JPS6043660A - フオトマスキングフイルム - Google Patents
フオトマスキングフイルムInfo
- Publication number
- JPS6043660A JPS6043660A JP58151122A JP15112283A JPS6043660A JP S6043660 A JPS6043660 A JP S6043660A JP 58151122 A JP58151122 A JP 58151122A JP 15112283 A JP15112283 A JP 15112283A JP S6043660 A JPS6043660 A JP S6043660A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- light
- film
- photomasking
- mask layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
- G03F1/56—Organic absorbers, e.g. of photo-resists
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフォトマスキングフィルムに関し、更に詳しく
は、透明なプラスチックフィルム支持体と遮光性マスク
層との間にジアゾ感光層を設はオペーク作業を不要とす
るフォトマスキングフィルムに関するものである。
は、透明なプラスチックフィルム支持体と遮光性マスク
層との間にジアゾ感光層を設はオペーク作業を不要とす
るフォトマスキングフィルムに関するものである。
従来、写真製版用、製図用、或いはプリント配線基板の
製造などにマスキングフィルムが使用されている。この
ようなマスキングフィルム使用の目的の一つは必要部分
をフィルム支持体上から剥離することにより様々な画像
の原図を作製することである。そして前記マスキングフ
ィルムとしては例えばプラスチックフィルム支持体上に
紫外線を遮断する赤色の剥離性遮光マスク層を設けその
上に感光材料を塗布したものなどが知られている。
製造などにマスキングフィルムが使用されている。この
ようなマスキングフィルム使用の目的の一つは必要部分
をフィルム支持体上から剥離することにより様々な画像
の原図を作製することである。そして前記マスキングフ
ィルムとしては例えばプラスチックフィルム支持体上に
紫外線を遮断する赤色の剥離性遮光マスク層を設けその
上に感光材料を塗布したものなどが知られている。
前記のマスキングフィルムに紫外線を用いて画像露光し
た後感光材料屓を現像液によって現像し、非露光領域の
感光材料層を除去してその下のマスク層を露光させ、次
いでこの露光したマスク層をエソチンダ液により化学的
にエツチング除去し、マスキング画像を得るものである
。プラスチックフィルム上に遮光性の剥離層を設けたフ
ォトマスキングフィルムは必要画像部分を剥離してそこ
に別の網目模様などの画像を挿入する場合大変便利であ
るので最近では多く利用されている。
た後感光材料屓を現像液によって現像し、非露光領域の
感光材料層を除去してその下のマスク層を露光させ、次
いでこの露光したマスク層をエソチンダ液により化学的
にエツチング除去し、マスキング画像を得るものである
。プラスチックフィルム上に遮光性の剥離層を設けたフ
ォトマスキングフィルムは必要画像部分を剥離してそこ
に別の網目模様などの画像を挿入する場合大変便利であ
るので最近では多く利用されている。
しかしながら例えば第１図に示す従来のマスキングフィ
ルムを用いて透明ベースフィルム２からマスクＪｉ３ｂ
部分を剥離して３ｂ部分のみの透過光画像を焼付けよう
としても第２図に示すようにエツチング部分４まで広が
った画像しか得られないものであった。そのため第３図
に示すようにエツチング部分４にオペークインキ５を塗
布して４部分を遮光しておいた後、マスク層３ｂを剥離
して第４図に示すように剥離した３ｂ部分に丁度露光が
透過するようにしていた。しかしながらマスク層の一ヒ
に油性のオペークインキを塗布すると、マスク層の欣が
熔けたり、エツチング画像の判読が困難となったり、ま
た溶剤の揮発による悪臭の発生も生じた。更にまた水性
のオペークインキを使用すると乾燥に時間を要したり、
オペーク膜の立ち上がりがよくないなどの欠点があった
。
