JPS59104993A - 画像記録材料及び該材料で実施可能な画像記録法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、３００〜４２０　ｎｍの波長範囲の化学光線
に対して透過性の寸法安定な支持体と、該支持体上に施
された。熱線に対して感受性であるマスク形成層とを有
するコピーフィルムに関する。更に。

本発明は、コピーフィルムの画像に基づく熱処理により
、化学光線に対して不透過性の画像を含有するマスクを
製造し、引続き該マスクを通して感光性記録材料を露光
しかつレリーフ画像を自体公知方法で現像することより
成るレリーフ画像の製法に関する。

レリーフ画像１例えば画板印刷版、平板印刷版又はレジ
ストパターンを製造するには、今日では一般に感光性記
録材料から出発し、該記録材料を化学光線で画像に基づ
き露光する。引続き、感光性記録材料がネガチプ型又は
ポジチブ型であるかに基づき、レリーフ形成層の露光さ
れなかった部分又は露光された部分をレリーフの形成下
に一般に溶剤で洗浄することにより除去する。この記録
材料の画像に基づく露光のためには、化学光線に対して
不透過性の画像を含有するマスクフィルムを使用する。

この場合マスク内の画像はできるだけ大きなコントラス
ト（例えば画像部分は完全に不透過性でありかつ画像不
在部分は完全に透明である）を有するべきである。

マスクフィルムを製造するには、今日では一般に感光性
銀フィルムから出発し、これらは但し高価でありかつ取
扱いかめんとうである。従って。

フォトマスクを製造するために銀不含フィルムを提供す
ることが極めて所望される。例えば銀不含の感光層から
出発し、該層を画像に基づき露光することにより高い光
学濃度の画像を形成させることによりフォトマスクを製
造することは既に開示された（例えばドイツ連邦共和国
特許出願公開給２２０２３６０り明細書９同国特δ１−
出願公告第２６５１８６４ｊＪ明細書、同国特許出願公
開第２１４９０５９号明細書。

同国特ｉ′１：公告第２８２１．０５３号明細書）。し
かしながら、これらの種類のマスクフィルムは今日まで
実地には済お重要視されていない、それというのもこれ
らは溶剤で現像されねばならずかつそうして得られた画
像レリーフは画像点か微細な部分では機械的摩耗にス・
１して敏感であるからである。槌って、相変らずフォト
マスクを製造するために処理かｆｉｉｉ単な廉価なコピ
ーフィルムが所望される。

本発明の課題は、感光性記録材料を画像に基づき露光す
るために使用することかできるｆハｊ単かつ急速にフォ
トマスクを製造することか可能である銀不含のコピーフ
ィルムを提供することであった。

該コピーフィルムは特に３００〜４２０ｎｍの波長範囲
の光に対して画像部分と画像不在部分との間に鮮鋭な強
いコントラストを形成し、耐久性かつ抵抗力があり、ま
た微細な画素の精（ｉ＋ｒなかつオリジナルに忠実な画
像再生を行なうフォトマスクを形成することを目的とす
る。

この課題は本発明により、マスク形成層が１．００μｍ
より大きな波長のＩＲレーザで照射するとその３００〜
４２０　ｎｍの範囲の吸収スペクトルを、該波長範囲で
の光学濃度が少なくとも１．３単位変化するように不可
逆的に変化する熱変色性系を含有する。

化学光線に対して透過性の寸法安定な支持体と該支持体
上に施されたマスク形成層とを有するコピーフィルムに
よって角イ決される。

従って１本発明の対象は、３００〜４２０　ｎｍの波長
範囲の化学光線に対して透過性の寸法安定な支持体（Ｔ
）と、該支持体上に施されたマスク形成層（ＭＳ　）と
を有するコピーフィルムであって、該コピーフィルムは
マスク形成層（ＭＳ）か熱線に対して感受性であり、か
つ１．００μｎ〕より大きな波長のＩＲレーザで照射す
ると３００〜４２０　ｎｍの範囲の吸収スペクトルを、
該波長範囲でのマスク形成層（ＭＳ）の光学濃度が少な
くとも１．３単位変化するよう（Ｃ不ｕＪ逆的に変化す
る熱変色性糸を含有することを特徴とする。

本発明の特殊な１実ＩＭ態様で、は、コピーフィルムの
マスク形成層（ＭＳ）に面する表面か直接感光性記録付
着の感光性のレリーフ形成層上に施されている。

更に１本発明の対象は、コピーフィルムをＩＲレーザで
画像に基づき照射することによりフォトマスクを製造す
る方法である。更に１本発明は、まずコピーフィルムと
感ソロ性記録材料から成る多層素子のマスク形成層を画
像に基づきＩＨレーザで照射してフォトマスクを形成さ
せ、引続き感光性レリーフ形成層をフォトマスクを通し
て化学光線で露光し、感光性レリーフ形成層からフォト
マスクを剥離しかつレリーフ形成層を溶剤で洗浄するこ
とによりレリーフ画像を形成することより成るレリーフ
画像の製法に関する。

