JPS6247807A - 複合型磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、複合型磁気ヘッド及びその製造方法に係り、
特に性能向上と量産性向上を図った複合型磁気ヘッド及
びその製造方法に関する。

〔発明の背景〕

近年、記録密度の向上に伴ない、磁気テープとして、酸
化物テープに代わり金属微粒子粉を用いたメタルテープ
が開発された。このため磁気ヘッドとしてもメタルテー
プに対応できる高精度のものが必要となり、上部コア部
に高飽和磁束密度のメタル系軟磁性体を用いた複合型磁
気ヘッドが提案され℃いる（％開昭５６−１１４１１４
）。

第９図は上記従来の複合屋磁気ヘッドの一例を示す斜視
図であって、１は巻線用溝、２は下部コア、３は上部コ
ア、４は動作ギャップ、６は導電コイル、１６はトラッ
ク加工溝である。

同図において、該磁気ヘッドは、動作ギャップ４を有す
る金属軟磁性体からなる上部コア３と、この上部コア３
の下に接合した巻線用溝１を有するフェライト等の酸化
物磁性体からなる下部コア２から構成される。

動作ギャップ４の近傍には、しぼり効果およびトラック
幅規制の為のトラック加工溝１６が形成されている。以
下、この従来技術による複合型磁気ヘッドの製造方法を
第１０図により説明する。

第１０図（α）〜ＩＪ）は第９図に示した従来技術によ
る複合ｆｉ磁気ヘッドの製造方法を説明する工程図であ
って、８は下部コアブロック、９は上部コアブロック、
９α７．９７′は上部コアブロック半休、１３はコアブ
ロック、１４はヘッドチップ、１７は非磁性膜、１８は
接着材であり、第９図と同一部分は同一符号を付しであ
る。

同図において、（α）の工程で、機械加工によるトラッ
ク加工溝１６を施して狭トラツク加工を行なった金属軟
磁性体の上部コアブロック９α’、９ｂ’を突き合わせ
る。この突き合わせ面となる面にはＳｔ　Ｏｘ等の非磁
性膜１７をスパッタリング等で被着しである。

同図（ｂ）の工程では、上部コアブロック半休９α′。

９ｂ’の非磁性膜１７を被着した面をギャップ突き合わ
せ面とし、ガラス等の接着材１日を挟んで機械的に突き
合わせ接合し、動作ギャップ４を持つ上部コアブロック
９とする。

同図（Ｃ）の工程では、フェライト等の酸化物磁性体に
巻線用溝１を形成して下部コアブロック８を得る。

同図（ｄ）の工程では、上部コアブロック９と下部コア
ブロック８とをガラス等の接着材１８を挟んで機械的に
突き合わせ接合し、コアブロック１３を形成する。

同図（ｅ）の工程では、コアブロック１３を、動作ギャ
ップ４に対し垂直あるいはアジマス角度相当分傾けてダ
イサー等で切断し、多数のヘッドチップ１４を得る。

同図（１）の工程では、ヘッドチップ１４のテープ摺動
面となる部分を円面に研摩する同病を行な（・、その後
、導電コイル６を巻線して複合型磁気ヘッドを得る。

以上の工程により、上部コアに金属軟磁性体を用いた複
合型磁気ヘッド′ｆｆ：製造する。

しかし、上記の製造方法で製造した複合型磁気ヘッドで
は、トラック幅規制のだめの狭トラツク加工（トラック
加工溝１６の加工）を機械的加工によっている為、トラ
ック幅の制御が難しく、また、２回の突き合わせ接合法
を用いているので、接合作業に時間を費やし、性能１歩
留り、コスト等に問題があった。また、従来においても
、上部コア体形成に、スパッタリング。

蒸着等により形成した金属軟磁性膜を使用する方法があ
ったが、突き合わせ接合２日研、ギャップデプス制御の
ために数十〜数百μｍの被着が必要で、そのため多大の
時間を必要とする等の欠点があった。

