JPS6245547B2 - - Google Patents
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- JPS6245547B2 JPS6245547B2 JP15696181A JP15696181A JPS6245547B2 JP S6245547 B2 JPS6245547 B2 JP S6245547B2 JP 15696181 A JP15696181 A JP 15696181A JP 15696181 A JP15696181 A JP 15696181A JP S6245547 B2 JPS6245547 B2 JP S6245547B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は画像形成材料に関し、特に印刷製版に
用いる感光性マスク材料に関する。
用いる感光性マスク材料に関する。
従来より画像を網点でなくベタで印刷する場
合、版画を製版するために使用されるマスク版
を、再現すべき画像をいわゆるくくり線で囲んで
構成した原稿(以下くくり線原稿と称す)を基に
して感光性材料に写真処理を施こして作成する方
法がある。すなわちネガテイブまたはポジテイブ
のくくり線原稿を感光性材料の遮光性の感光性マ
スク層に焼付け、次いで該マスク層に応じて現像
もしくは現像とエツチングの処理を行なうと、第
1図イに示すように感光性材料1の透明フイルム
2上には原稿3のくくり線4に相当する溝5の形
成された感光性マスク層のレリーフ画像6が形成
される。次いで第1図ロに示すように透明フイル
ム2からレリーフ画像6をマスクする部分6′を
残して針、ナイフなどで剥取ると必要な画像が遮
光性を有しない凹部7として形成されたマスク版
8が得られる。そしてこうして得られたマスク版
8に基づいて同様な写真処理を施こして版面の製
版が行なわれる。
合、版画を製版するために使用されるマスク版
を、再現すべき画像をいわゆるくくり線で囲んで
構成した原稿(以下くくり線原稿と称す)を基に
して感光性材料に写真処理を施こして作成する方
法がある。すなわちネガテイブまたはポジテイブ
のくくり線原稿を感光性材料の遮光性の感光性マ
スク層に焼付け、次いで該マスク層に応じて現像
もしくは現像とエツチングの処理を行なうと、第
1図イに示すように感光性材料1の透明フイルム
2上には原稿3のくくり線4に相当する溝5の形
成された感光性マスク層のレリーフ画像6が形成
される。次いで第1図ロに示すように透明フイル
ム2からレリーフ画像6をマスクする部分6′を
残して針、ナイフなどで剥取ると必要な画像が遮
光性を有しない凹部7として形成されたマスク版
8が得られる。そしてこうして得られたマスク版
8に基づいて同様な写真処理を施こして版面の製
版が行なわれる。
ところで多色印刷をする場合、通常各色のマス
ク版は合版ネガ原稿から得られたレリーフ画像を
その色に応じた選択的剥取りによつて作成されて
おり、合版ネガ原稿にはある色のマスク版に不必
要な他の色のマスク版のくくり線が含まれてい
る。このくくり線に対応して感光性マスク層に形
成される溝のところでは光を遮光しないので、選
択的剥取りによつて各色のマスク版を作成するに
あたり、修正液と呼ばれる高い遮光性を有する塗
布液を画像上に塗布、乾燥して不必要なくくり線
に相当する溝を埋め隠蔽、消去しておく必要があ
る。このことは周囲をくくり線で囲まず線そのも
ので描く文字等についても同じである。
ク版は合版ネガ原稿から得られたレリーフ画像を
その色に応じた選択的剥取りによつて作成されて
おり、合版ネガ原稿にはある色のマスク版に不必
要な他の色のマスク版のくくり線が含まれてい
る。このくくり線に対応して感光性マスク層に形
成される溝のところでは光を遮光しないので、選
択的剥取りによつて各色のマスク版を作成するに
あたり、修正液と呼ばれる高い遮光性を有する塗
布液を画像上に塗布、乾燥して不必要なくくり線