ルムを用いて透明ベースフィルム２からマスクＪｉ３ｂ
部分を剥離して３ｂ部分のみの透過光画像を焼付けよう
としても第２図に示すようにエツチング部分４まで広が
った画像しか得られないものであった。そのため第３図
に示すようにエツチング部分４にオペークインキ５を塗
布して４部分を遮光しておいた後、マスク層３ｂを剥離
して第４図に示すように剥離した３ｂ部分に丁度露光が
透過するようにしていた。しかしながらマスク層の一ヒ
に油性のオペークインキを塗布すると、マスク層の欣が
熔けたり、エツチング画像の判読が困難となったり、ま
た溶剤の揮発による悪臭の発生も生じた。更にまた水性
のオペークインキを使用すると乾燥に時間を要したり、
オペーク膜の立ち上がりがよくないなどの欠点があった
。
本発明者は前記の欠点を改良するため、種々研究を重ね
た結果、マスク層とプラスチックフィルム支持体の間に
ジアゾ感光性遮光マスク層を設りることによって、オペ
ークインキを使用しないでもオペークインキを施したの
と同様の効果が得られるフォトマスキングフィルムが得
られることを知見して本発明を完成したものである。
た結果、マスク層とプラスチックフィルム支持体の間に
ジアゾ感光性遮光マスク層を設りることによって、オペ
ークインキを使用しないでもオペークインキを施したの
と同様の効果が得られるフォトマスキングフィルムが得
られることを知見して本発明を完成したものである。
すなわち、本発明は、プラスチックフィルム支持体−ヒ
にジアゾ感光層、剥離性遮光マスク層、フォトレジスト
感光材層を漸次設けて成るフォトマスキングフィルムで
ある。
にジアゾ感光層、剥離性遮光マスク層、フォトレジスト
感光材層を漸次設けて成るフォトマスキングフィルムで
ある。
以下、本発明を更に詳しく説明する。
本発明で使用されるプラスチックフィルム支持体として
例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート、ポリオキシヘンゾエートなどのポリエステ
ルフィルムあるいはポリカーボネートフィルム等が挙げ
られる。
例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート、ポリオキシヘンゾエートなどのポリエステ
ルフィルムあるいはポリカーボネートフィルム等が挙げ
られる。
そして前記プラスチックフィルム支持体上に設けるジア
ゾ感光層は公知のジアゾ感光色素、及びカプラーを助剤
とともに水又は有機溶剤を溶媒とするバインダー中に分
散又は溶解せしめたジアゾ感光液をプラスチックフィル
ム上に塗布することによって得られる。
ゾ感光層は公知のジアゾ感光色素、及びカプラーを助剤
とともに水又は有機溶剤を溶媒とするバインダー中に分
散又は溶解せしめたジアゾ感光液をプラスチックフィル
ム上に塗布することによって得られる。
例えばＰ−Ｎ−Ｎ〜ジエチルアミノベンゼンジアゾニウ
ムクロライト、Ｐ−Ｎ−Ｎ−シメチルアミノヘンゼンジ
アゾニウムクロライド、Ｐ−モルホリノベンゼンジアゾ
ニウムクロライド等のジアゾニウム化合物の塩化亜鉛複
塩、又はボウフッ化塩、にｍ−オキシエチルフェノール
、レヅルシン、フロログルシン、Ｒ酸、２−オキシナフ
タレンカルボニックオキシエチルアニリン等のカプラー
を配合、更に助剤としてクエン酸、酒イー！酸、乳１１
（、硫酸アルミニウムを配合、このものをメチルセルロ
ース、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテ
−１−ブチレート、マレイン酸−ビニルピロリドン共重
合樹脂、酢酸ビニル−アクリル樹脂共重合体等から採択
された１種又は２種以上の成分から成るバインダー中に
溶解又は分散せしめたものである。
ムクロライト、Ｐ−Ｎ−Ｎ−シメチルアミノヘンゼンジ
アゾニウムクロライド、Ｐ−モルホリノベンゼンジアゾ
ニウムクロライド等のジアゾニウム化合物の塩化亜鉛複
塩、又はボウフッ化塩、にｍ−オキシエチルフェノール
、レヅルシン、フロログルシン、Ｒ酸、２−オキシナフ
タレンカルボニックオキシエチルアニリン等のカプラー
を配合、更に助剤としてクエン酸、酒イー！酸、乳１１
（、硫酸アルミニウムを配合、このものをメチルセルロ
ース、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテ
−１−ブチレート、マレイン酸−ビニルピロリドン共重
