JPH026634B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は表面に凹凸レリーフの印字面を有す
るゴム印字体の製造方法に関し、より詳しくは非
多孔性のゴムベース層の表面に薄手の多孔性ゴム
被覆層が一体形成された断面構造のゴム印字体を
製造するに際し、この多孔性ゴム被覆層を全面に
亘つて所望の均等な厚みに成形できるようにする
ことを目的とする。

すなわち、第１図に示す如き回転印において
は、ベルト状のゴム印字体Ａが手送り回転操作可
能に巻き掛けられており、このゴム印字体Ａの表
面には凹凸レリーフの印字面１が一定間隔置きに
突出形成されている。また、第２図に示す如きゴ
ム印においては、台木２の下面に同じく凹凸レリ
ーフの印字面１が形成されたゴム印字体Ａを貼着
したものとなつている。この発明はこの種のゴム
印字体Ａを対象とする。

〔背景技術〕

これらのゴム印字体Ａが通常の非多孔性ゴム材
で成形されたものでは、これの表面（印字面）に
水溶性インクが乗り難く、紙面への押印時に印影
が掠れる。これはゴム印字体Ａの表面にインクを
積極的に吸着捕足する手段が無いからである。

そこで、本出願人は先に第３図に示す如き断面
構造のゴム印字体Ａを提案した（実願昭57−
194190号、同58−96086号）。この第３図は回転印
用のゴム印字体を例示しているが、これの基本構
造は厚手の非多孔性ゴムベース層３の表面に極薄
の多孔性ゴム被覆層４を一体に積層形成したもの
であり、これによるときは多孔性のゴム被覆層４
の微細な気孔の中にインクが吸着され、押印時の
圧縮変形でインクが表面に絞り出されるので、紙
面に対するインクの転写性が飛躍的に向上でき
た。

この種のゴム印字体Ａと似て非なるものに連続
捺印を目的とする自動印判のゴム印字体がある。
この自動印判におけるゴム印字体ａは、例えば第
５図に示す如く空隙率の大きい多孔性の第１ゴム
層５の表面に、空隙率の小さい多孔性の第２ゴム
層６を積層形成し、第１ゴム層５に吸蔵したイン
クを第２ゴム層６に移行させて第２ゴム層６の表
面を紙面に押圧するものである。これでは第１ゴ
ム層５は勿論のこと第２ゴム層６もインクを吸蔵
させるために厚い。その結果、全体の腰が弱く、
紙面に押すと多孔性ゴム層５，６が全体に大きく
圧縮変形して、過剰なインクで印影がベタついて
不鮮明になる。つまり圧縮性が過剰であるために
ゴム印字体を強く押し過ぎないように接当規制す
るストツパー手段が不可欠である。それに、これ
らの多孔性ゴム層５，６は空隙率が一般に60〜90
％程度に設定されているので当然に脆弱であり、
第１図および第２図に示すゴム印字体のように印
字面１を突出させたとき突出印字部が欠落しやす
い。いずれにせよ、本発明が対象とするゴム印字
体Ａにおける多孔性ゴム被覆層４は厚みが0.05〜
0.5mm程度のものであつて、連続捺印を主目的と
しておらず、自動印判のゴム印字体ａとは根本的
に異なるものである。

さて、本発明が対象とするゴム印字体Ａの製造
は、従来一般に第６図に示すごとく適当な厚さを
有する未加硫のシート状第１ゴム物質３ａの表面
に、塩化ナトリウムなどの易溶性物質およびトル
エンなどの溶剤を混合した未加硫の液状第２ゴム
物質４ａを薄く塗布する。次に金型内にいれて加
熱加圧下で両ゴム物質３ａ，４ａを同時に加硫す
るとともに、印字面１を含む全体形状を成形す
る。そして、この成形品を液の中に入れてゴム物
質４ａから易溶性物質を抽出し、最後に所望の幅
員に切断してゴム印字体Ａをつくつていた。しか
るときは、第１ゴム物質３ａで非多孔性のゴムベ
ース層３が構成され、第２ゴム物質４ａで多孔性
のゴム被覆層４が形成されて第３図の断面構造に
なつていた。