本発明のコピーフィルムの支持体（Ｔ）は１寸法安定で
ありかつ３００〜４２０ｎｍの波長範囲の化学光線に対
して透過性であるべきである。支持体材料としては、特
に熱線に対して安定でありかつマスク形成層（ＭＳ）を
ＩＲレーザで熱照射した後も３００〜４２０　ｎｍの波
長範囲の化学光線に対する透過性を！ｉＢ持するプラス
チックフィルムもしくはシートか該当する。特にポリエ
ステル例えばポリエチレンテレフタレート又はポリブチ
レンテレフタレートから成るフィルムもしくはシートか
有利であることが立証された。コピーフィルムの支持体
（Ｔ）は通常８〜１５０μｎｌ　、有利には１０〜３０
μｍの厚さを有する。

コピーフィルムのマスク形成Ｊ＋？Ｉ（Ｍｓ　）は１本
発明に基づき１．００μｍよりも大きな波長のＩＲレー
ザで照射するとその３００〜４２０　ｎｍの範囲の吸収
スペクトルを不可逆的に変化する熱変色性系を含有する
。この場合、熱変色性系はマスク形成層（ＭＳ）がＩＲ
レーザて照射する前に０．５末）ｄ市、有利には０．３
５以下の所定の波長範囲の低い光学濃度を有しかつ該光
学濃度がＩＲレーザて照射されると高まるように調製さ
れていてもよい。この場合には、マスク形成層（ＭＳ）
は照射範囲内のＩＲレーザで照射された後、３００〜４
２０　ｎｍの波長範囲で１．８以上。

有利には３．０よりも大きな光学密度を有する。

しかしまた、マスク形成層（ＭＳ）中の熱変色系は、マ
スク形成層（ＭＳ）が熱照射前に、３００〜４２０　ｎ
ｍの波長範囲で少なくとも１．８又はそれ以上であるべ
きでありかつ有利には３．０以上である高い光学濃度を
有しかつ熱照射によりその所定の波長範囲内での光学ｍ
度を低下するように調製きれていてもよい。この場合に
は、マスク形成層（１〜４Ｓ）は照射範囲内でのＩＲレ
ーザで照射された後。

３００〜４２０　ｎｍの範囲で最高０．５．特に０．３
５又はそれ以下の光学濃度を有する。

本発明によるコピーフィルム用の熱変色性系は。

一般に活性剤例えばラジカル、酸、塩基又は酸化剤の作
用を受けると、３００〜４２０　ｎｍの波長範囲の化学
光線に対して別の吸収特性を示す形に転位ないしは転化
する有機物質と、熱の作用を受けると吸収性物質を転化
させる前記活性剤とから成る。

前記波長範囲の化学光線に対してその吸収特性を変化す
ることので゛きる有機物質には、芳香族アミン、芳香ｂ
フェノール、シアニン。メロシアニン、芳香族トリアゾ
ール、芳香族ラクトン及び芳香族ラクタム（それぞれ酸
性もしくは塩基性形）スチルベン、アゾメチン並びに酸
化性芳香族ヒトロールが属する。このような物質の例と
しては。

ミヒラー（１ｖｉｉｃｈ１８ｒ　）のケトン、ｐ−ジメ
チルアミノベンズアルデヒド又はその塩酸塩、０−ヒド
ロキシフェニル−ベンズトリアゾール、０−ヒドロキシ
ベンゾフェノン又ハそのナトリウムフエノラー）、４．
４’−ビス（ジメチルアミノ）〜ベンズヒドロール及び
テトラフエニルエチレンカ挙げられる。これらの化合物
の有利な分類は芳香族アミン又はその塩酸塩である。

熱の作用を受けると有機物質の吸ＩＪＳ、特性を変化さ
せる適当な活性剤の例は、熱の作用を受けるとラジカル
に分解する化合物１例えばアゾジイソブチロニトリル、
ジクミル又は過酸化ベンゾイル。

及び熱の作用を受けると酸又は塩基を遊離する有機化合
物１例えばフェノラート、芳香族アミンの塩酸塩又は臭
化水素酸塩、ジアゾキノン、スルホン酸エステル、ニト
ロ化合物又はニトレートである。活性剤として特に有利
なものは、スルホン酸エステル、特に芳香族スルホン酸
例えばベンゼンスルホン酸又はトルエンスルホン酸のエ
ステル。

及び第２級アルコール例えばブタノール−（２）、ブタ
ンジオール−（２，３）又はシクロヘギサノールである
。熱変色性系中の活性剤の種類は、就中可変吸収特性を
有する使用有機物質の種類に基づいて決定される。

３００〜４２０　ｎｍの波長範囲の化学光線の吸収率か
熱の作用を受けると高まる１本発明で使用される熱変色
性系の例は、ミヒラー・ケトン塩酸塩／トルエンスルホ
ン酸、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド塩酸塩／ト
ルエンスルホン酸及びまたステアリン酸鉄／メルカプト
ベンズイミダゾールである。３００〜４２０　Ｂｍの波
長範囲の化学光線の吸収率が熱の作用を受けると低下す
る１本発明で使用される熱変色性系の例は、アゾジイソ
ブチロニトリル／テトラフェニルエチレン、ナフト−０
−キノンジアジド／　Ｎａ−フェノラート、Ｎ−クロル
アセトアミド／グルタフンジアルデヒド−Ｎａ及びトリ
クロル酢酸エステル／ニトロ型−カリウムである。