に相当する溝を埋め隠蔽、消去しておく必要があ
る。このことは周囲をくくり線で囲まず線そのも
ので描く文字等についても同じである。
また異なる色をぴつたりと突き合せる印刷にお
いても、くくり線に相当する溝の部分をどちらか
一方の色になるようにしなければならず、他方の
色のマスク版は突き合せる部分の画像全面に修正
液を塗布、乾燥して溝を隠蔽、消去してから剥取
り作成する必要がある。
いても、くくり線に相当する溝の部分をどちらか
一方の色になるようにしなければならず、他方の
色のマスク版は突き合せる部分の画像全面に修正
液を塗布、乾燥して溝を隠蔽、消去してから剥取
り作成する必要がある。
この様な目的に使用される修正液には、有機溶
剤溶液型と水溶液型のものがある。有機溶剤溶液
型は、引火性や臭気の点で取扱上注意を要する。
また水溶液型も乾燥が非常に遅く作業上能率が悪
いなどの欠点を有する。
剤溶液型と水溶液型のものがある。有機溶剤溶液
型は、引火性や臭気の点で取扱上注意を要する。
また水溶液型も乾燥が非常に遅く作業上能率が悪
いなどの欠点を有する。
更に、修正液の塗布には平らな広い場所と均一
に塗布する技術が必要であり、製版の作業工程上
改良の要求される部分であつた。
に塗布する技術が必要であり、製版の作業工程上
改良の要求される部分であつた。
本発明はかかる従来の難点に鑑みなされたもの
で、その特徴とするところは透明フイルム支持体
上に金属薄膜層を形成して該薄膜層により遮光性
を持たせるとともに、該薄膜層の上に形成する感
光性マスク層を強靭な皮膜性を有しかつ金属薄膜
層と強固な接着力を有するものとし、ネガテイブ
なレリーフ画像を剥離したとき一緒に下の金属薄
膜層を同形に剥離させて必要な画像を形成し、く
くり線および文字等を描いた線に対応する金属薄
膜層は透明フイルム上に常に残存するようにした
点にある。
で、その特徴とするところは透明フイルム支持体
上に金属薄膜層を形成して該薄膜層により遮光性
を持たせるとともに、該薄膜層の上に形成する感
光性マスク層を強靭な皮膜性を有しかつ金属薄膜
層と強固な接着力を有するものとし、ネガテイブ
なレリーフ画像を剥離したとき一緒に下の金属薄
膜層を同形に剥離させて必要な画像を形成し、く
くり線および文字等を描いた線に対応する金属薄
膜層は透明フイルム上に常に残存するようにした
点にある。
以下本発明を詳細に説明する。
本発明の感光性マスク材料は、第2図に示すよ
うに透明フイルムの支持体9上に金属薄膜層10
を形成し、該薄膜層10の上にこれと強固に接着
しかつ強靭な皮膜性を有する感光性マスク層11
を形成して構成される。
うに透明フイルムの支持体9上に金属薄膜層10
を形成し、該薄膜層10の上にこれと強固に接着
しかつ強靭な皮膜性を有する感光性マスク層11
を形成して構成される。
本発明で使用する支持体9としては、平滑な表
面を有し、かつその上に金属薄膜を設けることが
できるフイルム形成性熱可塑性高分子化合物のフ
イルムが用いられる。例えばポリエステル、ポリ
カーボネート、ポリアミド、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメチルメタア
クリレートおよびこれらの共重合体、ジアセチル
セルロース、トリアセチルセルロース、プロピル
セルロースおよび混合セルロースエステルが挙げ
られる。このうち寸法安定性に優れた二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフイルムは特に好まし
い。
面を有し、かつその上に金属薄膜を設けることが
できるフイルム形成性熱可塑性高分子化合物のフ
イルムが用いられる。例えばポリエステル、ポリ
カーボネート、ポリアミド、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメチルメタア
クリレートおよびこれらの共重合体、ジアセチル
セルロース、トリアセチルセルロース、プロピル
セルロースおよび混合セルロースエステルが挙げ