この従来方法で問題なのは第１ゴム物質３ａに
第２ゴム物質４ａを塗布したのち、両ゴム物質３
ａ，４ａをひとつの金型内で同時に加硫成形する
点である。

すなわち、成形時に両ゴム物質３ａ，４ａは金
型内で所定の凹凸レリーフを有するように圧縮を
受けるが、このとき両ゴム物質３ａ，４ａは共に
未加硫状態にあるから金型内で流動する余地があ
る。しかるに、製品ゴム印字体の印字面１に形成
されるべき凹凸レリーフは均一ではなく大小・粗
密があり、しかもゴムベース層３を構成する第１
ゴム物質３ａはかなりの厚手であるが、ゴム被覆
層４を構成する第２ゴム物質４ａは塗布厚で0.05
〜0.5mmという極薄である。そのため、第１ゴム
物質３ａと第２ゴム物質４ａとが成形時が金型内
で流動して混じり合い、特に第２ゴム物質４ａが
第１ゴム物質３ａの表面で部分的に厚く又は薄く
なる。

製品化したときの従来のゴム印字体の断面は概
して第７図に示すようである。つまり、 (1) 印字面１の突部における肩部７に第２ゴム物
質４ａが特に厚く偏つて該肩部７でゴム被覆層
４が必要以上に分厚くなる。これは押印したと
き印影が型崩れしてシヤープではなくなること
を意味する。

(2) 第２ゴム物質４ａが第１ゴム物質３ａの中に
大きく回り込んで（符号８で示す部分）、ゴム
ベース層３の中にまでゴム被覆層４が巣くつた
状態で形成される。こうなると、ゴムベース層
３の元来の機能が半減して腰が弱くなり過ぎ、
押印時に印影が型崩れすることは勿論のこと、
多孔性ゴム被覆層４の回り込みで該当部分８か
ら突出印字部が欠損しやすくなる。

(3) 印字面１の前記肩部７を除く突出端面に、ゴ
ム被覆層４が形成されずにゴムベース層３が部
分的に露出した状態となり（例えば符号９で示
す部分）、押印時に該当部分９が先当りして印
影が掠される。とくにゴム印字体の表面の凹底
面、なかでも第１図に示す回転印用のゴム印字
体では隣接する印字面１，１間に深溝１０が形
成されるが、この深溝１０の溝底面１０ａなど
には殆どゴム被覆層４が形成されない状態とな
る。これらの凹部にゴム被覆層４が所定の厚み
が或いは全く形成されなくても機能的にはさほ
どの支障を生じない。しかし、一般には通常の
非多孔性ゴム材のみで形成されたゴム印字体
（いわゆる赤ゴムと称されているもの）と区別
するために、ゴム被覆層４を青色などに着色す
るが、そうした場合に部分的な色変わりの箇所
が多数出現して商品化するに難が出る。

これらの従来方法による欠点は、思うに印字面
１のレリーフの深さが一定でも大小（印字面１の
突出部の幅）がさまざまであり、凹凸が複雑に密
集している場合もあれば逆に粗い場合もあり、こ
れに伴つて金型内で加硫成形したとき、ゴムベー
ス層３も含めて表面が凹凸状に成形されるわけだ
から、第２ゴム物質４ａの未加硫状態での塗布厚
が一定であつても、製品化したときにゴム被覆層
４の厚みがレリーフによつて当然に影響を受ける
ことによる。一般にはレリーフの粗いところでは
多孔性ゴム被覆層４の厚みは大きくなり、密なる
ところでは逆に薄くなる傾向が認められる。

更に困難なことに、印字面１の全体の面積が小
さいゴム印字体では一般に印字面１のレリーフが
細かくて密であるところ、多孔性ゴム被覆層４の
厚みは薄く設定する必要がある。なぜなら、同じ
力で紙面に押しつけても印字面１の面積が小さい
ときは単位面積当りの受圧力は面積の大きいもの
より強くなるため、印字面１の型崩れを防止する
うえでゴム被覆層４の厚みを薄く設定しなければ
ならないからである。しかし、第２ゴム物質４ａ
の塗布厚はある限度を超えて薄くするとゴムベー
ス層３の一部が外部に露出する事態を招くので限
界があり（本発明者の経験では0.05mmが限界）、
総じてゴム被覆層４が部分的に厚くなり過ぎる傾
向がある。すなわち、活字の大きさで４号以下の
小さいものになると、第８図に示すごとく突出印
字部が完全にゴム被覆層４のみで構成されるとい
つた事態が招きがちであり、そのため突出印字部
が脆弱で欠損を受けやすい。印字面１の面積が大
きいゴム印字体においても印字面１におけるゴム
被覆層４の厚みムラを招き、この場合は逆にゴム
ベース層３がゴム被覆層４を突き破つて外部に露
出しがちである。

