JPS6244603A - アブソリユ−ト直線位置検出装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、位置決めシステム等で用いられるアブソリ
ュート直線位置検出装置に関し、特に、アブソリュート
て検出し得る範囲を拡大するようにしたものに関する。

〔従来の技術〕

本出願人の出願に係る実開昭５８−１３６７１８号には
、ロッド部において磁性体と非磁性体を長手方向に所定
ピンチで交互に繰返し設け、このロッド部に近接して１
次コイル及び２次コイルを含対して相対的に変位させ、
センサに対するロッド部のアブソリュート位置に応じた
出力信号をセンサから得るようにしたものが開示されて
いる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、そこにおいて、アブソリュートで検出し得る範
囲は、０７１部における磁性体と非磁性体の繰返しの１
ピンチ分の長さに限定されてしまうという問題点があっ
た。

この発明は上述の問題点を解決するためになされたもの
で、アブソＩＪ−−ト位置検出可能範囲を拡大すること
ができるようにしたアブソリュート直線位置検出装置を
提供しようとするものである。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明に係る位置検出装置は、直線変位方向に関して
面積又は配列位置が次第に変化するパターンを所定の物
質により配置した部材き、該部材に近接して設けられ、
該部材に対する位置関係に応じて前記パターンの面積又
は配列位置に関する対応関係が変化し、その対応関係に
応じた出力信号を生ずる誘導形検出ヘッドとを具えたこ
とを特徴とするものである。

〔作用〕

従来のものは磁性体と非磁性体を同じ幅で交互に繰返し
設けるものであったため、その１ピッチ分の長さを長く
することはできなかった。これに対して本発明では、直
線変位方向に関して面積又は配列位置が次第に変化する
・々ターンを設けたため、その変化の１サイクルの長さ
を実用上十分な長さまで長くすることができる。誘導形
検出ヘッドからは、このヘッドとパターンとの対応関係
に応じた出力信号が生ずるので、このパターンの変化の
１サイクルの範囲でアブソリュート位置検出が可能であ
る。

〔実施例〕

以下添付図面を参照してこの発明の一実施例を詳細に説
明しよう。

）　　　　　　　第１図において、ロッド部１は、該ロ
ッド部１に近接して設けられた検出へノド２に対して相
対的に長手方向（軸方向）に直線変位可能であり、その
直線変位方向に関して配列位置が次第に変化するパター
ン１ａを所定の物質によりその周囲に配置しである。そ
のようなパターン１ａは例えば螺旋状の線条である。検
出ヘッド２は、ロッド部１に対する直線位置関係に応じ
て前記パターン１ａに関するその対応関係が変化し、そ
の対応関係に応じた出力信号を生ずる誘導形の検出ヘッ
ドである。第２図によく示されているように、検出ヘッ
ド２は、端部を内側に向けた４つの凸極ＰＡ−ＰＤを９
０度の間隔で設けた磁性体コア２ａと、このコア２ａの
各種に巻かれた１次コイル２Ａ＋〜２Ｄ！及び２次コイ
ル２Ａ２〜２Ｄ２とを具備しており、各種ＰＡ−ＰＤの
端部によって囲まれた空間にロッド部１が挿入されてい
る。ロッド部１の螺旋パターン１ａの１サイクルの長さ
すなわちリード長りは比較的長く設定されており、例え
ば検出対象の全長範囲に対応する。

ロッド部１においてパターン１ａを構成する物質は、検
出ヘッド２の硼界に対するその物質の侵入度に応じて異
なる磁気抵抗変化を生せしめるような物質である。その
ような物質としては、ロッド部１の他の部分１ｂよりも
相対的に良導電体から成るもの、あるいは磁性体から成
るもの、を用いるとよい。