なお、この種の複合型磁気ヘッドに関するものとして、
例えば特開昭５５−４２３８０号公報、特開昭５９−２
０５２１０号公報等がある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記従来技術の欠点を解消し、トラッ
ク幅制御、ギャップデプス制御を容易にし、かつ上部コ
ア形成の時間短縮を図った、高精度かつ量産性に優れた
複合型磁気ヘッド及びその製造方法を提供するにある。

〔発明の概要〕

この目的を達成するために、本発明は、あらかじめ巻線
用溝を形成した下部コアの、上部コアと接合する面を一
様な非平面、例えば曲面形状又は切り妻形状に加工し、
この上に上部コアとなる金属軟磁性膜を形成すると共に
トラック幅規制のだめの動作ギヤツブ部形状の加工をノ
（タニング法を用いて行なう点に特徴がある。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。

第１図は本発明による複合型磁気ヘッドの第一の実施例
を示す斜視図であって、１は巻線用溝、２は下部コア、
６は上部コア、４は動作ギャップ、５は低融点ガラス、
６は導電コイル、７は複合型磁気ヘッドである。

同図において、巻線用ｓ１が形成されているフェライト
等の酸化物磁性体の下部コア２上に、金属軟磁性膜から
なる上部コア３が配置されている。

下部コア２と上部コア３との境界面は同所により曲面形
状をなしている。下部コア２と上部コア６のほぼ中央部
に挟んで、５ｉｆｔ　、低融点ガラス等から成る動作ギ
ャップ４が形成されている。

上部コア５の動作ギャップ４の近傍には、コアしぼり用
の低融点ガラス５が配置されており、これによってコア
にしぼり効果をもたらしている。

巻線用溝１には導電コイル６が巻かれ、複合型磁気ヘッ
ド７となる。

第５図は第１図に示した複合型磁気ヘッドの製造方法を
示す工程図であって、８は下部コアブロック、９は上部
コアブロック、１０は樹脂部、１１は保護膜、１２はコ
ア体、１５はコアブロック、１４はヘッドチップである
。

同図において、（α）の工程は、フェライト等の酸化物
磁性体から成る下部コアブロック８の一部に直線状に巻
線用溝１を形成し、この溝にＰＩＱ等の樹脂を埋め込ん
で樹脂部１０を形成する。

次に、（ｂ）の工程で、下部コアブロック８の樹脂部１
０を形成した面を、該樹脂部１０の延長方向と直角の方
向に曲率なもつ面となるように同所する。

（Ｃ）の工程では、下部コアプロツク８０同病された向
上に、センダスト、アモルファス等の金属軟磁性膜を、
ギャップデプス以上の厚さにスパッタリング、蒸着等の
手段で被着形成して上部コアブロック９とする。

（ｄ）の工程では、上部コアブロック９の樹脂部１０上
に、トラック幅（１＊）相当分の間隔だけ離し℃樹脂部
１０まで達するだ円形状の穴をヘッドチップの厚さく１
）に相当するピンチでパタニング等により形成し、前記
穴にコアしぼり用の低融点ガラス５を流し込む。この低
融点ガラスは、テープ摺動面に露出するので、テープ摺
動の点から、その摺動摩耗特性が蛍属軟磁性膜のそれと
ほぼ同程度、あるいはそれよりやや柔らかいものを使用
するのが好ましい。

（ｅｌの工程では、上部コアブロック９上に、フォルス
テライト等のラップ用保護膜１１をスノくツタリング、
蒸着等の手段により形成し、コア体１２とする。

げ）の工程では、前記コア体１２を樹脂部１０に沿って
、ダイシングソーなどで２つに切断し、コア半体１２α
、１２ｂを得る。

（２）の工程では、コア半体１２α、１２ｂの切断面を
研摩した後、５ｉＣｈ等の非磁性膜を被着し、低融点ガ
ラス等により、コア半体１２α、１２ｂを、それらの非
磁性膜被着面をギャップ突き合わせ面にして接着し、動
作ギャップ４を有するコアフ゛口ツク１３を形成する。