つまるところ従来の製造方法では第２ゴム物質
４ａの塗布厚をいかに注意深く均一化しようと
も、印字面１のレリーフによつて製品後のゴム被
覆層４に厚みムラが生じることが避けられなかつ
たのである。

〔発明の目的〕

この発明は、かかる従来の不具合を解消するた
めに提案されたものであり、基本的には第３図に
示すごとき断面構造のゴム印字体を得るについ
て、印字面１のレリーフに大小や粗密があつて
も、非多孔性ゴムベース層３の表面に多孔性ゴム
被覆層４が全面にわたつて均一に加硫成形できる
ようにすることを第１の目的とする。

更に、多孔性ゴム被覆層４は元来が脆弱であ
り、これが非多孔性ゴムベース層３から簡単に剥
がれるようでは製品化したときの耐久性の点で問
題がある。そこで、本発明は非多孔性ゴムベース
層３に対して多孔性ゴム被覆層４を剥離すること
なく不離一体に結着させることを第２の目的とす
るものである。

〔発明の内容〕

上記の目的を達成するために、この発明では未
加硫のシート状第１ゴム物質３ａを金型内で加硫
成形して表面に所定のレリーフを有する一次成形
品１１を得る工程と、この一次成形品１１の表面
に易溶性物質を含む未加硫の液状第２ゴム物質４
ａを均一に塗布する工程と、一次成形品１１を同
一形状の金型で加硫して二次成形する工程と、二
次成形品１３から前記易溶性物質を抽出する工程
とを経て、第１ゴム物質３ａで非多孔性ゴムベー
ス層３を構成し、第２ゴム物質４ａで多孔性ゴム
被覆層４を構成する基本形態とする。

但し、本発明者は実際に一次成形品１１に第２
ゴム物質４ａの全量を塗布して直ちに二次成形に
移したところ、製品後に多孔性ゴム被覆層４が非
多孔性ゴムベース層３から剥がれ易いことを知つ
た。そこで一次成形する前に第２ゴム物質４ａと
同質の第３ゴム物質を極薄で塗布したのち一次成
形し、以後は同じ要領で第２ゴム物質４ａの塗
布、次いで二次成形を行ない、第３ゴム物質の存
在でゴム被覆層４のゴムベース層３からの剥離を
無くするようにしたものである。つまり、液状ゴ
ム物質４ａを２回に分けて塗布するようにしたこ
とを特徴とするものである。

具体的には第４図において次の工程を経て製造
することになる。

第１工程： まず、第４図ａに示すごとく、未加硫のシート
状第１ゴム物質３ａの表面に易溶性物質１２およ
び溶剤を含む未加硫の液状第３ゴム物質４′ａを
極薄にスプレーガンなどで均一に塗布する。

第２工程： 次に第３ゴム物質４′ａの中の溶剤を飛ばして
適度に乾燥したのち、第１ゴム物質３ａを金型に
入れて加硫成形し、表面に所定のレリーフを有す
る一次成形品１１を得る。第４図ｂはこの一次成
形品を示す。なお、この一次成形に際しては形が
できて金型から取り出せる程度の半加硫状態（通
常は50〜70％程度の加硫状態に止める）にし、完
全に加硫しない。また、この一次成形金型にシリ
コーンオイル、ふつ素などの離型剤を塗つてある
と、次の二次成形時における第３ゴム物質４′ａ
上への第２ゴム物質４ａの接着性が悪くなるの
で、離型剤なしで一次成形できるようゴム物質の
材料を選んでおくことが望まれる。

第３工程： この一次成形品１１の表面に、第４図ｃに示す
ごとく易溶性物質１２および溶剤を含む第３ゴム
物質４′ａと同一の第２ゴム物質４ａをスプレー
ガンなどで均一に塗布する。つまり、同じ液状ゴ
ム物質をこの段階で再び塗るわけである。第２ゴ
ム物質４ａと第３ゴム物質４′ａを合計した塗布
厚は製品化したときのゴム被覆層４の厚みを0.05
〜0.5mmにする必要な厚みである。そして第３ゴ
ム物質4'aの塗布量は第２ゴム物質４ａの少なく
とも半分以下、実際には全量の1/10から1/7程度
にしておく。因に、レリーフの凹所にゴム物質４
ａが多く溜ることは実際上全く支障がなかつた。

