の硬度が大でゴム被膜層４の厚みが小だと、ゴ
ム印字体２の面積が大きい場合に印影の一部が掠れがち
になるであろうし、逆にゴムベース層３の硬度が小さ過
ぎるどゴム印字体２の面積が小さい場合に印影がベタつ
いて型崩れを起こしやすくなるからである。しかし、ゴ
ム印字体２の大小に合わせてゴムベース層３の硬度およ
びゴム被膜層４の厚みをその都度、変更することは多品
種のゴム印字体２を用意しなければならなくなり、製作
コストを考えると得策ではない。従来例にはこの点に関
する認識が欠けている。因に、従来例にもゴム硬度を５
０〜６０’に設定する旨の記載が認められるが、それが
二層構造を採るゴム印字体２の全体の硬度を意味するの
か、多孔性ゴム被ｉ［ｉｉ４これ単独の硬度を意味する
のか不明であり、そこに意義を見い出し難い。

〔発明の目的〕

本発明の目的は１表面へのインクの乗りが易くて紙面へ
のインクの転写性が良好に確保できるゴム印字体を得る
にある。

本発明の目的は２表面に突出形成される印字部が欠落し
難く、耐久性に優れたゴム印字体を得るにある。

本発明の目的は、ゴム印字体が簡単かつ高精度に成形で
き、生産性の向上に資する製造方法を提供するにある。

本発明の最も１要な目的は、ゴム印字体の断面形態が単
一仕様でも、これの大小にかかわらず対応できるものと
するにある。すなわち、ゴム印字体の面積が２例えばｌ
ＱｃｍＸ３ｃ１２１程度の大判のものから７１１角の小
型のものまで単一仕様で対応できるようにすることにあ
る。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、まず第２図に示すごとく未加硫のシート状第
１ゴム物質３ａの表面に、゛塩類やｔｉｎなどの易溶性
物質を含む未加硫の第２ゴム物質４ａを塗布する工程と
、この第１・第２ゴム物質３ａ・４ａを金型に入れて加
硫するとともに２表面に印字部５を突出成形する工程と
、成形後の中間成形品を液のなかに入れて第２ゴム物質
４ａから易溶性物質を抽出する工程とを経る。

かくして、第１図に示すごとく第１ゴム物質３ａでゴム
硬度が５５〜６５°、更に好ましくは６２〜６４°に設
定された非多孔性ゴムベース層３を形成するとともに、
該ゴムベースｒｇ３の表面に第２ゴム物質４ａで平均厚
さが０．１〜０．３５ｍ＋ｉ。

更に好ましくは０．２５〜０．３５ｍに設定された多孔
性ゴム被膜層４を一体に積層形成し、前記印字部５の突
出部分における全高Ｈが２．０〜３．０　ｍに設定され
たゴム印字体２を製造するものである。

ここで、ゴムベース層３のゴム硬度を５５〜６５°に設
定したのは、５５°より下の軟らかなものになると、ゴ
ム被膜層３の厚みを極力小さくしてもゴム印字体２の面
積が小さいときに印影が形部れする。一方、６５°を越
えて硬くなると、ゴム印字体２０面積が大きいときに凹
凸を有する紙面への密着性が悪くなって印影が部分的に
掠れがちになるからである。

また、ゴム被膜層４の平均厚さを０．１〜０．３５關に
設定したのは、０．３５ｆｌを越えるとこれ自体の圧縮
変形性が高くなり過ぎてゴム印字体２の面積の大小にか
かわらず（特に小さい場合に顕著であるが）、インクを
保有し過ぎて印影の型崩れとインク過多によるベタつき
を招く。逆に厚みが０゜１Ｂより下回ると、ゴムベース
Ｆｆ３の一部が外部に露出するおそれがあり、かつゴム
被膜層４がインクを吸着するという元来の機能が十二分
に発揮されず１　とくにゴム印字体２の面積が大きい場
合に僅かでも紙面に片当り状態になると転写不良を招く
ことになるからである。