。 （Ａ）の工程では、コアブロック１３を、動作ギャップ
４に対して切断角θを垂直あるいは、垂直カラアジマス
角度相当分だけ傾けて、ダイサー等より切断して複数の
ヘッドチップ１４を形成する。このとき、切断のピッチ
は、上記（ｄ）の工程におけるだ円状の穴のピッチ（Ｊ
）とし、かつ、切断部は上記穴のほぼ中央部とする。

最後に、（Ｌ）の工程において、ヘッドチップ１４の保
護膜１１の被着している部位を、少な（とも動作ギャッ
プ部４の金属軟磁性膜が露出するまで同所し、その後上
記樹脂膜を溶解し、導電コイル６を巻（・て複合型磁気
ヘッド７を完成させる。

以上は、動作ギャップ形成に従来の突き合わせ接合法を
用いた例であるが、動作ギャップ形成に突き合わせ法を
用いないで製造した複合型伝気ヘッドの例を第２図によ
り説明する。

第２図は本発明による複合製磁気ヘッドの第二の実施例
を示す斜視図であって、１は巻線用溝、２は下部コア、
３は上部コア、４は動作ギャップ、５は低融点ガラス、
６は導電コイル、７は複合型磁気ヘッドである。

同図において、巻線用溝１が形成されているフェライト
等の酸化物磁性体の下部コア２上に、５ｉｆｔ等から成
る動作ギャップ４を挟んで金属軟磁性膜からなる上部コ
ア５が配置されている。

下部コア２と上部コア３との境界面は、同所により曲面
形状をなしている。上部コア３の動作ギャップ４の近傍
には、コアしぼり用の低融点ガラス５が配置されており
、これによりコアしはり効果をもたらしている。巻線用
韓１には導電コイル６が巻かれ、複合型磁気ヘッド７を
構成している。

以下、この実施例の複合型磁気ヘッドを製造する方法を
説明する。

第６図は第２図に示した複合型磁気ヘッドの製造方法を
説柄する工程図であって、図中第５図と四じ部分には同
じ符号を付し、９α、９ｂはそれぞれ第１の金属軟磁性
膜、第２の金属軟磁性膜、１５は段差部位である。

まず、同図（勾の工程は第５図（α）の工程と同じであ
る。

（ｂ）の工程では、下部コアプロツク８０内研された面
の樹脂部１０に沿って左右のいずれか一方の上面に第１
の金属軟磁性［９α′を、マスク等を使うことにより、
スパッタリング、蒸着等で、厚さがギャップデプス以上
となるように被着形成する。

（Ｃ）の工程では、第１の金属軟磁性膜９α′の一部を
樹脂部１０に沿って、少なくとも樹脂部に達するまで、
バイト等により切削除去する。

（ｄ）の工程では、切削除去により形成された段差部位
１５と、露出している下部コアブロック８の上面に、動
作ギャップ４となる５ｉＣｈ等の非磁性膜を被着し、さ
らにその上に第２の金属軟磁性膜９ｂ’を、マスク等を
用いて、スパッタリング、蒸着等により、第１の金属軟
磁性膜９αの膜厚とほぼ同程度に被着形成する。

（ｅ）の工程では、第１．第２の金属軟磁性膜９α′・
９ｂ’の樹脂部１ａ上に、トラック幅相当分の間隔で、
樹脂部１０まで達するだ円形状の穴を、パタニング等に
より形成し、この穴にコアしぼり用の低融点ガラス５を
流し込む。

び）の工程では、第１．第２の金属軟磁性膜９α′。

９ｂ’上に、フェライト等のラップ用保護膜１１をスパ
ッタリング６蒸着等により形成し、コアブロック１５を
得る。

（２）の工程では、コアブロック１６を、動作ギャップ
４に対して、切断角θを、垂直あるいは垂直からアジマ
ス角相当分だけ傾げて、ダイサー等により切断し、ヘッ
ドチップ１４を形成する。