第４工程： 第２ゴム物質４ａ中の溶剤を飛ばして適度に乾
燥したのち、一次成形品１１を一次成形用金型と
同一形状の金型に入れて主に第２ゴム物質４ａを
含む全てのゴム物質３ａ，４′ａを完全に加硫成
形し、第４図ｄに示すごとく１ゴム物質３ａと第
２ゴム物質４ａとを第３ゴム物質４′ａを介して
一体化した二次成形品１３を得る。この際の二次
成形用金型は一次成形用金型と同じものを使用し
てもよいが、連続成形の都合で一次成形用金型と
同一形状の別の金型を使用してもよい。

第５工程： 二次成形品１３を適当な液の中に漬け込んで加
硫剤の第２ゴム物質４ａおよび第３ゴム物質４′
ａ中に混合せる前述の易溶性物質１２を抽出す
る。

かくして得られたシート状の二次成形品１３を
裁断して所望形状の製品ゴム印字体Ａをつくれ
ば、第１ゴム物質３ａで非多孔性ゴムベース層３
が、第２ゴム物質４ａと第３ゴム物質４′ａとで
多孔性ゴム被覆層４がそれぞれ構成されて第３図
の断面構造のものとなる。

ゴムベース層３を構成するゴム物質３ａとゴム
被覆層４を構成するゴム物質４ａ，４′ａとは、
互いに相溶性を有する同一物質、一般的には
NBR（アクニロニトリル・ブタジエン・ゴム）か
らなる。天然ゴム（NR）を用いることもでき
る。

非多孔性のゴムベース層３は、もともと適度の
弾性を付与して紙面への当り、つまり押し心地を
よくし、凹凸を有する紙面への密着性を図り、印
字面１への成形加工時における高低のバラつきを
吸収するためのものであり、軟らかくなり過ぎる
と、多孔性ゴム被覆層４の厚みを極力小さくして
も特にゴム印字体Ａの受圧面積が小さいときに形
崩れする。また、ゴムベース層３が硬くなり過ぎ
ると、押し心地が悪くなるとともに、とくにゴム
印字体Ａの面積が大きいときに凹凸を有する紙面
への密着性が、薄い多孔性ゴム被覆層４だけでは
対応し切れなくなつて印影が部分的に掠れること
になる。したがつて、ゴムベース層３のゴム硬度
としては45゜〜70゜、好ましくは52゜〜68゜、さらに
好ましくは62゜〜64゜の範囲内であることが望まれ
る。また、ゴムベース層３は厚みが不足すると本
来の機能が発揮されず、厚すぎると特に印字面１
の面積が小さいときに腰が弱くなつて型崩れを招
くので、第３図において印字面１を有する印字台
部分で1.0〜1.5mm程度に設定することが推奨され
る。

多孔性ゴム被覆層４の厚みは一般に0.5mmを越
えるとこれ自体の圧縮変形性が高くなり過ぎ、従
来の自動印判にみられる多孔性ゴム層におけると
同様に、ゴム印字体Ａの面積の大小にかかわらず
（特に小さい場合に顕著であるが）、インクを保有
し過ぎて印影の型崩れとインク過多によるベタつ
きを生じる。逆に厚みが0.05mmより下回ると、ゴ
ムベース層３の一部が外部に露出するおそれがあ
り、かつゴム被覆層４がインクを吸着捕足すると
いう元来の機能が十二分に発揮されず、ゴム印字
体Ａの面積が大きいときに僅かでも紙面に片当り
状態になると転写不良を招く。従つてゴム被覆層
４の厚みは0.05〜0.5mmの範囲であることが望ま
れる。この厚みはすなわち第１ゴム物質３ａの表
面に対する第３ゴム物質４′ａ次いで第２ゴム物
質４ａの塗布厚で決定される。尤も、当業界で汎
用されている数字印の大きさの単位としては特大
号、初号、１号、２号、３号、４号、５号、６号
が知られれており、例えば特大号や初号といつた
大きさでは1.5mm程度の厚みでも使用に耐えるし、
逆に４号以下になると0.5mm厚では厚過ぎて印影
の型崩れ、インクのベタつきは避けられず、この
塗布厚は相対的なものである。そして、多孔性ゴ
ム被覆層４の空隙率は60〜90％好ましくは68〜70
％に設定する。