ロッド部１におけるパターンの部分１ａを銅のような良
導電体により構成し、他の部分１ｂをこの良導電体に比
べて導電性の低いもの（例えば鉄）により構成した場合
について考える。検出ヘッド２の各種の１次コイル２Ａ
＋〜２ＤＩによる磁束は、各種ＰＡ−ＰＤが配された角
度位置においてロッド部１の径方向に夫々生じる。パタ
ーンを構成する螺旋線条１ａの１リード長りの範囲にお
いで、ヘッド２の各種ＰＡ−ＰＤに対する線条１ａの位
置は、該ヘッド２に対するロッド部１の直線位置に応じ
て異なるものとなる。磁束が線条１ａの一部を貫くとき
、その部分で渦電流が流れ、それに応じた磁気抵抗変化
が該磁束が通る磁気回路に生じる。従って、ヘッド２の
各種ＰＡ−ＰＤの磁気抵抗は、線条１ａの１サイクルの
長さＬを１サイクルとして変化し、その変化の位相は、
各種り 毎に１の距離分だけずれるものとなる。このように、各
種ＰＡ−ＰＤは４相の磁気抵抗変化を示し、仮に各相を
Ａ−Ｄなる符号で区別するものとする。

この場合、Ａ相に対応する極ＰＡの磁気抵抗変化をコサ
イン相とすると、Ｂ相に対応する極ＰＢはサイン相、Ｃ
相に対応する極ＰＣはマイナスコサイン相、Ｄ相に対応
する極ＰＤはマイナスサイン相となる。

この磁気抵抗の大きさに応じて、検出へノド２に対応す
るロッド部１の位置を、パターン１ａの１サイクルの長
さＬの範囲内でのアブソリュート値にて検出することが
できる。この検出を位相方式によって行う場合について
説明すると、Ａ、Ｃ相の１次コイル２Ａｌ＋　２Ｃｔを
正弦信号ｓｉｎωｔによって励磁し、Ｂ、Ｄ相の１次コ
イル２Ｂｌ。

２Ｄｓを余弦信号ｃｏｓωｔによって励磁する。すると
、各２次“コイル２Ａ２〜２Ｄ２の誘起電圧を合成した
検出ヘッド出力信号Ｙとして、 Ｙ　＝　Ｋ　ｓｉｎ　（（１）　ｔ　＋　ａ　）　　　
　　　　　　・・・・・・（１）なる交流信号を得るこ
とができる。ここで、αはパターン１ａの１リード長り
の範囲内のロンド部Ｌ １の位置Ｘに対応する位相角であり、α＝２πＹなる関
係にすることができる。こうして、検出ヘッド出力信号
Ｙの基準交流信号ｓｉｎωｔに対する位相シフト量αが
、パターン１ａの１リード長りの範囲内でのロッド部１
の直線位置Ｘを示すものとなる。この位相シフト量αは
、適宜の手段によってディジタル又はアナログ的に測定
することができる。

位相方式によって検出ヘッド出力信号Ｙを生じさせ、こ
の出力信号における位相ずれ量αをディジタルで測定す
るための電気回路の一例を第３図に示す。　　゛ 第３図において、発振部１０は基準の正弦信号ｓｉｎω
ｔと余弦信号ＣＱＳωｔを発生する回路、位相差検出回
路１１は上記位相ずれαを夫々測定するための回路であ
る。クロック発振器１２から発振されたクロックパルス
ＣＰがカウンター３でカウントされる。カウンター６は
例えばモジュロＭ（Ｍは任意の整数）であり、そのカウ
ント値がレジスター４に与えられる。カウンター３の±
分局出力からは、クロックパルスＣＰをｙ分周したパル
スＰｃが取り出され、工分周用のフリップフロップ１５
のＣ入力に与えられる。このフリップフロップ１５のＱ
出力から出たパルスＰｂがフリップフロップ１乙に加わ
り、互出力から出たパルスＰａがフリップフロップ１７
に加わり、これら１６及び１７の出力がローパスフィル
タ１８．１９及び増幅器２０．２１を経由して、余弦信
号ｃｏｓωｔと正弦信号ｓｉｎωｔが得られ、検出ヘッ
ド２の各相Ａ〜Ｄの１次コイル２Ａ＋〜２Ｄ１に印加さ
れる。

