JPH0339299B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は画像形成材料に関し、特に印刷製版に
用いる感光性マスク材料および製版用マスク版の
製造方法に関する。

従来より画像を網点でなくベタで印刷する場
合、版画を製版するために使用されるマスク版
を、再現すべき画像をいわゆるくくり線で囲んで
構成した原稿（以下くくり線原稿と称す）を基に
して感光性材料に写真処理を施こして作成する方
法がある。すなわちネガテイブまたはポジテイブ
のくくり線原稿を感光性材料の遮光性の感光性ピ
ール層に焼付け、次いで該ピール層に応じて現像
もしくは現像とエツチングの処理を行なうと、第
１図Ａに示すように感光性材料１の透明フイルム
２上には原稿３のくくり線４に相当する溝５の構
成された感光性ピール層のレリーフ画像６が形成
される。次いで第１図Ｂに示すように透明フイル
ム２からレリーフ画像６をマスクする部分６′を
残して針、ナイフなどで剥取ると必要な画像が遮
光性を有しない凹部７として形成されたマスク版
８が得られる。そしてこうして得られたマスク版
８に基づいて同様な写真処理を施こして版面の製
版が行なわれる。

ところで多色印刷をする場合、通常各色のマス
ク版は合板ネガ原稿から得られたレリーフ画像を
その色に応じた選択的剥取りによつて作成されて
おり、合版ネガ原稿にはある色のマスク版に不必
要な他の色のマスク版のくくり線が含まれてい
る。このくくり線に対応して感光性ピール層に形
成される溝のところでは光を遮光しないので、選
択的剥取りによつて各色のマスク版を作成するに
あたり、修正液と呼ばれる高い活性光線遮光性を
有する塗布液を画像上に塗布、乾燥して不必要な
くくり線に相当する溝を埋め隠蔽、消去しておく
必要がある。このことは周囲をくくり線で囲まず
線そのもので描く文字等についても同じである。

また異なる色をぴつたりと突き合せる印刷にお
いても、くくり線に相当する溝の部分をどちらか
一方の色になるようにしなければならず、他方の
色のマスク版は突き合せる部分の画像全面に修正
液を塗布、乾燥して溝を隠蔽、消去してから剥取
り作成する必要がある。

この様な目的に使用される修正液には、有機溶
剤溶液型と水溶液型のものがある。有機溶剤溶液
型は、引火性や臭気の点で取扱上注意を要する。
また水溶液型も乾燥が非常に遅く作業上能率が悪
いなどの欠点を有する。

更に、修正液の塗布には平らな広い場所と均一
に塗布する技術が必要であり、製版の作業工程上
改良の要求される部分であつた。

本発明はかかる従来の難点に鑑みなされたもの
で、その特徴とするところは透明フイルム支持体
上に紫外線遮光性で可視光線透過性の剥離可能な
薄膜層を形成して該薄膜層により紫外線に対する
遮光性を持たせるとともに、該薄膜層の上に形成
する感光性ピール層を強靱な皮膜性を有しかつ薄
膜層と強固な接着力を有するものとし、ネガテイ
ブなレリーフ画像を剥離したとき一緒に下の薄膜
層を同形に剥離させて必要な画像を形成し、くく
り線および文字等を描いた線に対応する薄膜層は
透明フイルム上に常に残存するようにした点にあ
る。

以下本発明を詳細に説明する。

本発明の感光性マスク材料は、第２図に示すよ
うに透明フイルムの支持体９上に紫外線遮光性で
可視光線透過性の剥離可能な薄膜層（以下遮光性
薄膜層と称す）１０を形成し、該遮光性薄膜層１
０の上にこれと強固に接着しかつ強靱な皮膜性を
有する感光性ピール層１１を形成して構成され
る。

本発明で使用する支持体９としては、平滑な表
面を有し、かつその上に以下に述べる遮光性薄膜
層を設けることができるフイルム形成性熱可塑性
高分子化合物のフイルムが用いられる。例えばポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポ
リプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、
ポリメチルメタアクリレートおよびこれらの共重
合体、ジアセチルセルロース、トリアセチルセル
ロース、プロピルセルロースおよび混合セルロー
スエステルが挙げられる。このうち寸法安定性に
優れた二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイ
ルムは特に好ましい。