また、易溶性物質１２としては一般に塩化ナト
リウムが使用されるが、その他の糖類でもよい。
通常使用される塩化ナトリウムの場合、ゴム１重
量部に対して３〜６重量部、更に好ましくは3.5
〜４重量部を混合するのがよい。６重量部を越え
るとゴム被覆層４が極端に脆弱になつて耐久性の
点では問題があり、３重量部以下になるとインク
の付着性が不満足になるからである。第２・第３
ゴム物質４ａ，４′ａを溶解する溶剤もトルエン
その他のゴム用であれば何でもよい。

ここで注目すべき易溶性物質１２の存在であ
る。塩化ナトリウムを使用した実施例での本発明
者の知見ではあるが、この塩化ナトリウムが二次
成形時における第３ゴム物質４′ａと第２ゴム物
質４ａとの結着性に重大な作用を及ぼしている。
すなわち、一次成形品１１の表面形態は第７図に
示す従来例のそれよりも更に激しく第３ゴム物質
４′ａが第１ゴム物質３ａ上において不均一な厚
みの半加硫状態で成形されれるが、一次成形品１
１の表面は塩化ナトリウムの存在で粗面に仕上が
つており、かつ特に第１ゴム物質３ａ中のワツク
スが表面に浮き出るのを抑えている。その結果、
二次成形したとき、第３ゴム物質４′ａはこれが
半加硫状態であること及び第２ゴム物質４ａと同
一物質であるたことも手伝つて第３ゴム物質４′
ａと第２ゴム物質４ａとの食いつきが飛躍的に向
上する。

〔実施例〕

未加硫のシート状第１ゴム物質３ａの表面に塩
化ナトリウムとトルエンを含む液状の第３ゴム物
質４′ａをスプレーガンで0.01mm厚に噴霧塗布し、
第３ゴム物質４′ａ中のトルエンを飛ばしたのち、
第１ゴム物質３ａを金型に入れて表面に所定のレ
リーフを有する一次成形品１１を得た。この一次
成形品１１は50％程度の半加硫状態に止めた。次
に、一次成形品１１の表面に第３ゴム物質４′ａ
と同一の第２ゴム物質４ａをスプレーガンで0.06
mm厚に噴霧塗布したのち、第２ゴム物質４ａ中の
トルオエンを飛ばした。次に、乾燥後の一次成形
品１１を同じ一次成形時の金型に入れて再び加硫
成形し、この場合は完全に加硫して二次成形品１
３を得たのち、この二次成形品１３を水の中に漬
けて前述の塩化ナトリウムを溶解抽出した。最後
に所望の幅員に切断してゴム被覆層４の厚みが
0.05mmの第１図に示す回転印に用いる４号活字の
ゴム印字体Ａ（数字印）をつくつた。しかるとき
は、非多孔性ゴム被覆層４の厚みは凹凸レリーフ
の大小や粗密に影響を受けず、全面的に均一に仕
上がり、かつゴム被覆層４がゴムベース層３から
全く剥離しないものが得られた。

〔変形例〕

なお、第３図は回転印用のゴム印字体Ａの断面
構造を示すものであるが、これではゴムベース層
３の下面に一体結着されれるべき補強布などは説
明の都合上省略してある。ゴムベース層３とゴム
被覆層４との間に、該ゴムベース層３よりも硬
い、例えば70゜〜90゜程度のゴム硬度を有する中間
層を介在させるなどの変形も本発明の予想すると
ころであり、この場合には第１工程で第１ゴム物
質３ａと中間層構成用ゴム物質とを重ねたのち、
この中間層構成用ゴム物質の表面に第３ゴム物質
４′ａを塗布し、後は上記実施例と同様にして製
造することになる。

また、一次成形は前述したように半加硫状態に
止めることが望ましいが、金型からの一次成形品
１１の取り出しの容易化を図るなどのために一次
成形時に完全に加硫するようにしてもよい。

