JPS6241736A - 管の内側を被覆する方法および装置 - Google Patents
管の内側を被覆する方法および装置Info
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- JPS6241736A JPS6241736A JP61183280A JP18328086A JPS6241736A JP S6241736 A JPS6241736 A JP S6241736A JP 61183280 A JP61183280 A JP 61183280A JP 18328086 A JP18328086 A JP 18328086A JP S6241736 A JPS6241736 A JP S6241736A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/511—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using microwave discharges
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
- C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電気絶縁材料の管の内側を、この管を貫流す
るガス混合物からの別の電気絶縁材料の反応性堆積（ｒ
ｅａｃｔｉｖｅ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）によってこの
別の電気絶縁材料の層で被覆し、この場合、管は加熱さ
れ、堆積は、マイクロ波により発生され且つ管中を往復
動されるプラズマによって付活されるようにした管の内
側を被覆する方法に関するものである。
るガス混合物からの別の電気絶縁材料の反応性堆積（ｒ
ｅａｃｔｉｖｅ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）によってこの
別の電気絶縁材料の層で被覆し、この場合、管は加熱さ
れ、堆積は、マイクロ波により発生され且つ管中を往復
動されるプラズマによって付活されるようにした管の内
側を被覆する方法に関するものである。
本発明は更に、ガス混合物を管に供給する供給システム
、管内のガス混合物内にプラズマを発生し維持するため
のマイクロ波発生器とマイクロ波共振器、プラズマを管
の縦方向に往復させる手段、および管を熱的に加熱する
手段とを有する、管の内側を被覆する装置に関するもの
である。
、管内のガス混合物内にプラズマを発生し維持するため
のマイクロ波発生器とマイクロ波共振器、プラズマを管
の縦方向に往復させる手段、および管を熱的に加熱する
手段とを有する、管の内側を被覆する装置に関するもの
である。
このタイプの方法および装置は［アプリケーション・フ
ィジックス・レター（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｐｈｙ
ｓ。
ィジックス・レター（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｐｈｙ
ｓ。
Ｌｅｔｔ、 ） １９７６年２８号の６４５〜６４６頁
および「トピックス・イン・カレント・ケミストリー（
７ｏｐｉｃｓｉｎ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｓｔｒ
ｙ） Ｊ １９ｇＱ年８９号の１０７〜１３１頁の記載
より知られている。これ等の参考文献には、ＰＣＶＤ法
による光ファイバの製法が説明されている。この方法で
は、光伝導材料の層が揮発性の出発原料を含むガス混合
物からプラズマによって管の内側に堆積される。この管
は、合成的につくられるかまたは溶融により石英結晶よ
りつくられ場合によってはドープされた非晶質の石英（
溶融シリカ、石英ガラス）の何れかより成るか、或いは
また、合成的につくられ並びに溶融により石英結晶より
つくられ場合によってはドープされた非晶質の石英（溶
融シリカ、石英ガラス）より成るものである。意図する
ファイバ構造に相当する量の光伝導材料が堆積された後
、管はソリッドなプリフォームを形成するように中実化
（ｃｏｌ １ａｐｓｅ）され、このプリフォームより光
ファイバが引抜かれる。
および「トピックス・イン・カレント・ケミストリー（