本発明のコピーフィルムのためには、活性剤として既述
のスルホン酸エステル例えば２．３−ブタンジオールシ
トシレー１−　、ベンジルトシレート。

７クロヘキシルトシレート又は２．５−ヘキサンジオー
ルジトシレートを、かつ化学光線に対して可変膜＋８！
率特性を有する有機物質として特に芳香族アミン例えば
４．４′−ビス−アミノベンゾフェノン例えばミヒラー
・ケトン又はその誘尋体、ｐ−ジメチルアミノベンズア
ルデヒド、２−ジメチルアミノアントラキノン、２−ヒ
ドロキシフェニル−ベンズトリアゾール、ジアルキルア
ミノ安息香酸エステル、２．４−ジニトロフェノラート
−カリウム、ｐ−ニトロンジメチルアニリン又はｐ−ジ
メチルアミノアザベンゼンを含有する熱変色性系が特に
有利であることが立証された。

熱変色性系中の吸収性有機物質と活性剤との割合は広い
範囲内で変動することができる。しかしながらこの場合
、活性剤は少なくとも吸収特性を変化させるため、ひい
ては光学濃度を変化させるために十分である量で含有さ
れているべきである。

熱変色性系は例えばそれぞれ吸収性有機化合物と活性剤
の和に対して、吸収性有機化合物１〜７０モル％及び活
性剤３０〜９９モル％を含有することかできる。熱変色
性系中の活性剤の割合は有利には５０モル％以上である
。

必須要件ではないが、極めて有効かつ有利には。

マスク形成層（ＭＳ）中の熱変色性糸は結合剤と一緒に
使用すべきである。この場合、この結合剤は特に熱変色
性系の支持体（Ｔ）に対する良好なイ」着を速成するた
めに役立つ。結合剤は自体で熱安定性でありかつ３００
〜４２０の波長範囲の化学光線に対して透過性であるべ
きである。この結合剤の化学光線に対する透明度は例え
ばＩＲレーザで熱１１（１射された後もなお維持される
べきである。結合剤としては、特に皮膜を形成する熱安
定性の透明な重合体１例えばポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリビニルアルコール、ポリメチルメタクリレー
ト。

ポリアミド、ポリウレタン及びポリカーボネートが該当
する。

更に、マスク形成層（ＭＳ）はなお別の添加物。

例えば重合体結合剤用の軟化剤１重合体安定剤。

充填剤、顔料並びに特に染料及び／又は可視の熱変色性
指示共系、すなわち熱の作用を受けるとその色（可視光
線の波長範囲内の吸収特性）を変化する梁を含有するこ
とができる。この場合には一般に１通常は無色かもしく
は僅かに着色された着色剤と、系の加熱の際に３ｒｆ色
剤を発色させる活性剤とを含有する系が使用される。こ
の場合１着色剤としては、特にジー及びトリフェニルメ
タン。

フルオラン、フェノチアジン、キシンテン、チオキサン
チン、スピロピラン又はアクリジン色条のロイコラクト
ン又はロイコ塩基型か該当する。活性剤としては、既述
の化合物、特にまた酸性有機化合物例えはフェノール、
及び有利にはスルホン酸エステル、特に有利にはトシレ
ートが適当である。可視の熱変色性指示蘂糸をマスク形
成Ｗｔ　（””　）に添加することにより１本発明によ
るコピーフィルムの熱Ｊ！＜ｆ射の際に、単に３００〜
４２０　ｎｍの波長範囲での吸収特性が変化する（この
ことはフォトマスクとして使用するために重要である）
たけでなく、同時にマスク形成層（ＭＳ）の色変換か行
なわれる。従ってコピーフィルムの熱１！＝：４射され
た部分と熱ＩＫＩ射されなかった部分か眼で明らかに識
別可能になる。このことは特に本発明によるコピーフィ
ルムの取扱い及び使用をｆｊｉｊ単にする。

本発明によるコピーフィルムのマスク形成層（ＭＳ　）
中の熱変色性系の量は、就中特にマスク形成Ｘ・７　（
ＭＳ　）の所望の光学濃度に基づいて決定される。

顔量はマスク形成層（ＭＳ）の層厚さに依存して。

マスク形成層（ＭＳ）の熱照射後、吸１ｔｌ！性部分が
３００〜４２０　ｎｍの波長範囲で少なくとも１．８．
有利には少なくとも３．０の光学濃度を有しかつ非吸収
性部分が３００〜４２０　ｎｍの波長範囲で最高０．５
．特に最高０．３５の光学密度を有するように規定され
る。