このとき、切断の間隔は、（ｅ）の工程で形成しただ円
形状の穴の間隔にし、かつ切断部は抜穴のほぼ中央部と
する。

最後に、（Ａ）の工程では、ヘッドチップ１４の保護膜
１１が被着している部位を、少なくとも動作ギャップ４
に挟まれた第１．第２の金属軟磁性膜９α’、９ｂ’の
一部が露出するまで同所し、然る後に前記樹脂部１０を
溶解除去し℃、導電コイル６を巻き、複合型磁気ヘッド
７を婦る０ 以上説明した製造方法は、前記した突き合わせ接合法と
異なり、動作ギャップをスパッタリング、あるいは蒸着
のみで形成する為、ギャップ長の制御が容易となる。

上記二つの実施例は、いずれも金属軟磁性膜は単層の場
合であるが、本発明はこのようなものに限られるもので
はなく、渦電流損失低減のために、５ｈｏｔ等の電気絶
縁膜を介して２層以上の多層金属軟磁性膜としてもよい
。

また、上記二つの実施例では、いずれも下部コアと上部
コアとの境界面は同病により曲面形状をなして（・るが
、本発明はこれに限らず、次に説明する第６図及び第４
図に示したような切り妻型としてもよい。

第３図は、本発明による複合型磁気ヘッドの第三の実施
例を示す斜視図であって、第１図及び第２図と同じ部分
は同一符号を付しである。

同図において、巻線用溝１が形成されたフェライト等の
酸化物磁性体から成る下部コア２上に、金属軟磁性膜か
らなる上部コア３が配置される。

下部コア２と上部コア５との境界面は、下部コアに切り
妻型の加工を施し、屋根形状をなしている。この磁気ヘ
ッドを、そのチーブ摺動面側からみると、動作ギャップ
４を挟んだ左右に配置している金属軟磁性膜は一部だけ
露出しており、他の部分は保護膜１１で覆われている。

この保ｆｉＪ［１により、磁気ヘッドの耐摩耗性を向上
させている。上部コア３の動作ギャップ４近傍には、コ
アしぼり用の低融点ガラス５が配置されており、これに
より、コアしぼり効果をもたらしている。

そして、前記巻線用溝１には導電コイル６が巻かれ【、
複合型磁気ヘッド７が構成される。

次に、上記第５図に示した磁気ヘッドの製造方法を説明
する。

第７図は、本発明による複合型磁気ヘッドの第三の実施
例の製造方法を説明するための工程図であって、第５図
及び第６図と同一部分には同一符号を付しである。

同図において、（ＯＬ）の工程では、フェライト等の酸
化物磁性体の下部コアブロック８の長手方向の上部中央
部分に巻線用溝１を形成し、この溝１にＰＩＱ等の樹脂
を埋設して樹脂部１０を形成する。そして、この下部コ
アブロック８の樹脂部１０を形成した面を、該樹脂部１
０の上部中心を頂線とした切り妻型に加工する。

（ｂ）　、　（Ｃ）　、　（ｃｔ）の工程では、第５図
に示した工程（Ｃ）〜（Ａ）と同様の工程で、金属軟磁
性膜から成る上部コアブロック９を形成し、トランク幅
しぼりのための加工、保護膜１１の被着、切断及び研摩
、接着、ヘッドチップ１４への切断分離を行ない、複数
のヘッドチップ１４を形成する。

そして、（ｅ）の工程で、ヘッドチップ１４の保護膜１
１の被着している部位を、少なくとも動作ギャップ４０
部分の金属軟磁性膜が露出するまで同病した後、樹脂部
１０を溶解除去し、導電コイ／Ｉ／６を巻いて複合型磁
気−、ラド７を得る。

第４図は、本発明による複合型磁気ヘッドの第四の実施
例を示す斜視図であって、第１図。

第２図および第３図と同じ部分は同一符号を付しである
。

同図において、下部コア２と上部コア３は第２図に示し
たものと同様の構成で、下部コア２と上部コア５の境界
面が第６図に示したものと同様に切り＃凰としたもので
ある。そして、この磁気ヘッドの製造方法は第６図に示
した工程と略同様の方法である。