７ｏｐｉｃｓｉｎ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｓｔｒ
ｙ） Ｊ １９ｇＱ年８９号の１０７〜１３１頁の記載
より知られている。これ等の参考文献には、ＰＣＶＤ法
による光ファイバの製法が説明されている。この方法で
は、光伝導材料の層が揮発性の出発原料を含むガス混合
物からプラズマによって管の内側に堆積される。この管
は、合成的につくられるかまたは溶融により石英結晶よ
りつくられ場合によってはドープされた非晶質の石英（
溶融シリカ、石英ガラス）の何れかより成るか、或いは
また、合成的につくられ並びに溶融により石英結晶より
つくられ場合によってはドープされた非晶質の石英（溶
融シリカ、石英ガラス）より成るものである。意図する
ファイバ構造に相当する量の光伝導材料が堆積された後
、管はソリッドなプリフォームを形成するように中実化
（ｃｏｌ １ａｐｓｅ）され、このプリフォームより光
ファイバが引抜かれる。
前記の参考文献に詳細に記載されているように、光伝導
材料の堆積のためには１１００℃と１３００℃の間の管
壁温度が必要である。被覆時にこのような温度を管に確
保するために、付加エネルギ源として炉が用いられる。
材料の堆積のためには１１００℃と１３００℃の間の管
壁温度が必要である。被覆時にこのような温度を管に確
保するために、付加エネルギ源として炉が用いられる。
管に沿ってマイクロ波共振器と同時に動かされる可動炉
か、或いはまた冷却されたマイクロ波共振器がその中で
管に沿って勅かされるようにした固定炉をこの目的に使
用することができる。
か、或いはまた冷却されたマイクロ波共振器がその中で
管に沿って勅かされるようにした固定炉をこの目的に使
用することができる。
高品質光ファイバをつくることのできる管はこの両タイ
プの炉を用いてつくることができるが、この両タイプの
炉はまた幾つかの欠点をもつ。この炉の欠点とは、例え
ば扱い難くそして高価な構造、大きな占有スペース、大
きな慣性質量、大きな熱慣性、および大きなエネルギ消
費等である。
プの炉を用いてつくることができるが、この両タイプの
炉はまた幾つかの欠点をもつ。この炉の欠点とは、例え
ば扱い難くそして高価な構造、大きな占有スペース、大
きな慣性質量、大きな熱慣性、および大きなエネルギ消
費等である。
この従来のクイブにおいて特に問題なのは、プラズマに
よって与えられる処理熱の多くが共振器の冷却と放射と
により失われ、一方向時に、移動する共振器でカバーさ
れない部分は付加的に加熱せねばならないということで
ある。
よって与えられる処理熱の多くが共振器の冷却と放射と
により失われ、一方向時に、移動する共振器でカバーさ
れない部分は付加的に加熱せねばならないということで
ある。
本発明の目的は、前述の従来の炉の欠点をできるだけ除
くことのできる、エネルギ消費の少ない方法および構造
簡単な装置を得ることにある。
くことのできる、エネルギ消費の少ない方法および構造
簡単な装置を得ることにある。
本発明の方法は、冒頭に記載した形式の方法において、
周囲への管の熱損失を熱反射素子によって管壁に反射し
て戻すことにより、管を、プラズマによって管壁に供給
されたエネルギにより少なくとも部分的に加熱し、反応
温度に保つことを特徴とするものである。
周囲への管の熱損失を熱反射素子によって管壁に反射し
て戻すことにより、管を、プラズマによって管壁に供給
されたエネルギにより少なくとも部分的に加熱し、反応
温度に保つことを特徴とするものである。
更に本発明の装置は、冒頭に記載した形式の装置におい
て管を熱的に加熱する手段は、プラズマで発生されて管
によって消散される熱エネルギを管に戻すための熱反射
素子を有することを特徴とするものである。
て管を熱的に加熱する手段は、プラズマで発生されて管
によって消散される熱エネルギを管に戻すための熱反射
素子を有することを特徴とするものである。
本発明は次のような考えに基づくものである。
すなわち、プラズマより遊離されたエネルギを冷却およ
び放射により消散するのではなくて、このエネルギを反
射によって管に戻し、これにより、極く僅かな付加エネ
ルギの供給かまたは付加エネルギの供給が全くなしに、
時間的および場所的に均一な温度分布を、被覆さるべき
管の全長に亘って得ることができる。〉２．８ μｍの
波長範囲では約１５００にの温度の石英に対し黒体の放
射エネルギの略々４０％になる管よりの放射エネルギが
、本発明により熱反射素子によって戻される。
び放射により消散するのではなくて、このエネルギを反