本発明において紫外線遮光性で可視光線透過性
の剥離可能な遮光性薄膜層１０と感光性ピール層
１１とは次のように構成される。すなわち、薄膜
層１０と透明フイルム９との界面の接着力をＡ、
該薄膜層１０と感光性ピール層１１との界面の接
着力をＢとした場合、該薄膜層および感光性ピー
ル層は、Ａ＜Ｂとなるような組成で構成される。
この場合、Ａは通常のフイルム取扱い作業中に該
薄膜層が脱落しない程度の接着力でよく、また、
Ｂは上の条件を満足する限りいかに強い接着でも
よい。

また紫外線遮光性で可視光線透過性の剥離可能
な遮光性薄膜層は、本発明に従つて、部分的に剥
離した場合、透明フイルム上に残る、くくり線に
相当する部分の端部がシヤープに仕上る必要があ
るため、引き裂き強度の弱い組成がよい。

上記薄膜層は、バインダー用高分子化合物およ
び有色顔料又は染料からなり、バインダー用高分
子化合物と有色顔料又は染料とを、適当な溶媒に
て溶解、分散して支持体フイルム上に塗布、乾燥
して形成される。

バインダー用高分子化合物としては、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフツ化ビニル、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニリデン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
−（無水マレイン酸、アクリロニトリルまたはビ
ニルアルコール）三元共重合体、塩化ビニル−塩
化ビニリデン−（アクリロニトリル、酢酸ビニル
またはメチルメタアクリレート）三元共重合体、
アクリル酸エステル−（メチルメタアクリレート
またはスチレン）共重合体、線状熱可塑性ポリエ
ステルまたはコポリエステル例えばポリエチレン
テレフタレートまたはポリエチレンテレフタレー
ト・イソフタレート、アルコール可溶性ポリアミ
ド、ポリウレタン、アセチルセルロース、アセチ
ルブチルセルロース、ニトロセルロース、エチル
セルロース、アセチルプロピルセルロース、など
の熱可塑性高分子化合物、あるいは、アルキド樹
脂、メラミン樹脂、フエノール樹脂、エポキシ樹
脂、尿素樹脂、ポリウレタン樹脂などの熱硬化性
高分子化合物があり、これらの高分子化合物は単
独でも２種以上を組合せても用いることができ
る。

有色顔料は、薄膜層に本発明の目的である紫外
線を遮光し、可視光線を透過する性質のマスク性
を与えるもので、紫外線遮光性で可視光線透過性
の公知の有色顔料を用いることができる。たとえ
ば、C.I.ピグメントレツド３（普通名レークレツ
ド4R、以下同じ）、C.I.ピグメントオレンジ16（バ
ルカンオレンジ）、C.I.ピグメントレツド２（パー
マネントレツドFRR）、C.I.ピグメントオレンジ
13（ピラゾロンオレンジ）、C.I.ピグメントイエロ
ー１（ハンザイエローＧ）、C.I.ピグメントオレン
ジ５（パーマネントレツドGG）、C.I.ピグメント
イエロー12（ベンジジンイエローＧ）などの有機
顔料、あるいはC.I.ピグメントイエロー34（クロ
ムイエロー）、C.I.ピグメント（クロムバーミリ
オン）などの無機顔料を単独でも２種以上を組合
せても用いることができる。

また染料としては、同様に薄膜層にマスク性を
与える、紫外線遮光性で可視光線透過性の公知の
ものを用いることができ、例えば、C.I.ソルベン
トイエロー２、C.I.ソルベントオレンジ５、同
40，44、C.I.ソルベントレツド25、同83がある。
これらの染料は単独でも２種以上を組合せても用
いることができる。更に有色顔料と染料は併用す
ることもできる。