この場合、マスク形成層（、ＭＳ　）の層厚さは通常１
〜５０μｍの範囲、特に２〜２０μｍの範囲にある。

マスク形成層（ＭＳ）はフォトマスクを製造する際に使
用される熱照射がマスク形成する層（ＭＳ）内で可能な
限り十分に吸収されるように借成するのが有利である。

従って、マスク形成層（ＭＳ）の成分はその吸収特性が
有利にはコピーフィルムを使用する際に使用される熱照
射又は使用ＩＲレーザに合わせるべきである。

本発明のコピーフィルムを製造するには、マスク形成層
（ＭＳ　）の成分を激しくかっ相Ｊ１．に均質に混合し
＋　ＩＸいて該混合物を支持体ＣＴ　）上に層状で所望
のＭ厚さで施す。このためには自体公知の混合法及び４
１で布法を適用することかできる。有利にはマスク形成
層（ＭＳ　）の成分を溶ｉｌｌに溶かし、該溶液を支持
体（’Ｉ’）　Ｊ−に流延し、溶剤を蒸発させかつマス
ク形成層（ＭＳ　）を乾燥する。

本発明のコピーフィルムは１例えば光重合性記録材料か
ら印刷版又はレリーフ版を製造する際に利用されるよう
なフォトマスクをＷ造するために極めて適当である。こ
のようなフォトマスクを調温するには、マスク形成層（
ＭＳ）を画像に基づき熱照射する。この操作は１．ｏｏ
μｍよりも大きな波長のＩＲレーザを用いて行なうのが
有利である。本発明に基づきフォトマスクを製造するた
めに使用することができるＩＲレーザの例は、　　ＣＯ
レーザ。

ＣＯレーザ及びＹＡＧレーザである。この場合には。

マスク形成層（ＭＳ）の画像に基づく照射は有利には、
　ｉｌ！＋ｉ像オリジナルを読取りレーザで走査しかつ
この際最終的に得られた電気的情報を、場合により中間
記憶した後に記録レーザに送信し、そこでコピーフィル
ムを画像に基づくオリジナルの明暗情報に相応して点な
いしは行で熱照射する形式で実ｈＩＩｉするのが有利で
ある。この場合、レーザの強度は１点の高い鮮鋭度を得
られるように商い局所的温度上昇を達成するためにでき
る／こけ高い、すなわち数ワットの範囲内にあるべきで
ある。レーザビームは多角反射系を介してマスクフィル
ム」二を往復運動させるか又は回転するドラム上のマス
クフィルムを照射することができる。表面エネルギは一
般に０．２〜２　ｙ　／　ｃａの範囲にある。

本発明のコピーフィルムで製造したフォトマスクは鮮鋭
な、精確なかつオリジナルに忠実な画像輪郭を有する。

この場合、使用する記録レーザの種類に基づき、極めて
高い解像力を達成することもできる。更に、コピーフィ
ルムの熱照射された部分と、熱照射された部分と、熱１
７ｔ１射されなかった部分は、３００〜４２０　ｎｍの
波長範囲で光学濃度において大きな差を呈する。従って
、該フォトマスクは、マスクフィルムを感光性記録材料
上に載せ。

感光性記録材料をマスクフィルムを通して化学光線で露
光し、引続き現像することにより、複写技術においてレ
リーフ画像を製造するだめのフォトマスクとして極めて
適当である。

この目的のために１本発明のコピーフィルムは既にＩＩ
（レーザて熱照射する前に感光性記録材料と多層素子の
形で結合されていることも可能である。

往って、この本発明の特殊な実施態様は、前記順序で重
ね合わされた以下の層、すなわち寸法安定な基礎もしく
はベース層（Ｂ）、感光性レリーフ形成層（Ｒ８）、　
　３００〜４２０ｎｍの波長範囲の化学光線に対して透
過性の寸法安定な中間層（Ｚ）（該層は前記のコピーフ
ィルムの支持体層（Ｔ）に相当する）、熱線に対して感
受性のマスク形成層（ＭＳ）（該層は前記のマスク形成
層（ＭＳ）に相当する）並びに場合によりカバ一層（Ｄ
）を有する多層記録材料を包含する。

多層画像記録材料のベース材料ＣＢ）としては。

感光性、特にン８重合性記録利料用として公知の寸法安
定な、剛性もしくはフレキシブルな支持体材料が利用さ
れる。このためには特に例えばポリエステル例えばポリ
エチレンテレフタレート又ハポリブチレンテレフタレー
トから成るプラスチックフィルムもしくはシート、又は
金属薄板又は金属被覆基体例えはアルミニウム板、酬ｌ
暑板又は銅板。

又はプリント回路を製造するための銅被）１１白金が属
する。この場合、ベース層ＣＢ）は感光性のレリーフ形
成層（Ｒ８）に対する良好な付着を保証するために９機
械的及び７／又は化学的に前処理されていてもよく、又
は接着層が施されていてもよい。

このような接着層は１例えばポリウレタンヘースの一成
分もしくは二成分接着剤から製造することかできる。ベ
ース層ＣＢ）はハレーション防止層を担持していてもよ
い。

感光性のレリーフ形成層（Ｒ８）のためには、感光性記
録材料として慣用のかつ自体公知の材料が該当する。例
えＵＯ−キノンジアジドベース（ドイツ連邦共和国特ｔ
′１：出願公開第２０２８９０３り明細書及び同線２２
３６９４１り明細ゼシ参Ｉ（，０又は。−ニトロ力ルヒ
ノールエステル基を含有する重合体（ドイツ連邦共和国
特ｄ′［出願公開第２１５０６９１吋明細書又は開鎖２
９２２７４６　Ｑ明細書参照）のボジチブで操作する系
の他に、ここでは特にネカチブで操作する光重合性及び
／又は光架橋性系について記載する。