合樹脂、酢酸ビニル−アクリル樹脂共重合体等から採択
された１種又は２種以上の成分から成るバインダー中に
溶解又は分散せしめたものである。
次ぎに前記ジアゾ感光層上に設ける剥離性遮光マスク層
はポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、ポ
リスチレン、塩化ビニリデン、アクリロニトリループク
ジエン共重合体、等の高分子物質を有機溶剤に溶解し、
着色剤を添加混合した後、ｉ；１記ジアゾ感光層上に塗
布乾燥することによって得られる。着色剤としては染料
及び顔料を使用することができるが有機溶剤に可溶性の
遮光性染料を用いるのが好ましく、例えばＣ，Ｉソルヘ
ントオレノシ６、Ｃ，Ｉソルヘントオレンジ４０、Ｃ，
Ｉソルヘントレソト８３、Ｃ，Ｉソルベントレッド１２
２等が使用される。そして前記剥離性遮光マスク層の一
ヒに設けるフォトレジスト感光＋４層は紫外線照射によ
って水あるいは有機溶剤に不溶解性となる感光性物質を
用いることによって形成される。
はポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、ポ
リスチレン、塩化ビニリデン、アクリロニトリループク
ジエン共重合体、等の高分子物質を有機溶剤に溶解し、
着色剤を添加混合した後、ｉ；１記ジアゾ感光層上に塗
布乾燥することによって得られる。着色剤としては染料
及び顔料を使用することができるが有機溶剤に可溶性の
遮光性染料を用いるのが好ましく、例えばＣ，Ｉソルヘ
ントオレノシ６、Ｃ，Ｉソルヘントオレンジ４０、Ｃ，
Ｉソルヘントレソト８３、Ｃ，Ｉソルベントレッド１２
２等が使用される。そして前記剥離性遮光マスク層の一
ヒに設けるフォトレジスト感光＋４層は紫外線照射によ
って水あるいは有機溶剤に不溶解性となる感光性物質を
用いることによって形成される。
例えば、Ｐ−ジアゾ′ジフェニルアミンのバラホルムア
ルデヒド縮重合物、１．２−ナフトキノンアジド誘導体
とノボラック樹脂、ジアジＦヘンザルシクロヘキサンと
環化ゴムの混合物、ポリケイ皮酸ビニル、アクリレート
−ポリビニルアル］ノール等の感光４（１物質が使用さ
れる。
ルデヒド縮重合物、１．２−ナフトキノンアジド誘導体
とノボラック樹脂、ジアジＦヘンザルシクロヘキサンと
環化ゴムの混合物、ポリケイ皮酸ビニル、アクリレート
−ポリビニルアル］ノール等の感光４（１物質が使用さ
れる。
本発明のフォトマスキングフィルムは遮光層の光の反射
を防＋）ｚする目的でつや消し加工を適宜施すことがで
きる。例えばプラスチックフィルム支持体の裏面をサン
Ｆマット加工するとか、微粉末シリカのようなマント剤
を塗布することによってなされる。
を防＋）ｚする目的でつや消し加工を適宜施すことがで
きる。例えばプラスチックフィルム支持体の裏面をサン
Ｆマット加工するとか、微粉末シリカのようなマント剤
を塗布することによってなされる。
本発明のフォトマスキングフィルムの剥離性遮光マスク
をエツチングし、その部分をアンモニア原像するだけで
ジアゾ発色層のオペークができる。
をエツチングし、その部分をアンモニア原像するだけで
ジアゾ発色層のオペークができる。
また、ジアゾ発色層は黒色または茶色のため剥離性遮光
マスク層との色の差がつくためピーリングする所が見つ
けやすい。
マスク層との色の差がつくためピーリングする所が見つ
けやすい。
更にまた、エツチング溝にオペークインキが入らない為
、股の立ち上がりがよくなり、剥＜＋１性の遮光マスク
層は現像後すくビーリングできる。オペークインキが遮
光マスク層に残らないため毛ぬきの部分が見える。プラ
スチックフィルム支持体の裏面をサンドマント加工し、
ＰＳ板の間に透明プラスチックフィルムを挟み、刷版す
ると毛ぬきζル）が見えなくなる。前記したごとく本発
明のフォトマスキングフィルムは従来のフォ）・マスキ
ングフィルムと比較し数々のすくれた特徴を有するもの
である。
、股の立ち上がりがよくなり、剥＜＋１性の遮光マスク
層は現像後すくビーリングできる。オペークインキが遮
光マスク層に残らないため毛ぬきの部分が見える。プラ
スチックフィルム支持体の裏面をサンドマント加工し、
ＰＳ板の間に透明プラスチックフィルムを挟み、刷版す
ると毛ぬきζル）が見えなくなる。前記したごとく本発
明のフォトマスキングフィルムは従来のフォ）・マスキ