カウンター３におけるＭカウントがこれら基準信号ｃｏ
ｓωｔ　、　ｓｉｎωｔの２πラジアン分の位相角に相
当する。すなわち、カウンター乙の１カウント値はＱｘ
　　ラジアンの位相角を示している。

６に夫々加わり、該信号Ｙの正・負極性に応じた方形波
信号が該コン・マレータ２３から夫々出力される。この
コンパレータ２３の夫々の出力信号の立上りに応答して
立上り検出回路２４からパルスＴが出力され、このパル
スＴに応じてカウンタ１３のカウント値をレジスタ１４
にロードする。その結果、検出ヘッド出力信号Ｙにおけ
る位相ずれαに応じたディジタル値ＤＸがレジスタ１４
に取り込まれる。こうして、所定範囲り内の直線位置を
アブソリュートで示すデータＤＸを得ることができる。

ロッド部１に配置する・櫂ターンの形状は上述のものに
限らず、どのようなものでもよい。例えば、第４図に示
すような、２条ねじ式の２つの線条１ａ１．１ａ２から
成っていてもよい。この場合、ロッド部１の横断面にお
いて１８０度対称の２箇所に線条１ａｌ１１８２が位置
するので、検出ヘッド２は第５図に示すような８極型コ
アから成るものとするとよい。８極型コアはＡ　、　Ｂ
　、　Ｃ、、Ｄ相に対応する極を２組づつ含み、同一相
が１８０度対称の位置にあるものである。各種には前述
と同様に１次及び２次コイルが巻かれており、位相方式
で検出を行う場合はＡ、Ｃ相とＢ、Ｄ相とでは夫々９０
度位相のずれた交流信号（例えば正弦信号と余弦信号）
で励磁を行う。この場合、同一相が１８０度対称位置に
あるため、ヘッド２の中心とロッド部１の中心が多少ず
れていても、それによる誤差が生じない。

検出ヘッド２は、前述のような４極型あるいは８極型の
ものに限らず、３極型あるいは６極型あるいは１２極型
など、その他適宜の極数とすることができる。第６図は
、その−例として６極型のヘッド２を示したものである
。その場合、位相検出方式のための１次コイル励磁交流
信号は、正弦信号と余弦信号のように９０度位相のずれ
た信号ではなく、ｓｉｎωｔとｓｉｎ　（ωｔ−６０）
あるいは５ｉｎ（ωｔ−１２０）あるいはｓｉｎ　（ω
ｔ　−２４０）など、６０度位相がずれた交流信号ある
いはその倍角だけ位相がずれた交流信号、その他適宜位
相角だけずれた交流信号を用いる。また、その場合、そ
れに対応するパターンは、１８０度対称に同一相の極が
ない場合は第１図に示すような１条ねじ式の線条１ａか
ら成るものを用いてもよく、１８０度対称に同一相の極
がある場合は第４図に示すような２条ねじ式の線条１ａ
１．１ａ２から成るものを用いてもよい。第６図では２
条ねじ式の螺旋線条１ａ＋、１ａｚのパターンがロッド
部１に設けられるものとしている。

また、検出ヘッド２は、第２図、第５図、第６図に示し
たように各種が共通のコア素材によって連続しているも
のに限らず、第７図のように各極毎に分離されたＵ字形
のコア３〜６から成るものであってもよい。各コア３〜
６は２つの端部を持ち、一方の端部から出て他方の端部
に入る磁束がロッド部１の表面において（少なくともパ
ターンが配置された面において）径方向を指向して通過
する。

また、螺旋状のパターンは必らずしも滑らかな線条１”
＋　１ａｌ　　ｔ　１ａ２から成るものである必要はな
く、第８図に示すようにステップ状に配置１　　　　　
　されたパターン１ａ′から成っていてもよく、全体と
して螺旋に近似した変化を示すものであればよい。

上述では、パターンを配置するロッド部１は丸棒形状で
あるが、これは角棒その他任意の形状であってもよい。

第９図はロッド部１を角棒形状とした例を示すもので、
（ａ）は正面図、（ｂ）は底面図、（Ｃ）は横断面図、
である。丸棒の場合と同様に、１つの線条１ａを角棒の
周囲に斜めに（螺旋状に）回わすことにより・櫂ターン
を配置するようにしてよい。