上記した第３図と第４図の実施例は、その金属軟磁性膜
が単層であるが、本発明はこれに限らず、渦電流損失低
減のために、５ｉＯｔ等の′電気絶縁膜を介して２層以
上の多層金属軟磁性膜としてもよい。

なお、以上の各実施例では、単一の下部コアブロック上
に上部コアを形成しているが、本発明はこれに限らず、
例えば第８図に示した半うに、下部コアブロックをダイ
サー加工等により、連続的に切り妻加工し、あるいは連
続的に置所加工し、その上に上部コアを形成してもよ）
、・。

これによれば、磁気ヘッドの量産性はさらに向上させる
ことができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、下部コアにあら
かじめ同病加工、あるいは切り妻加工を施しているので
、下部コア上に被着する金属軟磁性膜をギヤツブデプス
相当厚だけ被着すればよく、その被着に要する時間が短
縮されるとともに、ギャップデプス制御が容易になり、
トラック幅規制にパタニング法を用いるのでトラック幅
の精度を格段に向上させることが可能となり、上記従来
技術の欠点を除いて優れた機能の複合型磁気ヘッド及び
その製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図、第５図及び第４図は本発明による複合
型伝気ヘッドの第一、第二、第三及び第四の実施例を示
す斜視図、第５図、第６図及び第７図は本発明による複
合型磁気ヘッドの製造方法を示す工程図、第８図は本発
明による複合型磁気ヘッドの下部コアブロックの他の実
施例を示す斜視図、第９図は従来技術による複合型磁気
ヘッドの斜視図、第１０図は従来技術による複合型磁気
ヘッドの製造方法を示す工程図である。 １：巻線用溝、　　　　２．下部コア、３：上部コア、
　　　　４；動作ギャップ、５：低融点ガラス、　　６
．導電コイル、８：下部コアブロック、９二上部コアブ
ロック、１０：樹脂部、　　　　１１：保護膜、１４：
′ヘッドチップ、　１５：段差部位。 り

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）動作ギャップを有する金属軟磁性膜から成る上部
   コアと、巻線用溝を形成した酸化物磁性体から成る下部
   コアとから構成される複合型磁気ヘッドにおいて、前記
   上部コアと前記下部コアの接合面を前記ギャップを頂線
   とする一様な非平面形状としたことを特徴とする複合型
   磁気ヘッド。
2. （２）特許請求の範囲（１）項記載の複合型磁気ヘッド
   において、前記非平面形状が前記ギャップを頂線とする
   曲面形状であることを特徴とする複合型磁気ヘッド。
3. （３）特許請求の範囲（１）項記載の複合型磁気ヘッド
   において、前記非平面形状が前記ギャップを頂線とする
   切り妻形状であることを特徴とする複合型磁気ヘッド。
4. （４）動作ギャップを有する金属軟磁性膜から成る上部
   コアと、巻線用溝を形成した酸化物磁性体から成る下部
   コアとから構成される複合型磁気ヘッドの製造方法にお
   いて、 （イ）前記下部コアとなる下部コアブロックの上面部に
   巻線用溝を加工し、該溝に樹脂を埋設して、該樹脂埋設
   面を一様な非平面形状に研摩する工程と、 （ロ）前記研摩した下部コアブロックの上面に金属軟磁
   性膜を被着して、前記動作ギャップを有する上部コアブ
   ロックを形成して複合型磁気ヘッドコアのブロックを得
   る工程と、 （ハ）前記複合型磁気ヘッドコアブロックを複数のヘッ
   ドチップに切断分離する工程と、 を含むことを特徴とする複合型磁気ヘッドの製造方法。
5. （５）特許請求の範囲（４）項記載の複合型磁気ヘッド
   の製造方法において、前記（ロ）の工程における非平面
   形状が前記ギャップを頂線とする曲面形状であることを
   特徴とする複合型磁気ヘッドの製造方法。
6. （６）特許請求の範囲（４）項記載の複合型磁気ヘッド
   の製造方法において、前記（ロ）の工程における非平面
   形状が前記ギャップを頂線とする切り妻形状であること
   を特徴とする複合型磁気ヘッドの製造方法。