有色顔料又は染料は、バインダー用高分子化合
物に対して20〜500w／ｗ％、望ましくは50〜
200w／ｗ％の比率とする。必要に応じて有色顔
料、染料の分散剤、安定剤を添加することもでき
る。

薄膜層は、乾燥後の膜厚で0.5〜5μ、好ましく
は１〜2μであり、これより薄いと充分な裂外線
遮光性が得られず、厚くなると薄膜層の皮膜性が
大となつて、後述する現像、エツチング後のパタ
ーンの剥離に際してシヤープなエツヂが得られな
いことになる。

感光性ピール層１１は写真処理を経てネガテイ
ブレリーフ画像に形成後剥離するので、良好なフ
イルム形成性及び適当なフイルム強度を有するこ
とが必要である。また、剥離により下の薄膜層も
同時に支持体より取り去るために、薄膜層と強固
な接着力を有することが必要である。

感光性ピール層はバインダー用高分子化合物お
よび感光剤からなる感光性組成物層一層で形成し
ても良く、皮膜性を有する高分子化合物層を下層
に感光性組成物層を上層に積層した２層構造にし
ても良い。

この場合、感光性ピール層を２層構造にしたも
のでは、感光剤としての機能と剥離のための皮膜
としての機能とを分離できるので、感光性ピール
層を一層で形成した場合のように剥離性向上と感
度低下防止を同時に考慮する必要がなくなる。

感光性組成物としてはネガ型、ポジ型の両者を
用いることができる。

ネガ型の感光性組成物に用いられる感光剤とし
ては、４−ジアゾジフエニルアミン硫酸塩とホル
ムアルデヒドとの縮合物、４−ジアゾジフエニル
アミン塩化亜鉛塩とホルムアルデヒドとの縮合
物、４−ジアゾジフエニルアミン四弗化硼酸塩と
ホルムアルデヒドとの縮合物、４−ジアゾジフエ
ニルアミン・ドデシルベンゼンスルホン酸塩のホ
ルムアルデヒド縮合物などのいわゆるジアゾ系感
光剤、４・4′−ジアジド−カルコン、２・６−ジ
（4′−アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキサ
ノン、２・６−ジ（4′−アジドベンザル）−４−
メチル−シクロヘキサノン、４・4′−ジアジドス
チルベン、４・4′−ジアジドベンゾフエノン、Ｐ
−フエニレンジアジド、４・4′−ジアジドフエニ
ルメタン等のアジド系感光剤、更に、テトラメチ
ロールメタンテトラメタクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、β−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、メトキシポリエチレングリコ
ールモノメタクリレート、β−ヒドロキシエチル
アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリ
レート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ト
リメチロールエタントリメタクリレートなどの分
子量2000以下、常圧で沸点100℃以上で、重合可
能なエチレン基を有するモノマーと、アントラキ
ノン誘導体あるいはベンゾインアルキルエーテル
を光重合開始剤として組合せた光重合系感光剤な
どがある。

感光性ピール層を感光性組成物一層で形成する
ときは、バインダー用高分子化合物に対する感光
剤の含有量は、ジアゾ系感光剤及びアジド系感光
剤の場合は３〜50w／ｗ％であり、好ましくは５
〜30w／ｗ％である。また光重合系感光剤の場合
は、バインダー用高分子化合物に対するモノマー
の含有量は10〜80w／ｗ％、好ましくは20〜
60w／ｗ％であり、光重合開始剤の含有量は0.01
〜20w／ｗ％好ましくは0.5〜10w／ｗ％である。

ネガ型の感光性組成物に用いられるバインダー
用高分子化合物としては、ポリビニルアルコー
ル、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルメタクリレートとマレイン酸共重
合体、アルコール可溶性ポリアミド、アクリルア
ミドとダイアセトンアクリルアミドの共重合体、
部分ケン化酢酸ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルホルマール、ポリビニルブチラールがある。

これらの高分子化合物は単独でも２種以上を組
合せても用いることができる。

ポジ型の感光性組成物の感光剤としては、オル
ソキノンジアジド化合物がある。この場合、感光
性ピール層を感光性組成物一層で形成するとき
は、バインダー用高分子化合物に対する感光剤の
含有量は５〜50w／ｗ％であり、望ましくは10〜
30w／ｗ％である。