また、／ｆターンの形態は、直線変位方向に関して面積
が次第に変化するようなものであってもよい。第１０図
はその一例を示すもので、断面正方形の角形ロッド部１
の４側面の各々に菱形のバター７ｊａ−ＤＩ　　、１ａ
−Ｄ２　．１ａ−０３＋　１ａ−Ｄ４を配置したもので
ある。隣接する面における菱形パターン１ａ−ＤＩ　　
、　１ａ　−Ｄ２　　・・・の配置はその１サイクル長
りの１づつずれている。（ａ）は正面図、Φ月ま底面図
、（Ｃ）は検出ヘッド２の部分の横断面図である。（Ｃ
）に示されているように、検出ヘッド２の各種ＰＡ−Ｐ
Ｄの横幅が角形ロッド部１の一面の横幅に対応するよう
にすれば、直線変位に応じたパターンの面積の変化を適
確に検知することができる。

角形ロッド部１におけるパターンの形状は第１１図に示
すような三角形ｉ　ａ　−Ｔとすることもできる。なお
、第１０図、第１１図に示すような菱形又は三角形のパ
ターンは丸棒のロッド部１においても採用することがで
きる。

また、パターンを配置する部材はロッドに限らず、平板
あるいは任意の物体の平面領域若しくは曲面領域などで
あってもよい。第１２図は長尺の平板部材７にパターン
を配置した例を示すもので、（ａ）は該平板部材７の平
面図、（ｂ）は該平板部材７及びそれに近接して設けた
検出ヘッドの横断面図、である。平板部材７に配置され
たパターンは、第１図に示すようなロッド部１の螺旋パ
ターン１ａを展開した形状であり、直線変位方向に対し
て斜めに角度をなした１本の線条７ａから成るものであ
る。検出ヘッド２は、４つの相Ａ−Ｄに対応する分離さ
れた磁性体コア２５〜２８と各コアに巻かれた１次及び
２次コイルとから成り、各相のコア２５〜２８は第１２
図（１））に示すように、平板部材７の横方向に所定間
隔（この間隔は第２図の極ＰＡ−ＰＤの９０度の配置間
隔に対応する）で配置されている。、前述と同様に、こ
の斜線状のパターン７ａはステップ状に変化するもので
あってもよい。

次に、／々ターン配置部材１，７におけるパターンの形
成法についていくつかの例を挙げて説明する。パターン
１ａを構成する良導電体あるいは磁性体の物質は、適宜
の表面加工処理技術（例えば、めっき、溶射、焼付、塗
装、溶着、蒸着、電鋳、フォトエツチングなど）を用い
て付着若しくは形成させるようにするとよい。最近では
、その種の加工処理技術を用いて微細な・ぐターンでも
形成できるマイクロ加工技術が確立されているので、そ
のような技術を用いて精密なパターン形成を行うことが
できる。

第１３図は、ロッド部１の基材１ｃの周囲に銅のような
良導体物質でパターン１ａを形成し、その上からクロー
ムめっきのような表面コーティング１ｄを設けた例を示
している。この場合のパタ−ン形成法としては、基材１
Ｃの全周に銅めっきを施し、その後不要部分をエツチン
グ等の除去技術により取除くことにより残された銅めっ
き部分により所望のパターン１ａが形成されるようにす
る。そして最後に表面仕上げのためにクロームめっき等
の表面コーティング１ｄを施す。基材１Ｃは鉄のような
磁性体を用いれば磁束の通りを良くするので好適である
。しかし、プラスチック等の樹脂、その他のものを基材
１ｃとして用いることもできる。その場合、予め成形さ
れたプラスチック基材１Ｃの表面に銅等の金属膜をめっ
きするようにしてもよいし、あるいは、金型キャビティ
に電鋳て銅等の金属膜を予め形成し、その後プラスチッ
クを射出成形して金属膜と一体化するようにしてもよい
。