ングフィルムと比較し数々のすくれた特徴を有するもの
である。
次に本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例１
ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に下記の処
方のジアゾ感光液を塗布し、乾燥してジアゾ感光層を設
けた。
方のジアゾ感光液を塗布し、乾燥してジアゾ感光層を設
けた。
４− （トリルメルカプト）−２・５−ジメトキシベン
ゼンジアゾニウムＢＦ４１０重聞部フロログルシン ２
５重量部 硫酸アルミニウム １５重量部 クエン酸 １０市量部 チオ尿素 ２０重量部 セルロースアセテートブチレート ２５重量部メチルセ
ロソルブ ７００重最部 次いで、前記ジアゾ感光層の上に下記の処方の剥離性遮
光マスク剤を乾燥後の映厚が３０μとなるよう塗布し、
乾燥して剥離性遮光マスク層を設けた。
ゼンジアゾニウムＢＦ４１０重聞部フロログルシン ２
５重量部 硫酸アルミニウム １５重量部 クエン酸 １０市量部 チオ尿素 ２０重量部 セルロースアセテートブチレート ２５重量部メチルセ
ロソルブ ７００重最部 次いで、前記ジアゾ感光層の上に下記の処方の剥離性遮
光マスク剤を乾燥後の映厚が３０μとなるよう塗布し、
乾燥して剥離性遮光マスク層を設けた。
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ５重量部塩化ビニリ
デン樹脂 １０重量部 アクリロニトリル−ブタジェン共重合体５重量部 メチルエチルケトン ３０重量部 シクロへキサノン ２０市量部 ドルオール ２０重量部 油溶性染料 ０．４重量部 （Ｃ，Ｉツルヘントレッド１２２） 更に前記剥離性遮光マスク層の上に下記組成のフォトレ
ジスト懇光ｌＩｋを塗布して乾燥し、フォトレジスト感
光層を設ける。
デン樹脂 １０重量部 アクリロニトリル−ブタジェン共重合体５重量部 メチルエチルケトン ３０重量部 シクロへキサノン ２０市量部 ドルオール ２０重量部 油溶性染料 ０．４重量部 （Ｃ，Ｉツルヘントレッド１２２） 更に前記剥離性遮光マスク層の上に下記組成のフォトレ
ジスト懇光ｌＩｋを塗布して乾燥し、フォトレジスト感
光層を設ける。
平均重合度５００のＰ”ＶＡの３３．６％水／８液２５
５部２−ヒドロキシアクリル酸エチル ２１３部硝酸ウ
ラニル ３部 以上のようにして赤色のフォトマスキングフィルムを得
た。かくのごとくして得た本発明のフ、１ ）マスキン
グフィルムを使用するとオペークインクを使用しないで
も第４図に示すようなマスキングフィルムが容易に得ら
れる。
５部２−ヒドロキシアクリル酸エチル ２１３部硝酸ウ
ラニル ３部 以上のようにして赤色のフォトマスキングフィルムを得
た。かくのごとくして得た本発明のフ、１ ）マスキン
グフィルムを使用するとオペークインクを使用しないで
も第４図に示すようなマスキングフィルムが容易に得ら
れる。
すなわち第５図に示すように原稿をのせて紫外線露光し
、水で洗い出し現像を行うと未露光部分（１３）が溶出
除去される。次いで、この未露光部分をエツチング処理
すると剥離性遮光マスク１脅がエツチングされたフォト
マスキングフィルムが得られる。次いで、このマスキン
グフィルムをアンモニア原像すると、第７図に示すよう
にエツチングした画線部分のジアゾ感光！−が黒色とな
ったマスキングフィルムが得られる。
、水で洗い出し現像を行うと未露光部分（１３）が溶出
除去される。次いで、この未露光部分をエツチング処理
すると剥離性遮光マスク１脅がエツチングされたフォト
マスキングフィルムが得られる。次いで、このマスキン
グフィルムをアンモニア原像すると、第７図に示すよう
にエツチングした画線部分のジアゾ感光！−が黒色とな
ったマスキングフィルムが得られる。
次いで第８図に示すように中央の剥Ｍｌｆ性遮光マスク
層（２０）を剥離すると、第９図に示すごとくエツチン
グ部分が黒色の遮光マスク層となったフォトマスキング
フィルムが得られる。
層（２０）を剥離すると、第９図に示すごとくエツチン
グ部分が黒色の遮光マスク層となったフォトマスキング
フィルムが得られる。
第１図は、従来のマスキングフィルムの断面図。
第２図は、第１図におけるマスク層（３ｂ）部分を剥離
した状態を示す断面図。第３図は、第１図のマスキング
フィルムにオペークインキを塗布した状態を示す断面図