られる。このうち寸法安定性に優れた二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフイルムは特に好まし
い。
金属薄膜層10を形成する金属は、各種の成膜
手段によつて薄膜を形成できるものならばどれで
も使用できる。金属薄膜層の厚さは、少なくとも
50μあることが好ましい。これ以下では、遮光効
果に乏しい。膜厚の上限に関しては1000μ以下が
好ましい。これ以上では、金属膜の皮膜性が強く
なり、本発明に従つて、部分的に剥離した場合、
画像の解像力が悪化する。
手段によつて薄膜を形成できるものならばどれで
も使用できる。金属薄膜層の厚さは、少なくとも
50μあることが好ましい。これ以下では、遮光効
果に乏しい。膜厚の上限に関しては1000μ以下が
好ましい。これ以上では、金属膜の皮膜性が強く
なり、本発明に従つて、部分的に剥離した場合、
画像の解像力が悪化する。
成膜手段としては、気化法、スパツタリング法
などの真空蒸着法、無電解メツキ法、またはこれ
らとさらに電解メツキ法とを組合せた方法が採用
される。
などの真空蒸着法、無電解メツキ法、またはこれ
らとさらに電解メツキ法とを組合せた方法が採用
される。
真空蒸着可能な各種金属としては、アルミニウ
ム、亜鉛、銀、金、ニツケル、銅、クロムコバル
ト、鉄などがあり、更に各種合金も、スパツタリ
ング法により蒸着可能である。無電解メツキは、
任意公知方法により、銅、ニツケル、コバルト、
金、パラジウム、銀、ニツケル―コバルト合金が
用いられる。
ム、亜鉛、銀、金、ニツケル、銅、クロムコバル
ト、鉄などがあり、更に各種合金も、スパツタリ
ング法により蒸着可能である。無電解メツキは、
任意公知方法により、銅、ニツケル、コバルト、
金、パラジウム、銀、ニツケル―コバルト合金が
用いられる。
一般に、使用可能な金属の範囲が広いこと、処
理が単純かつ高速であることなどから真空蒸着法
が秀れている。
理が単純かつ高速であることなどから真空蒸着法
が秀れている。
金属薄膜と支持体との接着力を特に変化させる
目的で、支持体上に表面処理を設すこともでき
る。表面処理法としては、コロナ放電処理、アル
カリエツチ処理、更に、各種有機、無機物質を2
μを限度として塗布するなどの公知技術が利用で
きる。
目的で、支持体上に表面処理を設すこともでき
る。表面処理法としては、コロナ放電処理、アル
カリエツチ処理、更に、各種有機、無機物質を2
μを限度として塗布するなどの公知技術が利用で
きる。
感光性マスク層11は写真処理を経てネガテイ
ブレリーフ画像に形成後剥離するので、良好なフ
イルム形成性及び適当なフイルム強度を有するこ
とが必要である。また、剥離により下の金属薄膜
も同時に支持体より取り去るために、金属薄膜と
強固な接着力を有することが必要である。
ブレリーフ画像に形成後剥離するので、良好なフ
イルム形成性及び適当なフイルム強度を有するこ
とが必要である。また、剥離により下の金属薄膜
も同時に支持体より取り去るために、金属薄膜と
強固な接着力を有することが必要である。
感光性マスク層はバインダー用高分子化合物お
よび感光剤からなる感光性組成物層一層で形成し
ても良く、皮膜性を有する高分子化合物層を下層
に感光性組成物層を上層に積層した2層構造にし
ても良い。
よび感光剤からなる感光性組成物層一層で形成し
ても良く、皮膜性を有する高分子化合物層を下層
に感光性組成物層を上層に積層した2層構造にし
ても良い。
この場合、感光性マスク層を2層構造にしたも
のでは、感光剤としての機能と剥離のための皮膜
の機能とを分離できるので、感光性組成物層一層
のように剥離性と感度低下防止を考慮する必要が
なくなる。
のでは、感光剤としての機能と剥離のための皮膜
の機能とを分離できるので、感光性組成物層一層
のように剥離性と感度低下防止を考慮する必要が
なくなる。
感光性組成物としてはネガ型、ポジ型の両者を
用いることができる。
用いることができる。