ところで、第１３図に示すように表面コーティＩ　　　
　　　ング１ｄをパターン部の間の凹みに埋めるように
すると、その部分でどうしてもコーティング１ｄが沈み
、仕上げ表面が滑らかにならないことが多い。そこで、
第１４図に示すように、各パターン１ａの間の凹みを適
宜の充填物１ｅで充填し、その上から表面コーティング
１ｄを施すようにするとよい。充填物ＩＣとしては、例
えばニッケルめつきなどを用いることができる。

なお、基材１ｃに銅等の金属膜をめっきし、その後所望
のパターンでエツチングする場合、エツチング薬剤によ
って基材１ｃの表面が侵されるおそれがある。特に基材
１Ｃが鉄等の金属である場合その問題が大きい。そのよ
うな問題を解決するために、第１５図に示すように、基
材１Ｃの表面全体にエツチング薬剤に対して耐性を示す
所定の物質１ｆ（例えば樹脂）の薄膜を形成し、その上
　　　　”から銅めっき等を施し、更に所定のエツチン
グを行ってパターン１ａを形成するようにするとよい。

パターンを構成する物質は、銅又はアルミニウム又はそ
の他良導電体物質又はそれらの混合物若しくは化合物、
のように渦電流損によって磁気抵抗変化を生ぜしめるも
のに限らず、導磁量の変化により磁気抵抗変化を生せし
める磁性体物質（例えば鉄あるいはその化合物又は混合
物）であってもよい。そのような磁性体によりパターン
を構成する場合も上述と同様の種々の表面加工技術によ
りパターン形成を行うことができる〇 また、第１６図に示すように、ロッド部１の基材１Ｃを
鉄等の磁性体で作成し、その基材１Ｃの表面に所望のｔ
＜’ターンに応じた凹所を加工形成し、この凹所に銅等
の良導電体１ａを充填することにより所望のパターン形
成を行うようにしてもよい。

この場合、導電体１ａのパターンの間に基材１Ｃの凸部
である磁性体が侵入し、その部分では渦電流損が少なく
なることにより磁気抵抗が小さくなることに加えて、磁
性体の突出によりより一層磁気抵抗を小さくすることが
でき、相乗的効果によりロッド部の変位に対するセンサ
出力信号の応答精度を上げることができる。また、第１
７図に示すように、磁性体から成るロッド部１の基材１
Ｃの表面に所望のパターンに応じた突出部１ａを加工形
成し、この突出部１ａを磁性体から成るパターン部とし
てもよい。その場合は、渦電流損ではなく、導磁量に応
じた磁気抵抗変化を生じさせることができる。

また、パターン配置部材に配置するパターンは可視的に
明瞭に区別し得るようになっている必要はなく、視覚的
には他の部分と明瞭に区別できなくても、磁気的性質に
おいて他の部分と区別し得るものであればよい。例えば
、ロッド部１あるいは平板部材７等のパターン配置部材
の基材をステンレスによって構成し、このステンレス基
材上を所望のパターンに従って局部的にレーザ等により
加熱することによりその被加熱部分を磁性体化すること
ができ、これにより基材とパターンは同じステンレスを
素材とするものであっても、パターンの部分を磁性体と
し、その他の部分を非磁性体とすることができる。

パターンを配置したロッド部又はその他の部材は、位置
検出対象である機械又は装置の一部であってよい。例え
ば、流体圧シリンダのピストンロッド位置を検出する装
置に本発明を応用する場合、ピストンロッドを本発明に
おけるパターン配置部材として利用する。あるいは、機
械の移動体をガイドするためのガイド棒を本発明におけ
るパターン配置部材として利用し、移動体に連動して検
出ヘッドの方が該ガイド棒（つまりパターン配置部材）
に沿って移動するようになっていてもよい。

第１８図は本発明をピストンロッド位置検出装置として
利用した一例を示す略図であり、２９は流体圧シリンダ
の本体、３０はピストン、６１はピストンロッドである
。ピストンロッド３１にはその全長にわたってほぼ１サ
イクルの変化を示す螺旋状の線条パターン３１ａが配置
されており、このパターン３１ａを検知する検出ヘッド
２がシリンダ本体２９の開口端側に固定されている。検
出ヘッド°２の出力信号は変換回路３２に与えられ、ピ
ストンロッド６１の全ストローク範囲にわたるアブソリ
ュート位置を示すデータＤｘが得られる。