〔発明の効果〕

以上のようにした本発明によれば１台木１の下端面に貼
着されるゴム印字体２が非多孔性のゴムベース層３を主
体として構成され、このゴムベース層３が５５°〜６５
°のゴム硬度を有するものとしたから、全体的に適度の
弾性を有して押し心地が良い。また１紙面への密着性、
つまり吸い付き（当り）がよくてゴム印字体２の表面が
片当り状態になることをよく防止でき、とくに大型のゴ
ム印判に有効である。

そのうえで、ゴムベースＩ’ｉｔ３の表面に平均厚さが
０．１〜０．３５１１の多孔性ゴム被膜層４を一体に積
層形成した。従って、ゴム印字体２をインクスタンプ台
に押圧接触させたとき、インクがゴム被膜層４の微細な
気孔中によく吸着捕捉され、ゴム印字体２の表面へのイ
ンク付着性が良好になり。

ゴム被膜層４を紙面に押圧したとき２紙面へのインクの
転写性も良好に確保できる。

とくに１本発明ではゴム印字体２の印字部５における全
高Ｉ（を２．０〜３．ＯＲに設定したうえで。

ゴム被膜ｒｆｉ４の平均厚さを０．１〜０．３５ｍとい
う極薄に設定してこれ自体の圧縮変形量を抑え、かつゴ
ムベース層３の硬度を５５〜６５°に設定した。したが
って、まず第１にゴムベース層３の一部がゴム被膜層４
を突き破って印字表面に露出するといった成形不良をよ
く防止できる。第２に。

ゴム印字体２の面積が大きいときにも、ゴムベース層３
の適度の弾性と厚さにより１紙面への密着性を良好に確
保できる。第３に、ゴム印字体２の面積が小さいときに
も、ゴム被膜層４は厚さの上■が０．３５ｎ＋に抑えら
れているので、ストッパ手段なしでこれの過剰な圧縮変
形をよく防止できる。

第４に、ゴム印字体２の印字部５における全高Ｈが２．
０〜３．Ｏｎであるに対し、ゴム被膜層４の平均厚さは
０．１〜０．３５　ｍｍあるから、突出印字部５の全体
が多孔質に構成されることはなく、この点でも印字部５
の過剰な圧縮変形を抑えて印影をシャープなものに保証
する。これら相俟って単一仕様のゴム印字体２でありな
がら、大小に違いのあるゴム印にもよく対応でき、常に
印影の型崩れやインクのベタつきを確実に防止できると
ころに最大の利点を有する。

また、ゴム印字体２の断面構造を単一仕様にできるので
、ゴムベース層３や特にゴム被膜層４の厚さにバラつき
がなく、これらを構成するゴム物質３ａ・４ａも同じも
のを使えることになり、高品質のゴム印字体２を安価に
大量生産するに向いている。

更に、ゴム被膜層４を多孔質にするために、その製造に
際し、中間成形品を液中に入れてゴム物質４ａから易溶
性物質を抽出する工程に最も時間を要するが１本発明で
はゴム被膜Ｆｉ１４をその仕上がり平均厚さが０．１〜
０．３５ｆｌとなるように極めて薄く設定し、かつ表面
のゴム物質４ａからのみ易溶性物質を抽出すればよいも
のとしたので、この抽出工程を短時間で行え、この点で
も成形サイクルを高めて生産性の向上を期すことができ
る。

その他、ゴム印字体２は台木１の下端に非多孔性コムベ
ースＩＷ３を介して貼着するので、インクが該ゴムベー
ス層３を通して接着材にまでに浸透せず、従って台木１
に対するゴム印字体２の接着力も長期にわたってよく確
保できることになる。

〔実施例〕

第２図において、１，５〜２．３１の厚さを有する未加
硫のシート状第１ゴム物質３ａの表面に、塩類・糖類等
の易溶性物質を混合した未加硫の第２ゴム物質４ａをハ
ケ又はヘラなどで薄く塗布する。