ポジ型の感光性組成物のバインダー用高分子化
合物としては、アルカリ可溶性アクリル共重合
体、ポリビニル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ
ベンザール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール、ポリ酢酸ビニルがあり、これらの高
分子化合物は単独でも２種以上を組合せても用い
ることができる。

２層構造の感光性ピール層における皮膜層に
は、先に掲げた感光性組成物層の形成に用いるバ
インダー用高分子化合物の他に、これに使用でき
ない強靱な高分子化合物をも用いることができ
る。例としては、カプロラクタム、ヘキサメチレ
ンジアミンアジペートと４・4′−ジアミノジシク
ロヘキシルメタンアジペートの共重合体、各種ポ
リアミドのＮ−メチロール誘導体などアルコール
可溶性ポリアミドがある。

感光性組成物層中には、その感光機構に悪影響
を及ぼさない限り、染料または顔料を添加するこ
とができる。本発明においては下の遮光性薄膜層
により紫外線に対する遮光性を持たせているので
遮光性付与のためには不要であるが、この添加に
よつて画像の状態の確認を容易にし、特にレリー
フ画像の端部がシヤープに仕上がつたか否かの確
認を容易にすることできる。

次にかかる感光性マスク材料を用いた製版用マ
スク版の作成について述べる。

透明フイルム９上に遮光性薄膜層１０、感光性
ピール層１１が順次形成された感光性マスク材料
１２（第２図参照）に、第３図Ａに示すようにネ
ガテイブ又はポジテイブのくくり線原稿１３を重
ねて紫外線を露光し、現像すると、感光性ピール
層１１のタイプに応じて露光部分又は未露光部分
が溶出し、例えば図のように原稿１３のくくり線
１４に相当するところが溝１５になつたネガテイ
ブなレリーフ画像１６が形成される。この場合、
感光性ピール層１１が高分子化合物の皮膜層と感
光性組成物層の２層からなるときは感光性組成物
層の現像の他に高分子化合物の皮膜層のエツチン
グ処理を要する。

次いで第３図Ｂのようにマスクする部分１６′
を残してレリーフ画像１６を剥取ると、下の遮光
性薄膜層１０も一緒にレリーフ画像と同形に剥取
られ、必要な画像が凹部１７として形成されたマ
スク版１８が得られる。この際遮光性薄膜層は紫
外線を遮光するが可視光線に対しては透過性で下
に剥取るべき画像が描かれた原稿を重ねると上か
ら透かして見え、剥取るべきレリーフ画像１６を
容易に確認して剥取りができるので剥離の作業性
が良い。

ここで原稿１３のくくり線１４に対応する薄膜
層の部分１５′は、その上にレリーフ画像１６が
ないので剥離されず透明フイルム９上に残り、活
性光線を照射したときくくり線に相当する部分は
遮光される。原稿１３のくくり線１４には他の色
のマスク版を作成するために使用されるものが含
まれているが、遮光性薄膜層として残存している
ため従来行なつていた修正液による隠蔽、消去の
作業が不要となる。また従来の感光性材料から同
一原稿を用いて他の色のマスク版を作成すると該
マスク版ではくくり線に相当する部分は溝に形成
され紫外線を遮光しないようになつているので、
これと上記のように作成したマスク版とを組合せ
ることにより、異なる色をぴつたり突き合せて印
刷できる版面を製版できる。そしてこの製版作業
もマスク版が下に重ねたものを透して見ることが
できるようになつているので、作業性が良い。

次に本発明を実施例に基づき更に詳述する。

実施例 １ 厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフイ
ルムの片面に、下記組成の分散液を乾燥膜厚2μ
となるように塗布、乾燥し、遮光性薄膜層とし
た。

塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（UCC
社製ビニライトVYHH） ５ｇ ハイザイエローＧ 13ｇ FS−XB2725（ダイワコーニング社製レベ
リング剤） 0.5ｇ Ａ液 BYK−Ｐ−104S（BYK−マリンクロツト
社製分散剤） 0.7ｇ メチルエチルケトン 50ｇ トルエン 40ｇ 以上をペイントシエーカーで５時間分散 上記遮光性薄膜層の上に、以下の組成の感光性
組成物液を乾燥後の膜厚10μとなるように塗布、
乾燥し、感光性ピール層とした。

ポリビニルブチラール（ブチラール化度62
±３％ 残存アセチル基３％） 10ｇ 2.6−ジ（4′−アジドベンザル）−４−メチ
ルシクロヘキサノン ３ｇ Ｂ液 トルエン 20ｇ メチルアルコール 50ｇ エチレングリコールモノメチルエーテル
10ｇ 得られた感光性ピール層の表面に、ネガのくく
り線原稿を密着させ、２の超高圧水銀灯で１ｍの
距離から５分間露光を行なつた。次に露光後のフ
イルムを下記の現像液で現像を行ない、未露光部
分の感光性ピール層を完全に溶解、除去した後、
水洗、乾燥した。

サリチル酸ナトリウム 40ｇ 水 60ｇ このフイルムのくくり線部分に囲まれた部分を
針先で剥離すると、くくり線に囲まれたパターン
に相当する遮光性薄膜層も一緒に剥がすことがで
き、紫外線遮光性で可視光線透過性のレリーフ画
像が得られた。

レリーフ画像を部分的に剥離したマスク版は、
修正の必要もなく直ちに製版に使用できた。

実施例 ２ 厚さ100μのポリエチレンフタレートフイルム
の片面に、下記組成の分散液を、乾燥膜厚2μと
なるように塗布、乾燥し、遮光性薄膜層とした。

ニトロセルロースＬ1/2 ５ｇ バルカンオレンジ 10ｇ FS−XB2725 0.5ｇ Ａ液 BYK−Ｐ−104S 0.7ｇ メチルエチルケトン 50ｇ トルエン 40ｇ 以上をペイントシエーカーで５時間分散 上記遮光性薄膜層の上に以下の組成の塗布液を
乾燥後の膜厚10μとなるように塗布、乾燥し、 Ｂ液カプロラクタム、ヘキサメチレンジアミンア
ジペート及び、4.4′−ジアミノジシクロヘ
キシルメタンアジペートの共重合体
（BASF社よりULTRAMID−ICとして市
販）の10w／ｗ％メタノール溶液 更にこの上に以下の組成の感光性組成物液を
3μの乾燥膜厚となるように塗布、乾燥して、皮
膜層と感光組成物層とからなる２層構造のピール
層を形成した。

Ｃ液ナフトキノン（１，２）ジアジド(2)−５−ス
ルホン酸ソーダのノボラツクレジンエステ
ルの20w／ｗ％のメチルエチルケトン、ト
ルエン（１：１）溶液 このようにして得られたフイルムを、原稿と合
わせ紫外線露光後、カセイソーダの0.3w／ｗ％
アルカリ水溶液で現像した。

更に露光面上を実施例１の現像液でこすると遮
光性薄膜層上にピール層のレリーフ画像ができ
た。

このレリーフ画像を、針先で持ち上げ剥離する
と、レリーフ下部の遮光性薄膜層も剥離してマス
ク版ができ、修正液による処理を施すことなく、
そのまま製版に供することができた。

実施例 ３ 実施例１においてＢ液にかえて、下記組成の感
光性組成物液を乾燥後の膜厚10μとなるように塗
布、乾燥し、感光性ピール層とした。

ポリビニルアルコール（ケン化度78.5〜81.5
％、重合度1700日本合成化学工業株式会社より
KH−17として市販） 15ｇ ４−ジアゾシフエニルアミン硫酸塩とホルムア
ルデヒドとの縮合物 1.5ｇ メチルアルコール 10ｇ 水 75ｇ 得られた感光性ピール層の表面に、ポジのくく
り線原稿を密着させ2kwの超高圧水銀灯で１ｍの
距離から６分間露光を行なつた。