位相方式の場合、変換回路３２は第３図に示すよ）　　
　　　　うな回路である。このようなストロークの全長
にわたるアブソリュート位置検出データＤｘは、任意の
形態で利用することができる。複数のストローク位置及
び範囲にわたる位置決めその他の制御信号を得るように
する場合、所望のスｌ−ローク位置又は範囲に対応する
メモリ３６内のアドレス位置又は範囲にそれらのストロ
ーク位置又は範囲に対応する制御信号を書込んでおき、
該メモリ３６のアドレス入力にアブソリュート位置検出
データＤＸを入力して書込まれた制御信号を読み出すよ
うにすることが可能である。この場合、例えばメモリ３
３の１アドレスの語長が８ビツトならば、その各ビット
をリミットスイッチ又はカムスイッチの出力に対応させ
て該メモリ６３の記憶データのプログラムを行うことが
でき、そうすると８種類のストローク位置又は範囲に対
応するスイッチ出力信号を該メモリ６．３から読み出す
こさができる。メモリ６６としては、ＥＰＲＯＭのよう
な読み書き可能なメモリを用いるとよい。

なお、上記各実施例では位相方式によって位置検出デー
タを求めるように説明したが、通常の差動トランスで知
られているように電圧方式によって位置に応じた電圧レ
ベルを持つ位置検出データを求めるようにしてもよい。

その場合は、１次コイル励磁用の交流信号に位相差を設
定する必要はない。

また、パターンの設は方は、１サイクルに限らす１サイ
クル未満又は数サイクルであってもよい。

なお、上記各実施例において、検出ヘッドにおける各相
毎の１次コイルと２次コイルは必らずしも別々のコイル
である必要はなく、実開昭５８−２６２１号あるいは実
開昭５８−３９５０７号に示されたもののように共通で
あってもよい。