ネガ型の感光性組成物に用いられる感光剤とし
ては、4―ジアゾジフエニルアミン硫酸塩とホル
ムアルデヒドとの縮合物、4―ジアゾジフエニル
アミン塩化亜鉛塩とホルムアルデヒドとの縮合
物、4―ジアゾジフエニルアミン四弗化硼酸塩と
ホルムアルデヒドとの縮合物、4―ジアゾジフエ
ニルアミン・ドデシルベンゼンスルホン酸塩のホ
ルムアルデヒド縮合物がある。感光性マスク層を
感光性組成物一層で形成するときはバインダー用
高分子化合物に対する感光剤の含有量は3〜50%
であり、望ましくは5〜30%である。
ては、4―ジアゾジフエニルアミン硫酸塩とホル
ムアルデヒドとの縮合物、4―ジアゾジフエニル
アミン塩化亜鉛塩とホルムアルデヒドとの縮合
物、4―ジアゾジフエニルアミン四弗化硼酸塩と
ホルムアルデヒドとの縮合物、4―ジアゾジフエ
ニルアミン・ドデシルベンゼンスルホン酸塩のホ
ルムアルデヒド縮合物がある。感光性マスク層を
感光性組成物一層で形成するときはバインダー用
高分子化合物に対する感光剤の含有量は3〜50%
であり、望ましくは5〜30%である。
ネガ型の感光性組成物に用いられるバインダー
用高分子化合物としては、ポリビニルアルコー
ル、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルメタクリレートとマレイン酸共重
合体、アルコール可溶性ポリアミド、アクリルア
ミドとダイアセトンアクリルアミドの共重合体、
部分ケン化酢酸ビニルがある。これらの高分子化
合物は単独でも2種以上を組合せても用いること
ができる。
用高分子化合物としては、ポリビニルアルコー
ル、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルメタクリレートとマレイン酸共重
合体、アルコール可溶性ポリアミド、アクリルア
ミドとダイアセトンアクリルアミドの共重合体、
部分ケン化酢酸ビニルがある。これらの高分子化
合物は単独でも2種以上を組合せても用いること
ができる。
ポジ型の感光性組成物の感光剤としては、オル
ソキノンジアジド化合物がある。この場合、感光
性マスク層を感光性組成物一層で形成するとき
は、バインダー用高分子化合物に対する感光剤の
含有量は5〜50%であり、望ましくは10〜30%で
ある。
ソキノンジアジド化合物がある。この場合、感光
性マスク層を感光性組成物一層で形成するとき
は、バインダー用高分子化合物に対する感光剤の
含有量は5〜50%であり、望ましくは10〜30%で
ある。
ポジ型の感光性組成物のバインダー用高分子化
合物としては、アルカリ可溶性アクリル共重合
体、ポリビニル―3―メトキシ―4―ヒドロキシ
ベンザール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール、ポリ酢酸ビニルがあり、これらの高
分子化合物は単独でも2種以上を組合せても用い
ることができる。
合物としては、アルカリ可溶性アクリル共重合
体、ポリビニル―3―メトキシ―4―ヒドロキシ
ベンザール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール、ポリ酢酸ビニルがあり、これらの高
分子化合物は単独でも2種以上を組合せても用い
ることができる。
2層構造の感光性マスク層における皮膜層に
は、先に掲げた感光性組成物層の形成に用いるバ
インダー用高分子化合物の他に、これに使用でき
ない強靭な高分子化合物を用いることができる。
例としては、カプロラクタム、ヘキサメチレンジ
アミンアジペートと4,4′―ジアミノジシクロヘ
キシルメタンアジペートの共重合体、各種ポリア
ミドのN―メチロール誘導体などアルコール可溶
性ポリアミドがある。
は、先に掲げた感光性組成物層の形成に用いるバ
インダー用高分子化合物の他に、これに使用でき
ない強靭な高分子化合物を用いることができる。
例としては、カプロラクタム、ヘキサメチレンジ
アミンアジペートと4,4′―ジアミノジシクロヘ