次に露光後のフイルムを、流水で現像し乾燥し
た。

このフイルムのくくり線に囲まれたレリーフ部
分を針先で剥離すると、レリーフ部分に相当する
遮光性薄膜層も一緒に剥がれ、修正の必要もなく
直ちに製版作業に使用できた。

実施例 ４ 実施例２においてＣ液にかわつて下記の感光性
組成物液を乾燥膜厚3μとなるよう塗布、乾燥し
て感光性ピール層とした。

ポリビニルブチラール（ブチラール化度62±３
％ 残存アセチル基３％） 10ｇ ペンタエリスリトールトリアクリレート ５ｇ ベンゾインエチルエーテル １ｇ メチルエチルケトン 50ｇ トルエン 44ｇ 得られた感光性ピール層の表面に、ポジのくく
り線原稿を密着させ、2kwの超高圧水銀灯で１ｍ
の距離から４分間露光を行ない、下記の水溶液で
現像、乾燥した。

サリチル酸ナトリウム 40ｇ 水 60ｇ 感光性ピール層のネガレリーフが得られた。

更に上記の水溶液でエツチングしたところ剥離
可能なレリーフ画像が得られ、直ちに製版用マス
クとして使用できた。

以上の実施例からも明らかなように本発明の製
版用感光性マスク材料およびマスク版の製造方法
では、透明フイルム支持体の上に紫外線遮光性で
かつ可視光線透過性の剥離可能な遮光性薄膜層を
形成し、該薄膜層の上にこれと強固に接着しかつ
皮膜性を有する感光性ピール層を形成して構成さ
れ、写真処理によつて形成された感光性ピール層
のレリーフ画像を選択的に剥離することによつて
一緒に遮光性薄膜層を剥離したレリーフ画像と同
形に剥取り、原稿のくくり線に対応する遮光性薄
膜層の部分は透明フイルム上に残存させて紫外線
に対する遮光性を有するようにしているので、各
色のマスク版を作成するにあたり修正液による隠
蔽、消去の作業が不要となる。また遮光性薄膜層
は可視光線を透過するので下に位置させた画像を
透かして見ることができるから、レリーフ画像の
剥取りなども容易に行なえる。従つて、製版の作
業能力が著しく向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図Ａ，Ｂは従来の製版用マスク材料におけ
るネガテイブなレリーフ画像を選択的に剥離し
て、マスク版を作成するところを説明するための
断面図、第２図は本発明の製版用マスク材料を示
す断面図、第３図Ａ，Ｂは本発明の製版用マスク
材料におけるマスク版を作成するところを説明す
るための断面図である。 ９……透明フイルム、１０……紫外線遮光性で
可視光線透過性の剥離可能な薄膜層、１１……感
光性ピール層。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 透明フイルムからなる支持体と、該支持体上
   に形成された紫外線遮光性でかつ可視光線透過性
   の剥離可能な遮光性薄膜層と、および該薄膜層上
   に形成され、該薄膜層と強固に接着しかつ皮膜性
   を有する感光性ピール層とで構成されることを特
   徴とする製版用感光性マスク材料。 ２ 透明フイルムからなる支持体と、該支持体上
   に形成された紫外線遮光性でかつ可視光線透過性
   の剥離可能な遮光性薄膜層と、および該薄膜層上
   に形成され、該薄膜層と強固に接着しかつ皮膜性
   を有する感光性ピール層とで構成される製版用感
   光性マスク材料の前記感光性ピール層にくくり線
   原稿を焼付けたのち、現像又は現像とエツチング
   を行なつて感光性ピール層の露光部分又は未露光
   部分を溶出し、このようにして得られた感光性ピ
   ール層のネガテイブばレリーフ画像を選択的に剥
   離することによつて下の遮光性薄膜層も一緒に同
   形に剥離し、透明フイルム上にくくり線原稿のマ
   スクされるべき画像部分およびくくり線に対応し
   て遮光性薄膜層を残存させることを特徴とする製
   版用マスク版の製造方法。