該層は・−・般に重合体結合剤の少なくとも１種、低分
子量のエチレン系不飽和光重合性化合物の少なくとも１
種、光重合開始剤の少なくとも１種並びに場合によりそ
の他の添加物の混合物から成る。

光重合性及び／又は光架橋性のレリーフ形成層（Ｒ８）
を構成するために適当な重合体結合剤は、？８剤中で可
溶性もしくは少なくとも分散性のポリアミド、ポリアミ
ド、ポリウレタン、飽和もしくは不飽和ポリエステル、
ポリエステル−及びポリエ−チルウレタン、スチレン重
合体、アクリル−及びメタクリル酸エステル重合体及び
共重合体、ポリビニルアルコール及びその誘尋体、ブタ
ジェン−及び／又はイソプレン重合体及びその他である
。

この場合、特に有利であるのは９例えばフランス国特ａ
′１゛第１．５２０８５６号明細書又はドイツ連邦共和
国特許出願公開第２２０２３５７号明細書に記載された
ようなコポリアミド；ビニルアルコール重合体＋　％に
１〜４個の炭素原子を有する脂肪族モノカルボン酸の公
知のケン化されたポリビニルエステル例えば平均重合度
２００〜３０００及びケン化率６５〜９９モル％を有す
るポリビニルアセテート又はポリビニルプロピオネート
；（メタ）アクリル酸エステル共重合体、特にアルキル
基中に１〜８個の炭素原子を有する（メタ）アクリル酸
アルキルエステルの重合体；エラストマーのジエン／ス
チレン共沖合体、特にスチレン及びブタジェン及び／又
はイソプレンから成る多ブロツク共重合体；又はブタジ
ェン−及び／又はイソプレン−ゴム、例えばアクリルニ
トリル含量１５〜４０重量％を有するブタジェン／アク
リルニトリル共重合体である。

光重合性及び／又は光架橋性のレリーフ形成層（Ｒ８）
のための低分子量のエチレン系不飽和光重合性化合物と
しては、特にアクリル系の低分子量化合物、すなわち（
メタ）アクリレート並びに（メタ）アクリルアミド及び
これらの誘導体であり。

この場合適当な低分子量のエチレン系不飽和化合物の選
択はその都度使用される重合体結合剤に基づいて決定さ
れる。低分子量のエチレン系不飽和化合物の例としては
、ジオール、トリオール、又はテトラオールのジー、ト
リー又はテトラ−（メタ）アクリレート、例えはエチレ
ングリコール。

ジエチレングリコール、トリエチレングリコール。

分子１約５００以下のポリエチレングリコール、プロパ
ンジオール−１，２，プロパンジオール−１゜３、ブタ
ンジオール−１，４，ネオペンチルグリ：］　−／ｌ／
、　り！ｊセリン又はトリメチロールプロ、パンのジー
又はポリ−（メタ）アクリレートが挙げられる。更に、
適当であるのは前記ジー又はポリオールのモノ−（メタ
）アクリレート並びに１〜８個の炭素原子を有するモノ
アルコール例えはメタノコル、エタノール、ブタノール
、ヘキサノール又は２−エチルヘキサノールの（メタ）
アクリレートである。（メタ）アクリルアミド化合物の
例としては、（メタコアクリルアミド自体の他にエチレ
ングリコール−ビス−（メタ）アクリルアミド及びメチ
レン−ビス−（メタ）アクリルアミドが挙げられる。

光重合性及び／又は光架橋性のレリーフ形成層（Ｒ８）
は、正合体結合剤と低分子量のエチレン系不飽和光重合
性化合物とを一般に５０〜９０：５０〜１ｏのＭＲ比で
含有する。光重合１ノ）Ｊ始剤としては。

光重合性のレリーフ形成層（Ｒ３）に対してｏ、ｏｏ１
〜１０重量％、有利には０．Ｏ１〜５垂量％の量の通常
の光重合開始剤が該当する。例えばベンゾイン及ヒヘン
ゾイン化合物例えばベンゾインメチルエーテル、α−メ
チルベンゾインエチルエーテル。

α−メチロールベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル；ベンジル、ペンジルテタール例
えばベンジルジメチルテタール又はベンジルメチルベン
ジルケタール；又は例えばドイツ連邦共和国特許出願公
開第２９０９９９２号明細書に記載されているようなア
シルホスフィンオキシトが挙げられる。更に、光重合性
及び／又は光架橋性のレリーフ形成層（Ｒ３）は、別の
通常のかつ自体公知の添加物９例えば熱重合抑制剤、染
料。