キシルメタンアジペートの共重合体、各種ポリア
ミドのN―メチロール誘導体などアルコール可溶
性ポリアミドがある。
感光性組成物層中には、その感光機構に悪影響
を及ぼさない限り、染料または顔料を添加するこ
とができる。本発明においては金属薄膜層により
遮光性を持たせているので遮光性付与のためには
不要であるが、この添加によつて画像の状態の確
認を容易にし、特にレリーフ画像の端部がシヤー
プに仕上がつたか否かの確認を容易にすることが
できる。
を及ぼさない限り、染料または顔料を添加するこ
とができる。本発明においては金属薄膜層により
遮光性を持たせているので遮光性付与のためには
不要であるが、この添加によつて画像の状態の確
認を容易にし、特にレリーフ画像の端部がシヤー
プに仕上がつたか否かの確認を容易にすることが
できる。
次にかかる感光性マスク材料を用いた製版用マ
スク版の作成について述べる。
スク版の作成について述べる。
透明フイルム9上に金属薄膜層10、感光性マ
スク層11が順次形成された感光性マスク材料1
2(第2図参照)に、第3図イに示すようにネガ
テイブ又はポジテイブのくくり線原稿13を重ね
て活性光線を露光し、現像すると、感光性マスク
層11のタイプに応じて露光部分又は未露光部分
が溶出し、例えば図のように原稿13のくくり線
14に相当するところが溝15になつたネガテイ
ブなレリーフ画像16が形成される。この場合、
感光性マスク層11が高分子化合物の皮膜層と感
光性組成物層の2層からなるときは感光性組成物
層の現像の他に高分子化合物の皮膜層のエツチン
グ処理を要する。
スク層11が順次形成された感光性マスク材料1
2(第2図参照)に、第3図イに示すようにネガ
テイブ又はポジテイブのくくり線原稿13を重ね
て活性光線を露光し、現像すると、感光性マスク
層11のタイプに応じて露光部分又は未露光部分
が溶出し、例えば図のように原稿13のくくり線
14に相当するところが溝15になつたネガテイ
ブなレリーフ画像16が形成される。この場合、
感光性マスク層11が高分子化合物の皮膜層と感
光性組成物層の2層からなるときは感光性組成物
層の現像の他に高分子化合物の皮膜層のエツチン
グ処理を要する。
次いで第3図ロのようにマスクする部分16′
を残してレリーフ画像16を剥取ると、下の金属
薄膜層10も一緒にレリーフ画像と同形に剥取ら
れ、必要な画像が凹部17として形成されたマス
ク版18が得られる。
を残してレリーフ画像16を剥取ると、下の金属
薄膜層10も一緒にレリーフ画像と同形に剥取ら
れ、必要な画像が凹部17として形成されたマス
ク版18が得られる。
ここで原稿13のくくり線14に対応する金属
薄膜層の部分15′は、その上にレリーフ画像1
6がないので剥離されず透明フイルム9上に残
り、活性光線を照射したときくくり線に相当する
部分は遮光される。原稿13のくくり線14には
他の色のマスク版を作成するために使用されるも
のが含まれているが、金属薄膜層として残存して
いるため従来行なつていた修正液による隠蔽、消
去の作業が不要となる。また従来の感光性材料か
ら同一原稿を用いて他の色のマスク版を作成する
と該マスク版ではくくり線に相当する部分は溝に
形成され遮光しないようになつているので、これ
と上記のように作成したマスク版とを組合せるこ
とにより、異なる色をぴつたり突き合せて印刷で
きる版面を製版できる。
薄膜層の部分15′は、その上にレリーフ画像1
6がないので剥離されず透明フイルム9上に残
り、活性光線を照射したときくくり線に相当する
部分は遮光される。原稿13のくくり線14には
他の色のマスク版を作成するために使用されるも
のが含まれているが、金属薄膜層として残存して
いるため従来行なつていた修正液による隠蔽、消
去の作業が不要となる。また従来の感光性材料か
ら同一原稿を用いて他の色のマスク版を作成する
と該マスク版ではくくり線に相当する部分は溝に
形成され遮光しないようになつているので、これ
と上記のように作成したマスク版とを組合せるこ