〔発明の効果〕

以上の通り、この発明によれｉス、検出ヘッドに対して
相対的に直線変位する部材において直線変位方向に関し
て面積又は配列位置が次第に変化するパターンを配置す
るようにしたので、該パターンの変化の１サイクルを比
較的長くとることができ、該１サイクル長に対応するア
ブンリュート位置検出可能範囲を比較的長くすることが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示す斜視図、第２図は同
実施例の検出ヘッドの横断面図、第３図は同実施例の検
出ヘッドに励磁用交流信号を供給するための回路と該検
出ヘッドの出力信号の電気的位相を検出して位置検出デ
ータを求める回路の一例を示す電気的ブロック図、第・
１図はロンド部に配置する・ぐターンの別の例として２
条ねじ式の螺旋線条のパターンを示す斜視図、 第５図は第４図のパターンを検知するために用いる検出
ヘッドの別の例を示すもので、８極型ヘツドの横断面図
、 第６図は検出ヘッドの別の実施例を示すもので、６極型
ヘツドの横断面図、 第７図は検出ヘッドの更に別の例を示すもので、各極毎
に分離されたコア構造から成るものの横断面図、 第８図はロンド部に配置する螺旋状のパターン−の別の
例を示すもので、ステップ状に変化するようにしたもの
の側面図、 第９図（ａ）は断面正方形のロンド部に配置されたパタ
ーンの一例を示す正面図、（ｂ）はその底面図、（Ｃ）
はその横断面図、 第１０図（ａ）は断面方形のロンド部に配置されたパタ
ーンの別の例を示す正面図、Φンはその底面図、（Ｃ）
は検出ヘッドの横断面図、 第１１図は断面方形のロンド部に配置されたパターンの
更に別の例を示す正面図、 第１２図は長尺の平板部材に・ぐクーンを配置した一例
を示すもので、（ａ）は平面図、［有］）Ｉマ検出ヘッ
ドの横断面図、 第１３図乃至第１７図はパターン配置部材上におけるパ
ターン形成法の具体例を夫々示す断面図、第１８図は流
体圧シリンダのピストンロッド位置検出に適用したこの
発明の一実施例を示す概略１　　　　　　図、である。 １　・ロンド部、７・平板部材、１ａ、１ａｌ　＋１ａ
２．１ａ′、１ａ−Ｄ１〜１ａ−Ｄ４．７ａ・・・パタ
ーン、２　・検出ヘッド、２ＡＤ、〜２１）＋・・・１
次コイル、２　Ａ　２〜２Ｄ２・・・２次コイル。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、直線変位方向に関して面積又は配列位置が次第に変
   化するパターンを所定の物質により配置した部材と、 該部材に近接して設けられ、該部材に対する位置関係に
   応じて前記パターンの面積又は配列位置に関する対応関
   係が変化し、その対応関係に応じた出力信号を生ずる誘
   導形検出ヘッドとを具えたアブソリュート直線位置検出
   装置。 ２、前記パターンは、検出対象範囲のほぼ全域に対応す
   る長さ範囲を１サイクルとして前記変化を示すものであ
   る特許請求の範囲第１項記載のアブソリュート直線位置
   検出装置。 ３、前記パターンを構成する前記所定の物質は、前記部
   材の他の部分の材質よりも相対的に良導電体から成るも
   のである特許請求の範囲第１項記載のアブソリュート直
   線位置検出装置。 ４、前記パターンを構成する前記所定の物質は、磁性体
   から成るものである特許請求の範囲第１項記載のアブソ
   リュート直線位置検出装置。 ５、前記部材の基材が磁性体から成り、磁性体から成る
   前記パターンはこの基材上において突出部として加工形
   成されるものである特許請求の範囲第４項記載のアブソ
   リュート直線位置検出装置。 ６、前記部材の基材が磁性体から成り、前記パターンに
   対応する形状をこの基材において凹所として形成し、こ
   の凹所に前記良導電体を埋設して前記パターンを構成さ
   せた特許請求の範囲第３項記載のアブソリュート直線位
   置検出装置。 ７、前記部材は、その基材上に前記所定の物質により前
   記パターンを形成し、その上から所定の表面コーティン
   グを施したものである特許請求の範囲第１項記載のアブ
   ソリュート直線位置検出装置。 ８、前記部材は、その基材上に前記所定の物質により前
   記パターンを幾分突出させて形成し、該パターンの間の
   凹所に所定の充填物質を充填させて該パターンの上面と
   該充填物質の上面の高さをほぼ揃え、更にその上から全
   体に表面コーティングを施したものである特許請求の範
   囲第１項記載のアブソリュート直線位置検出装置。 ９、前記部材はロッドから成り、前記パターンは、前記
   ロッドの周囲に螺旋状に形成されたパターンから成るも
   のである特許請求の範囲第１項記載のアブソリュート直
   線位置検出装置。 １０、前記検出ヘッドは、前記パターンの変化の１サイ
   クルの範囲につき、該パターンとの対応位置に応じて異
   なる電気的位相ずれを示す出力信号を生ずるものである
   特許請求の範囲第１項乃至第９項の何れかに記載のアブ
   ソリュート直線位置検出装置。 １１、前記部材の基材と前記パターンが同じ物質から成
   り、該基材におけるパターン配置箇所に対して局部的に
   所定の処理を加えることにより該箇所の磁気的性質を変
   更し、これにより該箇所を前記パターンと成すようにし
   た特許請求の範囲第１項記載のアブソリュート直線位置
   検出装置。 １２、前記基材はステンレススチールから成り、前記所
   定の処理は加熱処理であり、前記箇所を磁性体に変更す
   ることにより前記パターンが磁性体によって構成される
   ようにした特許請求の範囲第１１項記載のアブソリュー
   ト直線位置検出装置。 １３、前記部材は、流体圧シリンダのピストンロッドで
   あり、前記検出ヘッド部を該シリンダの本体側に固定し
   、該ピストンロッドの位置を検出するようにした特許請
   求の範囲第１項記載のアブソリュート直線位置検出装置
   。