顔料、増感剤、酸化防止剤、充填剤、軟化剤、滑剤等を
含有することができる。

多層画像記録材料の中間層（Ｚ）は、前記コピーフィル
ムの支持体（Ｔ）に相当する。該層は寸法安定でありか
つ３００〜４２０　ｎｍの波長範囲の化学光線に対して
透過性であるべきである。更に、該層は熱Ｉ！（１射に
対して安定であるべきでありかつ熱照射後上記の波長範
囲内でその吸収スペクトルを全くもしくは実質的に変化
すべきてない。中間層（Ｚ）は有利には透明な皮膜形成
重合体、特にポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエス
テル例えばポリエチレンテレフタレート又はポリブチレ
ンテレフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート又
はポリ塩化ビニルから成る。中間層（Ｚ）は特に熱変色
性層（ＭＳ）の感光性のレリーフ形成層（Ｒ３）への拡
散及びその逆方向の拡散を阻１止するために役立ちかつ
一般に感光性のレリーフ形成層（）（Ｓ）に対して僅か
な付着性を有するにすきない。従って。

該層はレリーフ形成ｕ（Ｒｓ）ｉ化学光線での露光後か
つレリーフ画像の現像前における感光性のレリーフ形成
層（Ｒ８）からのマスクを形成する熱変色性層の剥離に
よる容易かつ問題の無い除去を可能にする。中間層（Ｚ
）は有利には５〜１３５１＋ｍ、特に８〜１！５／４ｍ
の層厚さを有する。

中間層（Ｚ）上には、熱線に対して感受性のマスク形成
Ｐｆｉ（ＭＳ）が施されている。これらの多層し１像記
録材料の感熱性マスク形成層（）、、４Ｓ　）は、コピ
ーフィルムの前記マスク形成Ｍ（ｕｓ）そのものと同じ
成分から成りかつ同じ形式で構成されている。

多層画像記録材料の感熱性のマスク形成層（ＭＳ　）」
二には、コピーフィルムのマスク形成Ｈ（ＩＶ４ｓ　）
　上における同様に、場合によりなおりバ一層（Ｄ）が
特に保護層として存在してもよい。このカバ一層（Ｄ）
は通常の皮膜形成重合体９例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリ塩化ブチレン、ポリビニルアルコール、
ポリスチレン又は同種のものから成っていてよくかつ有
利には感熱性のマスク形成層（ＭＳ　）の画像に基づく
熱ｌ！Ｌｌｉ射前に該層から剥離すべきである。

多層の画像記録材料の製造は１通常のかつ自体公知方法
に基づき１例えば個々の層を重ね合わせかつ相互に結合
させることにより実施することができる。この場合、ま
ずベース層ＣＢ）及び感光性のレリーフ形成層（Ｒ８）
から成る複合体と、中間層（Ｚ）及び感熱性のマスク形
成層（ｋｉｓ）並びに場合によりカバ一層ＣＤ）から成
る複合体を製造し。

次いで中間層（Ｚ）の自由表面と感光性のレリーフ形成
層（Ｒ８）を積に１．圧縮又は同種の方法により。

場合により溶解助剤を使用して相互に接合させる形式で
実施するのが有利でみる。

本発明の多層記録材料を用いるレリーフ画像の製造は、
まず場合によりカバ一層ＣＤ）を剥離した後、マスク形
成層（ＭＳ）を特に１．ｏｏμｍより大きな波長のＩＲ
レーザで画像に基づいて熱照射することにより行なう。

このマスク形成ｆｙｆ　（ＭＳ　）の画像に基づく熱照
射のためにも前記の操作法が当１１）ミる。

引続き、そうして得られたマスク層を通して、その下に
ある感光性のレリーフ形成層（Ｒ８）を３００〜４２０
　ｎｍの波長範囲の化学光線で寂光する。このためには
例えば炭素アークランプの他に特に水銀高圧ランプ、キ
セノン高圧ランプ並びに有利には水銀低圧螢光ランプを
使用することができる。化学光線で露光するための露光
時間は、感Ｘ、性のレリーフ形成層（Ｒ８）の種類に基
づいて一般に約０．５〜１０分の範囲にある。この化学
光線での旅尤後に、中間層（Ｚ）をマスク＃（ＭＳ）と
−緒に露光されたレリーフ形成層（Ｒ８）から例解しか
つレリーフを自体公知方法で一般に屑を適当な浴剤で洗
浄することにより現像する。

この操作法の特に有利なことは、コンピュータ又は磁気
記録イイ料によって記憶された′１１１報を直接的に複
写二フィルムを介する回り道をせずに印刷版を製造する
ことができることである。もう１つの利点は１周知の如
く他のレーザに比較して極めて高出力の赤外線レーザを
使用することであり、このことは高い記録速度をもたら
す。更に９本発明方法によればマスク製造において湿式
であれ又は乾式であれ、あらゆる現像もしくは定着工程
が省略され、かつ画像製造において多層素子を使用する
ことにより加工の際に均質なかつ良好な品質が保証され
る。

次に本発明を実施例によりａ″Ｃ細に説明する。実施例
中記載の「部」及び「％」は、他にことわりの限り１重
量に基づく。

実施例 この実施例は本発明のコピーフィルムを用いたボジチプ
型ＵＶマスクの製造法を示す。

ポリスチレン５０部、ベンシルトシレー）　４０　部。

ミヒラー・テトン２部及びヘキサメチレンジアミン０．
０４部を酢酸エステル５００部に溶かしかつ該溶液を圧
力フィルタ（孔の大きさ２μｍ）を通して濾過した後、
厚さ１０μｍのポリプロピレンシート上に、乾燥後残留
する感熱性マスク形成Ｎが１５μｍの厚さを有するよう
に流展した。