とにより、異なる色をぴつたり突き合せて印刷で
きる版面を製版できる。
次に本発明を実施例に基づき更に詳述する。
実施例 1
平均重合度1700の完全ケン化ポリビニルアルコ
ール10g及び4―ジアゾジフエニルアミン硫酸塩
とホルムアルデヒドとの縮合物0.5gを、水89.5
mlに溶解し、固型分含有量10.5%の感光性組成物
溶液を調製した。
ール10g及び4―ジアゾジフエニルアミン硫酸塩
とホルムアルデヒドとの縮合物0.5gを、水89.5
mlに溶解し、固型分含有量10.5%の感光性組成物
溶液を調製した。
また厚さ100μのポリエチレンテレフタレート
フイルムの片面に、アルミニウムを真空蒸着して
膜厚100μのアルミニウム薄膜層を形成した。
フイルムの片面に、アルミニウムを真空蒸着して
膜厚100μのアルミニウム薄膜層を形成した。
次にアルミニウム薄膜層上に前記の感光性組成
物溶液を、乾燥後の膜厚が10μとなるような量
で、ワイヤーバーを用いて塗布後90℃で3分間乾
燥して感光性マスク層を形成し、画像形成材料を
得た。
物溶液を、乾燥後の膜厚が10μとなるような量
で、ワイヤーバーを用いて塗布後90℃で3分間乾
燥して感光性マスク層を形成し、画像形成材料を
得た。
この感光性マスク層上にポジのくくり線原稿を
密着させ、1m離れた2kw高圧水銀灯から50秒間
光を照射した。このフイルムを流水にて現像する
と、アルミニウム薄膜層上に原稿に忠実なネガの
レリーフ画像が得られた。
密着させ、1m離れた2kw高圧水銀灯から50秒間
光を照射した。このフイルムを流水にて現像する
と、アルミニウム薄膜層上に原稿に忠実なネガの
レリーフ画像が得られた。
このレリーフ画像を針等で選択的に剥離するこ
とにより、アルミニウム薄膜層は剥離したレリー
フ画像のところが一緒に同形に剥がされ他の部分
が残存された遮光性の高いマスク版ができた。
とにより、アルミニウム薄膜層は剥離したレリー
フ画像のところが一緒に同形に剥がされ他の部分
が残存された遮光性の高いマスク版ができた。
この方法により作成した各色のマスク版は、全
面に修正液を塗布する必要もなく、直ちに製版に
使用でき作業工程を軽減させることができた。
面に修正液を塗布する必要もなく、直ちに製版に
使用でき作業工程を軽減させることができた。
実施例 2
平均重合度700のアクリルアミド―ダイアセト
ンアクリルアミド共重合体(共重合比6:4)10
g、4―ジアゾジフエニルアミン塩化亜鉛塩とホ
ルムアルデヒドとの縮合物0.7gを水89.3mlに溶
解し、固型分含有量10.7%の感光性組成物溶液を
調整した。
ンアクリルアミド共重合体(共重合比6:4)10
g、4―ジアゾジフエニルアミン塩化亜鉛塩とホ
ルムアルデヒドとの縮合物0.7gを水89.3mlに溶
解し、固型分含有量10.7%の感光性組成物溶液を
調整した。
また厚さ100μのポリエチレンテレフタレート
フイルムの片面に、銅をスパツタリング法により
アルゴンガス圧5×10-3torrでコーテイングし、
膜厚100μの銅薄膜層を形成した。
フイルムの片面に、銅をスパツタリング法により
アルゴンガス圧5×10-3torrでコーテイングし、
膜厚100μの銅薄膜層を形成した。
銅薄膜上に前記の感光性組成物溶液を、乾燥後
の膜厚が10μとなるような量で、ワイヤーバーを
用いて塗布後90℃で3分間乾燥して画像形成材料
を得た。
の膜厚が10μとなるような量で、ワイヤーバーを
用いて塗布後90℃で3分間乾燥して画像形成材料
を得た。
この画像形成材料を、実施例1に従つて露光、
現像すると銅薄膜上に原稿に忠実なネガのレリー
フ画像が得られた。
現像すると銅薄膜上に原稿に忠実なネガのレリー
フ画像が得られた。
レリーフ画像を部分的に剥離したマスク版は修
正の必要もなく直ちに製版に使用できた。
正の必要もなく直ちに製版に使用できた。
実施例 3
ホルマール分81%、アセテート分9〜13%、ア
ルコール分5〜6.5%のポリビニルホルマール樹