。第４図は、第３図におけるマスクＪｔｉｔ （３ｈ）
部分を剥離した状態をポず断面図。 第５図は、透過原稿を本発明のフォトマスキングフィル
ム上に置いて紫外線照射した状態を示す断面図。第６図
は、第５図における未露光部分を水で除去し、更にエツ
チングを施した状態を示す断面図。第７図は、ジアゾ感
光層を現像発色せしめた状態を示す断面図。第８図は、
第７図におＬＪる中央のマスクＮ （２０）の剥離状態
を示す断面図。 第９図は、第４図のごとくエツチング溝部分に遮光性の
ジアゾ感光層を設けた状態を示すＩｌｉ面図である。 ■、従来のフォトマスク ２、プラスチックフィルム ３ａ、 ３ｂ、遮光層 ４．エツチング溝５、オペーク
インキ １０．原稿 １１、画線部 １２．非画線部 １３、未露光部 １４、露光部（フォトレジスト感光ＩＱ）１５、剥離性
遮光マスク層 １６．ジアゾ感光層１７、ポリエステル
フィルム １８．エツチング溝１９、ジアゾ発色層゛ ２０、中央の剥離す１１マスク層 特許出願人
した状態を示す断面図。第３図は、第１図のマスキング
フィルムにオペークインキを塗布した状態を示す断面図
。第４図は、第３図におけるマスクＪｔｉｔ （３ｈ）
部分を剥離した状態をポず断面図。 第５図は、透過原稿を本発明のフォトマスキングフィル
ム上に置いて紫外線照射した状態を示す断面図。第６図
は、第５図における未露光部分を水で除去し、更にエツ
チングを施した状態を示す断面図。第７図は、ジアゾ感
光層を現像発色せしめた状態を示す断面図。第８図は、
第７図におＬＪる中央のマスクＮ （２０）の剥離状態
を示す断面図。 第９図は、第４図のごとくエツチング溝部分に遮光性の
ジアゾ感光層を設けた状態を示すＩｌｉ面図である。 ■、従来のフォトマスク ２、プラスチックフィルム ３ａ、 ３ｂ、遮光層 ４．エツチング溝５、オペーク
インキ １０．原稿 １１、画線部 １２．非画線部 １３、未露光部 １４、露光部（フォトレジスト感光ＩＱ）１５、剥離性
遮光マスク層 １６．ジアゾ感光層１７、ポリエステル
フィルム １８．エツチング溝１９、ジアゾ発色層゛ ２０、中央の剥離す１１マスク層 特許出願人
Claims (3)
- （１）プラスチックフィルム支持体上にジアゾ感光層、
剥離性遮光マスク層、フォトレジスト感光材層を漸次設
けて成るフォトマスキングフィルム。 - （２）プラスチックフィルムとしてポリエステルフィル
ムを使用した特許請求の範囲第（１）項記載のフォトマ
スキングフィルム。 - （３）剥離性遮光マスク層が赤色又はオレンジ色の染顔
料を含有する高分子物質で形成される特許請求の範囲第
（１）項記載のフォトマスキングフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58151122A JPS6043660A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | フオトマスキングフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58151122A JPS6043660A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | フオトマスキングフイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6043660A true JPS6043660A (ja) | 1985-03-08 |
| JPH0462375B2 JPH0462375B2 (ja) | 1992-10-06 |
Family
ID=15511843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58151122A Granted JPS6043660A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | フオトマスキングフイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6043660A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL1004757C2 (nl) * | 1996-12-12 | 1998-06-15 | Av Flexologic Bv | Systeem en werkwijze voor het verschaffen van fotodrukplaten en dergelijke. |