こうして得られた淡黄色のコピーフィルムを金属マスク
を通し才線状で４Ｗ　−Ｃ１□レーザを用いて。

フィルム上の明るい画像部分にＩＪ／ＣＩ？Ｌの放射エ
ネルギが当るように照射した。レーザビームの幅は約０
．１１ｍｍであった。この場合、３６６部ｍでのコピー
フィルムの光の透過率は０．５％（約２．３の光学濃度
に相当）から８５％（約０．０７の光学濃度に相当）に
変化した。

実施例２ この実施例は本発明の多層画像記録椙卑１を用いた光重
合体の印刷版の製造法を示す。

塩化メチレン３０００部中のポリメチルメククリレ−）
　５２０髄１ｉ　シクロヘキシルトシレート１６０部。

ミヒラー・ケトン２０部、トリクレジルホスフェート３
００部、ヘキサメチレンジアミン０．６部及び３′−フ
ェニル−７−ダニチルアミン−２，２′−スピロ−ジー
（２Ｉ（７’ｌ−ベンゾピラン）２０部の溶液を。

加圧１１４Ｗ過後流延ドクタプレートを介して幅５００
朋及び厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートシー
ト上に施した。乾燥後、　２１μｍの感熱性のマスク形
成層が残留した。厚さ３０μｎ１のポリエチレンカバー
シートを保ぬシートとして貼付けた。

ポリエチレンテレフタレートシートを有する上記のよう
にして得られたコピーフィルムを数滴のエタノールを用
いてポリアミドベースの市販の光ボ合性印刷版の感光層
上に積層した。ポリエチレン保護シートを剥離した後、
感熱性のマスク形成層を複写ネカチブオリジナル（スク
リン線数：４８本／鑞）から曲Ｉ［象に＾しづき１ｏｏ
　ｗ　−ｃｏ２　レーザて照射した。この場合、レーザ
ビームが当った層部分は画像に基づき淡黄色から強烈な
６色に変色した。

引続き１画像記録材料を市販の露光装置（各々２０Ｗの
８本の低圧螢光管を装（ｉｉｉｆ　）内でマスクフィル
ムの側から１０分間全面的に露光した。次いで。

古色のマスクフィルムを剥離しかつ印刷版をプロパツー
ル／エタノール／水混合物（’７：２：１）で洗浄した
。光重合はマスクフィルムの青色の領域下でのみ行なわ
れたために、光重合体のレリーフ画像が得られ、該画像
からプリントにより優れた品質の印刷物を製造すること
ができた。

実施例３ この実１ｊ（Ｍ　例は本発明のコピーフィルムを用いて
製造したネガチブ型ＵＶマスクお製造法及び機能を示す
。

水２００部中のポリビニルアルコール２０’ｔＬ　　４
−ジメチルアミノベンゾフェノン塩酸塩ｏ、５Ｉｌｌ　
　ｐ−トルエンスルホン酸ｏ、ｏ５部及ヒｎ　−フタ／
　　ｉｖｂ部の溶液を厚さ２５μｍのポリエステルシー
ト」二に流延しかつ厚さ２５μｍの殆んと透明な層に乾
燥した。

こうして得られたコピーフイノ、ｑ起ｉ市販のネガチブ
型の前霧光したオフセット印刷版に載せかつ実施例−と
同様にボジチブオリジナルと同じく画像に基づき熱照射
した。引続き、該複合体をＷ４４部内でＵＶ線（水銀低
圧螢光管）で全面的に１分間屈光した。マスク層の剥離
後、露光されたオフセット印刷版奢當法で現像及び乾燥
することにより完成した印刷版に加工することができた
。印刷において、この版を用いて優れた印刷結果か達成
された。

実施例グ 通常は導体板を製造するために使用されるような銅被覆
したエポキシ樹脂板に、市販の厚さ４５μｍの光重合性
乾燥フィルムレジストを積層した。フィルムレジストの
支持体シートを剥離した後、実施例１に記載のコピーフ
ィルムを乾式で積層しかつ電気回路のパターンを用いて
１ｌｉＩＩ像に基づきＩＲレーザで熱照射した。

引続き、化学光線で３分間全１１４ｊ的に露光した後。

マスクフィルムを剥離しかつ露光された光重合したレジ
スト層を１．１．ｌ−トリクロルエタンで洗浄した。銅
表面を回路パターンに相応して画像に基づき被覆した硬
質のレジスｌ一層か得られた。

