JPS6258154B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6258154B2 JPS6258154B2 JP58105299A JP10529983A JPS6258154B2 JP S6258154 B2 JPS6258154 B2 JP S6258154B2 JP 58105299 A JP58105299 A JP 58105299A JP 10529983 A JP10529983 A JP 10529983A JP S6258154 B2 JPS6258154 B2 JP S6258154B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- insulating film
- gate electrode
- etching
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/80—FETs having rectifying junction gate electrodes
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58105299A JPS59229875A (ja) | 1983-06-13 | 1983-06-13 | シヨツトキ−ゲ−ト型電界効果トランジスタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58105299A JPS59229875A (ja) | 1983-06-13 | 1983-06-13 | シヨツトキ−ゲ−ト型電界効果トランジスタの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59229875A JPS59229875A (ja) | 1984-12-24 |
JPS6258154B2 true JPS6258154B2 (en, 2012) | 1987-12-04 |
Family
ID=14403809
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58105299A Granted JPS59229875A (ja) | 1983-06-13 | 1983-06-13 | シヨツトキ−ゲ−ト型電界効果トランジスタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59229875A (en, 2012) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0758716B2 (ja) * | 1985-09-10 | 1995-06-21 | 松下電器産業株式会社 | 電界効果トランジスタの製造方法 |
JPH0758717B2 (ja) * | 1985-09-10 | 1995-06-21 | 松下電器産業株式会社 | 電界効果トランジスタの製造方法 |
-
1983
- 1983-06-13 JP JP58105299A patent/JPS59229875A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59229875A (ja) | 1984-12-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0212019B2 (en, 2012) | ||
US4997779A (en) | Method of making asymmetrical gate field effect transistor | |
JPS6246073B2 (en, 2012) | ||
JPS6351550B2 (en, 2012) | ||
JPH05326563A (ja) | 半導体装置 | |
JPH08306708A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPS6258154B2 (en, 2012) | ||
JP2835398B2 (ja) | 電界効果トランジスタの製法 | |
JPH01194475A (ja) | 電界効果トランジスタ及びその製造方法 | |
JP2726730B2 (ja) | 電界効果トランジスタの製法 | |
JP2000058560A (ja) | 電界効果トランジスタおよびその製造方法 | |
JPS6239834B2 (en, 2012) | ||
JP2652657B2 (ja) | ゲート電極形成方法 | |
JP3018662B2 (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
JPH0574814A (ja) | シヨツトキ・ゲート形電界効果トランジスタの製造方法 | |
JPH03203246A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH04336432A (ja) | 電界効果トランジスタ | |
JPS59126676A (ja) | 電界効果型トランジスタ | |
JPH01251667A (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
JPH04350945A (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
JPH06232169A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH1070138A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS6155970A (ja) | 電界効果トランジスタ | |
JPH04352333A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH04332136A (ja) | 半導体装置の製造方法 |