| WO2018069242A1 (de) * | 2016-10-10 | 2018-04-19 | Akk Gmbh | Verbundplatte mit sperrschicht und verfahren zur herstellung einer hochdruckplatte |
| JP2019502143A (ja) * | 2016-01-27 | 2019-01-24 | エルジー・ケム・リミテッド | フィルムマスク、その製造方法、これを用いたパターンの形成方法およびこれを用いて形成されたパターン |
| US10969677B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-04-06 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask |
| US10969686B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-04-06 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask and pattern formed thereby |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5858546A (ja) * | 1981-10-02 | 1983-04-07 | Kimoto & Co Ltd | 製版用感光性マスク材料 |
-
1983
- 1983-08-19 JP JP58151122A patent/JPS6043660A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5858546A (ja) * | 1981-10-02 | 1983-04-07 | Kimoto & Co Ltd | 製版用感光性マスク材料 |
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| NL1004757C2 (nl) * | 1996-12-12 | 1998-06-15 | Av Flexologic Bv | Systeem en werkwijze voor het verschaffen van fotodrukplaten en dergelijke. |
| EP0848296A1 (en) * | 1996-12-12 | 1998-06-17 | A.V. Flexologic B.V. | System and method for providing photographic printing plates and the like |
| JP2019502143A (ja) * | 2016-01-27 | 2019-01-24 | エルジー・ケム・リミテッド | フィルムマスク、その製造方法、これを用いたパターンの形成方法およびこれを用いて形成されたパターン |
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| US11029596B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-06-08 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask and pattern formed thereby |
| WO2018069242A1 (de) * | 2016-10-10 | 2018-04-19 | Akk Gmbh | Verbundplatte mit sperrschicht und verfahren zur herstellung einer hochdruckplatte |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0462375B2 (ja) | 1992-10-06 |
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