レジストパターンのフランク形状は優れていた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）３００〜４２０　ｎｍの波長範囲の化学光線に対
   して透過性の寸法安定な支持体（Ｔ）と、該支持体上に
   施されたマスク形成層（ＭＳ）とを有するコピーフィル
   ムにおいて、マスク形成層（ＭＳ）が熱線に対して感受
   性であり、かつ１．ｏｏμｍより大きな波長のＩＲレー
   ザで照射すると３００〜４２０　ｎｍの範囲の吸収スペ
   クトルを、該波長範囲でのマスク形成層（ＭＳ）の光学
   濃度か少なくとも１．３単位変化するように不可逆的に
   変化する熱変色性系を含有することを特徴とするコピー
   フィルム。 Ｇ２）マスク形成層（ＭＳ）　ｄ；　３００〜４２０　
   ｎｍの波長範囲で最高０．５の光学密度を有しかつ熱照
   射によりこの波長範囲の化学光線に対する層（ＭＳ）の
   吸収率が上昇する。特許請求の範囲第１項記載の゛コピ
   ーフィルム。 （３）マスク形成層（ＭＳ　）　ｆＺ　３００〜４ｊ２
   ０　ｎｍの波長範囲で少なくとも１．８の光学密度を有
   しかつ熱照射によりこの波長範囲の化学光線に対する７
   ！（ＭＳ）の吸収率が低下する。特許請求の範囲第１項
   記載のコピーフィルム。 例マスク形成層（Ｍｓ）ｄ；ａ）スルホン酸エステル及
   びｂ）芳香族アミン又は芳香族アミンの塩酸塩から成る
   熱変色性系を特徴する特許請求の範囲第１項〜第３項の
   いずれか１項に記載のコピーフィルム。 （ｊ）マスク形成層が熱変色系の他に重合体結合剤を特
   徴する特許請求の範囲第１項〜第１項のいずれか１項に
   記載のコピーフィルム。 （Ｊ）マスク形成Ｎ（Ｍｓ）ｊ；その他の添加物、特に
   可視の熱変色性指示薬是を特徴する特許請求の範囲第１
   項〜第５項のいずれか１項に記載のコピーフィルム。 （７）寸法安定な基礎もしくはベース層（Ｂ）、感光性
   レリーフ形成層（Ｒ８）、マスク形成層（ＭＳ、）並び
   に場合によりカバ一層ＣＤ）の順序で重ね合わされた。 レリーフ画像を製造するために適当な多層画像記録材料
   において、レリーフ形成層（Ｒ３）トマスク形成層（Ｍ
   Ｓ）、との間に３００〜４２０ｎｍの波長範囲の化学光
   線に対して透過性でありかつ熱線に対して安定である寸
   法安定な中間層（Ｚ）か配置されており、かつマスク形
   成層（ＭＳ）が熱線に対して感受性でありかつ１．００
   μｍより大きな波長のＩＲレーザでＩＫＩ射すると３０
   ０〜４２０　ｎｍの範囲の吸収スペクトルを、該波長範
   囲でのマスク形成層（１〜４８　）の光学濃度が少なく
   とも１．３単位変化するように不可逆的に変化する熱変
   色性系を含有することを特徴とする多層画像記録材料。 （ざ）マスク形成層が３００〜４２０　ｎｍの波長範囲
   で最高０．５の光学濃度を有しかつ熱照射により３００
   〜４２０ｎｍの波長範囲の化学光線に対する吸収率を特
   徴する特許請求の範囲第７項記載の多層画像記録材料。 （ワ）マスク形成層（ＭＳ　）　ｙｂ：　３００〜４２
   ０　ｎｍの波長範囲で少なくとも１．８の光学密度を有
   しかつ熱照射によりこの波長範囲の化学光線に対する吸
   収率を特徴する特許請求の範囲第７項記載の多層画像記
   録材料。 （１０）感光性レリーフ形成Ｎ（Ｒ８）ｄ：重合体結合
   剤の少なくとも１種、低分子量のエチレン系不飽和光重
   合性化合物の少なくとも１種、光重合開始剤の少なくと
   も１種並びに場合によりその他の添加物の混合物から成
   る光重合性及び／又は光架橋性層から成る。特’Ｂ’ｌ
   ”ａ：’ｊ求の範囲第７項〜第９項のいずれか１項に記
   載の多層画像記録材料。 （／／）　３００〜４２０　ｎｍの波長範囲の化学光線
   に対して透過性の寸法安定な支持体（Ｔ）とマスク形成
   層（ＭＳ）とを有するコピーフィルムを画像に基づき照
   射することにより光学マスクを製造する方法において、
   特許請求の範囲第１項〜第６項のいずれか１項に記載に
   よるコピーフィルムを使用しかつマスク形成層（ＭＳ）
   を１．００μｍより大きな波長のＩＲレーザで画像に基
   づき照射することを特徴とする。光学マスクの製法。 （７，２）レリーフ画像を製造する方法において、特許
   請求の範囲第７項〜第１Ｏ項のいずれか１項に記載の多
   層画像記録材料を使用し、場合により存在するカバーシ
   ー）　（Ｄ）を剥離し、マスク形成Ｎ（ＭＳ）を１．０
   ０μＩｎより大きな波長のＩＲレーザで画像に基づき熱
   照射し、多層画像記録材料をマスク層（ＭＳ）の側から
   全面に３００〜４２０　ｎｍの波長範囲の化学光線で露
   光し、中間層（Ｚ）をマスク層（ＭＳ）と−緒にレリー
   フ形成層（Ｒ８）から剥離しかつ引続きレリーフ形成層
   （Ｒ８）からレリーフ画像を自体公知方法で現像するこ
   とを特徴とする。しＩＪ−７画像の製法。