次に、この第１・第２ゴム物質３ａ・４ａを金型内に入
れて加熱加圧下で両ゴム物質３ａ・４ａを加硫するとと
もに２表面に印字部５を突出状に成形したのち、その中
間成形品を液の中に入れて第２ゴム物質４ａから易溶性
物質を抽出し、最後に所望の幅員に切断してゴム印字体
２をつくった。

しかるときは、第１に示すごとく第１ゴム物質３ａで非
多孔性のゴムベース層３が形成され、該ゴムベース層３
の表面に第２ゴム物質４ａで多孔性のゴム被膜層４が一
体に積層形成される。

第２ゴム物質４ａの塗布厚を０．５　ｖｍにしたときの
ゴム被１１！Ｊｉｔ４の成形後の平均厚さは約０．３　
＊ｘ程度になった。ゴム被膜層４の空隙率は６０〜９０
％、好ましくは６８〜７０％に設定した。ゴム印字体２
の大小にもよるが、これの突出印字部５における全高Ｈ
は２．０〜３．　ＯＮＮの値に設定した。

ゴムベース層３とゴム被膜層４とを構成するゴム物質３
ａ・４ａは互いに相溶性を有する。好ましくは同一物質
、一般にＮＢＲ（アクニロニトリル・ブタジェン・ゴム
）からなる。天然ゴム（ＮＲ）やポリ塩化ビニル、塩化
ビニル・塩化ビニリデン共重合体などを用いることもで
きる。

かくして得たゴム印字体２を台木１の下端面にゴムベー
ス層３を介して直接に貼着し、第主図に示すゴム印判を
得た。ゴム印字体２は弾性マット部材などを介して台木
１に貼着してもよい。台本１は木製に限られず、とくに
小型のゴム印においではプラスチック材で成形されるこ
ともある。

因に１本発明者の試作したところによれば、ゴムベース
層３のゴム硬度が６３°で、ゴム被ＨＥＮ４の厚みが０
．３　ｕ＋のゴム印字体２によるときは。

大半のゴム印判、すなわちｌＱｃｍＸ３ｃｍの大判のも
のから７鶴角の小型のものまで同一仕様でよく対応でき
た。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第３図は本発明の実施例を示しており、第
１図は要部の縦断面図、第２図はゴム印字体の製造途中
の状態を示す断面図、第３図は本発明が対象とするゴム
印判の外観斜視図である。 第４図は従来のゴム印字体を示す要部の縦断面図である
。 １・・・・台本。 ２・・・・ゴム印字体。 ３・・・・非多孔性ゴムベース層。 ３ａ・・・ゴムベース層を構成するゴム物質。 ４・・・・多孔性ゴム被膜層。 ４ａ・・・ゴム被膜層を構成するゴム物質。 ５・・・・印字部。 第３図 ゴム印字体　　　　　　多孔性ゴム被膜層第４図 第１図 第２図 ｊａ刀ｌコム吻買

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）台木１の下端に貼着されるゴム印字体２の製造方
   法において、 未加硫のシート状第１ゴム物質３ａの表面に、塩類や糖
   類などの易溶性物質を含む未加硫の第２ゴム物質４ａを
   塗布する工程と、 この第１・第２ゴム物質３ａ・４ａを金型に入れて加硫
   するとともに、表面に印字部５を突出成形する工程と、 成形後の中間成形品を液のなかに入れて第２ゴム物質４
   ａから前記易溶性物質を抽出する工程と、第１ゴム物質
   ３ａでゴム硬度が５５〜６５°に設定された非多孔性ゴ
   ムベース層３を形成するとともに、該ゴムベース層３の
   表面に第２ゴム物質４ａで平均厚さが０．１〜０．３５
   ｍｍに設定された多孔性ゴム被膜層４を一体に積層形成
   し、前記印字部５の突出部分における全高Ｈが２．０〜
   ３．０ｍｍに設定されたゴム印字体の製造方法。