〔発明の効果〕

以上説明したように、この発明によれば、基本
的には厚手の非多孔性ゴムベース層３に薄手の多
孔性ゴム被覆層４を一体に積層形成した断面構造
のゴム印字体Ａを製造するについて、まず、厚手
の非多孔性ゴムベース層３を構成する未加硫のシ
ート状第１ゴム物質３ａを金型で加硫成形してお
き、次にこの一次成形品１１の表面に薄手の多孔
性ゴム被覆層４を構成する第２ゴム物質４ａを均
一に塗布したのち、同一形状の金型で加硫して二
次成形するものとした。つまり、この二次成形時
には既に一次成形されたゴムベース層３の凹凸レ
リーフにゴム被覆層４をこの凹凸レリーフに沿わ
せて薄く成形するものであるから、ゴム被覆層４
は印字面１のレリーフの大小や粗密によく対応し
て全面的にムラのない均一な厚みに仕上げること
ができる。また、二次成形のときに一次成形時の
成形不良部分も修正するので、レリーフもシヤー
プで端正に仕上がる利点を有する。

そのうえで、一次成形する前に第２ゴム物質４
ａと同質の第３ゴム物質４′ａを第１ゴム物質３
ａの表面に予め塗布しておき、一次成形後に第２
ゴム物質４ａを第３ゴム物質４′ａの上に塗布し、
その後に二次成形するものとした。したがつて、
第１ゴム物質３ａと第３ゴム物質４′ａとは未加
硫状態で重なつているので、一次成形時に完全に
一体化する。更に、この一次成形時に塩化ナトリ
ウム等の易溶性物質１２が一次成形品１１の表面
を粗面にするとともに、第１ゴム物質３ａ中のワ
ツクスが表面に浮き出てくるのを防止するため
に、第３ゴム物質４′ａに同質の第２ゴム物質４
ａを塗布して二次成形したとき両者４ａ，４′ａ
は一体化し、ゴムベース層３とゴム被覆層４との
結合が一体強固なものになり、多孔性であるため
に概して脆弱なゴム被覆層４ａが剥離するといつ
たこともよく防止できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明が対象とするゴム印字体を使つ
た回転印を例示する一部縦断正面図である。第２
図は本発明が対象とするゴム印字体を使つたゴム
印を例示する斜視図である。第３図は本発明方法
によつて得られるゴム印字体の断面図、第４図
ａ，ｂ，ｃ，ｄは該ゴム印字体の製造工程を順次
的に説明するそれぞれの概略断面図である。第５
図は従来の自動印判における多孔性ゴム印字体の
断面構造を示す断面図である。第６図は本発明が
対象とするゴム印字体の従来例における製造工程
途中の状態を示す概略断面図、第７図および第８
図はその従来方法によつて得られたゴム印字体の
不良状態をそれぞれ示す概略断面図である。 １……印字面、３……非多孔性ゴムベース層、
３ａ……第１ゴム物質、４……多孔性ゴム被覆
層、４ａ……第２ゴム物質、４′ａ……第３ゴム
物質、１１……一次成形品、１２……易溶性物
質、１３……二次成形品。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 非多孔性ゴムベース層３の印字面側の表面
   に、多孔性ゴム被覆層４が薄く一体に積層形成さ
   れたゴム印字体Ａを製造するについて、未加硫の
   シート状第１ゴム物質３ａの表面に易溶性物質１
   ２を含む未加硫の液状第３ゴム物質４′ａを極薄
   に塗布する第１工程と、第３ゴム物質4′aを塗布
   した第１ゴム物質３ａを金型内で加硫成形して表
   面に所定のレリーフを有する一次成形品１１を得
   る第２工程と、この一次成形品１１の表面に第３
   ゴム物質４′ａと同質の第２ゴム物質４ａを均一
   に塗布する第３工程と、一次成形品１１を同一形
   状の金型で加硫して二次成形する第４工程と、二
   次成形品１３を液に入れて第２・第３ゴム物質４
   ａ，４′ａ中の易溶性物質１２を抽出する第５工
   程とからなるゴム印字体の製造方法。 ２ 第２工程において、第１ゴム物質３ａと第３
   ゴム物質４′ａとが半加硫状態で一次成形される
   特許請求の範囲第１項記載のゴム印字体の製造方
   法。 ３ 第２ゴム物質４ａと第３ゴム物質４′ａとが、
   ゴム１重量部に対して３〜６重量部の易溶性物質
   １２を含む同一のゴム物質からなる特許請求の範
   囲第１項又は第２項記載のゴム印字体の製造方
   法。 ４ 易溶性物質１２が塩化ナトリウムである特許
   請求の範囲第３項記載のゴム印字体の製造方法。