脂10g及び、1,2―ナフトキノン―ジアジド(2)
―4―スルフオン酸のノボラツクエステル3gを
1,2―ジクロルエタン87gに溶解し、感光性組
成物溶液とした。
ルコール分5〜6.5%のポリビニルホルマール樹
脂10g及び、1,2―ナフトキノン―ジアジド(2)
―4―スルフオン酸のノボラツクエステル3gを
1,2―ジクロルエタン87gに溶解し、感光性組
成物溶液とした。
また厚さ100μのポリエチレンテレフタレート
フイルムの片面にアルミニウムを真空蒸着し、膜
厚100μのアルミニウム薄膜層を形成した。
フイルムの片面にアルミニウムを真空蒸着し、膜
厚100μのアルミニウム薄膜層を形成した。
アルミニウム薄膜上に、前記の感光性組成物溶
液を、乾燥後の膜厚が5μとなるような量で、ワ
イヤーバーを用いて塗布後90℃で3分間乾燥し
て、画像形成材料を得た。
液を、乾燥後の膜厚が5μとなるような量で、ワ
イヤーバーを用いて塗布後90℃で3分間乾燥し
て、画像形成材料を得た。
感光性マスク層上にネガのくくり線原稿を密着
させ、実施例1の光源にて50秒間露光した。
させ、実施例1の光源にて50秒間露光した。
次いでサルチル酸ナトリウム300g、水酸化ナ
トリウム10gを水700mlに溶解させて現像液を調
整し、前記露光済フイルムを浸漬して約5分間現
像した。
トリウム10gを水700mlに溶解させて現像液を調
整し、前記露光済フイルムを浸漬して約5分間現
像した。
水洗、乾燥して得られたフイルムには、アルミ
薄膜上に、原稿に忠実なネガ画像が形成されてお
り、実施例1,2と同様に修正液による処理をす
ることなく選択的に剥離して、そのままマスク版
として製版に供することができた。
薄膜上に、原稿に忠実なネガ画像が形成されてお
り、実施例1,2と同様に修正液による処理をす
ることなく選択的に剥離して、そのままマスク版
として製版に供することができた。
実施例 4
カプロラクタム、ヘキサトチレンジアミンアジ
ペート及び4,4′―ジアミノジシクロヘキシルメ
タンアジペートの共重合体(BASF社より
ULTRAMID―1Cとして市販)の10%のメタノー
ル溶液を調製した。
ペート及び4,4′―ジアミノジシクロヘキシルメ
タンアジペートの共重合体(BASF社より
ULTRAMID―1Cとして市販)の10%のメタノー
ル溶液を調製した。
アルミニウムを100μ真空蒸着した100μのポリ
エステルフイルムのアルミの上に上記の液を塗布
乾燥して10μの塗膜とした。
エステルフイルムのアルミの上に上記の液を塗布
乾燥して10μの塗膜とした。
更にこの上にナフトキノン(1,2)ジアジド
(2)―5―スルホン酸ソーダのノボラツクレジンエ
ステルの20%のメチルエチルケトン、トルオール
(1:1)溶液を3μの乾燥塗膜となるよう塗布
した。
(2)―5―スルホン酸ソーダのノボラツクレジンエ
ステルの20%のメチルエチルケトン、トルオール
(1:1)溶液を3μの乾燥塗膜となるよう塗布
した。
このフイルムを原稿と合わせ紫外線露光後、カ
セイソーダのアルカリ水溶液で現像した。
セイソーダのアルカリ水溶液で現像した。
更に感光面上をP―クロル安息香酸の中性塩の
20%水溶液でこするとアルミ層上にレリーフ画像
ができた。このレリーフ画像をナイフ等で、持ち
上げ剥離すると、レリーフ下部のアルミ層も剥離
して、マスク版ができ、修正液による処理を施す
ことなくそのまま製版に供することができた。
20%水溶液でこするとアルミ層上にレリーフ画像
ができた。このレリーフ画像をナイフ等で、持ち
上げ剥離すると、レリーフ下部のアルミ層も剥離
して、マスク版ができ、修正液による処理を施す
ことなくそのまま製版に供することができた。
以上の実施例からも明らかなように本発明の製
版用感光性マスク材料は、透明フイルム支持体の
上に金属薄膜層を形成し、該薄膜層の上にこれと
強固に接着しかつ皮膜性を有する感光性マスク層
を形成して構成され、写真処理によつて形成され
た感光性マスク層のレリーフ画像を選択的に剥離
することによつて一緒に金属薄膜層を剥離したレ
リーフ画像と同形に剥取り、原稿のくくり線に対
応する金属薄膜層の部分は透明フイルム上に残存
させて遮光性を有するようにしているので、各色
のマスク版を作成するにあたり修正液による隠
蔽、消去の作業が不要となり、製版の作業能力が
著しく向上する。
版用感光性マスク材料は、透明フイルム支持体の
上に金属薄膜層を形成し、該薄膜層の上にこれと
強固に接着しかつ皮膜性を有する感光性マスク層
を形成して構成され、写真処理によつて形成され
た感光性マスク層のレリーフ画像を選択的に剥離
することによつて一緒に金属薄膜層を剥離したレ
リーフ画像と同形に剥取り、原稿のくくり線に対
応する金属薄膜層の部分は透明フイルム上に残存
させて遮光性を有するようにしているので、各色
のマスク版を作成するにあたり修正液による隠
蔽、消去の作業が不要となり、製版の作業能力が
著しく向上する。
第1図イ,ロは従来の製版用マスク材料におけ
るネガテイブなレリーフ画像を選択的に剥離し
て、マスク版を作成するところを説明するための
断面図、第2図は本発明の製版用マスク材料を示
す断面図、第3図イ,ロは本発明の製版用マスク
材料におけるマスク版を作成するところを説明す
るための断面図である。 9…透明フイルム、10…金属薄膜層、11…
感光性マスク層。
るネガテイブなレリーフ画像を選択的に剥離し
て、マスク版を作成するところを説明するための
断面図、第2図は本発明の製版用マスク材料を示
す断面図、第3図イ,ロは本発明の製版用マスク
材料におけるマスク版を作成するところを説明す
るための断面図である。 9…透明フイルム、10…金属薄膜層、11…
感光性マスク層。
Claims (1)
- 1 透明フイルムを支持体としてこれに金属薄膜
層を形成し、該薄膜層の上にこれと強固に接着し
かつ皮膜性を有する感光性マスク層を形成したこ
とを特徴とする製版用感光性マスク材料。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56156961A JPS5858546A (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | 製版用感光性マスク材料 |
GB08226891A GB2109126B (en) | 1981-10-02 | 1982-09-21 | An image forming material |
DE19823236602 DE3236602A1 (de) | 1981-10-02 | 1982-10-02 | Lichtempfindliches maskiermaterial zur herstellung einer platte |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP56156961A JPS5858546A (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | 製版用感光性マスク材料 |
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Publications (2)
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Family Applications (1)
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-
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- 1984-08-21 US US06/642,817 patent/US4581308A/en not_active Expired - Fee Related
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