射によって管に戻し、これにより、極く僅かな付加エネ
ルギの供給かまたは付加エネルギの供給が全くなしに、
時間的および場所的に均一な温度分布を、被覆さるべき
管の全長に亘って得ることができる。〉２．８ μｍの
波長範囲では約１５００にの温度の石英に対し黒体の放
射エネルギの略々４０％になる管よりの放射エネルギが
、本発明により熱反射素子によって戻される。
熱反射素子として特に好適なのは、できるだけ大きな波
長範囲にわたって、略々１３００ｋから１６００にで管
より放射される熱エネルギに対して高い反射率を有する
熱反射フィルタ装置である。したがってこの熱反射素子
は少なくとも１つの熱反射フィルタより成る。
長範囲にわたって、略々１３００ｋから１６００にで管
より放射される熱エネルギに対して高い反射率を有する
熱反射フィルタ装置である。したがってこの熱反射素子
は少なくとも１つの熱反射フィルタより成る。
このような熱反射フィルタは、高温に耐えることのでき
る材料、例えば５ｉｎ２、ＡＩ□Ｄ３、或いは熱反射材
料例えば金属特に貴金属、ＳｎＯ２または１ｎ０３０層
を上に設けた耐熱鋼の基体より成る。熱反射フィルタの
このような金属組成の利点は、動作時に発生ずる略々１
６００に迄の範囲の温度が、基体にもフィルタ層にも悪
影響を及ぼすことがなく、同時に熱反射材料は１３００
に〜１６００ｋにおける熱放射を高い歩留りで反射する
ということである。
る材料、例えば５ｉｎ２、ＡＩ□Ｄ３、或いは熱反射材
料例えば金属特に貴金属、ＳｎＯ２または１ｎ０３０層
を上に設けた耐熱鋼の基体より成る。熱反射フィルタの
このような金属組成の利点は、動作時に発生ずる略々１
６００に迄の範囲の温度が、基体にもフィルタ層にも悪
影響を及ぼすことがなく、同時に熱反射材料は１３００
に〜１６００ｋにおける熱放射を高い歩留りで反射する
ということである。
熱反射フィルタは、熱反射材料で被覆され且つ電気絶縁
材料の管と同心的に配設された管の形を有するのが好ま
しい。このため管より反射された熱エネルギは反射フィ
ルタにより管の周囲にわたって均一に反射してもどされ
、したがって、周囲に均一な温度分布を得ることができ
る。
材料の管と同心的に配設された管の形を有するのが好ま
しい。このため管より反射された熱エネルギは反射フィ
ルタにより管の周囲にわたって均一に反射してもどされ
、したがって、周囲に均一な温度分布を得ることができ
る。
本発明の好ましい一実施態様では、熱反射層は管の長さ
および／または管の周囲にわたって不均一に設けられる
。この実施態様によれば、電気絶縁材料の管よりの熱放
射が管の長さおよび／または周囲にわたり不均一（例え
ば長さおよび／または周囲にわたる移動プラズマの不均
一なエネルギ供給に基づいて）な場合でも、不均一なエ
ネルギ消散がフィルタ素子の不均一反射特性によって適
当に補償されることにより、均一な温度分布を得ること
ができる。
および／または管の周囲にわたって不均一に設けられる
。この実施態様によれば、電気絶縁材料の管よりの熱放
射が管の長さおよび／または周囲にわたり不均一（例え
ば長さおよび／または周囲にわたる移動プラズマの不均
一なエネルギ供給に基づいて）な場合でも、不均一なエ
ネルギ消散がフィルタ素子の不均一反射特性によって適
当に補償されることにより、均一な温度分布を得ること
ができる。
本発明の別の実施態様では、熱反射材料で被覆された複
数の管が互に同心的に設けられ、それ等の軸位置および
／または周囲位置に関して互に動かされることができる
。この実施態様は次のような利点を有する。すなわち、
この装置の反射動作は、軸方向および／または周囲方向
に変位することにより可変に特定して変よることができ
、このため電気絶縁材料の管の結果的な温度分布を特定
的に変えることができる。
数の管が互に同心的に設けられ、それ等の軸位置および
／または周囲位置に関して互に動かされることができる
。この実施態様は次のような利点を有する。すなわち、
この装置の反射動作は、軸方向および／または周囲方向
に変位することにより可変に特定して変よることができ
、このため電気絶縁材料の管の結果的な温度分布を特定
的に変えることができる。
３つの異なる反射器／共振器／管装置で本発明を実現す
ることができる。
ることができる。
第１の装置では、熱反射フィルタはマイクロ波共振器の
両側に設けられ、電気絶縁材料の管に沿って前記の共振
器と共に往復運動される。このようにすることにより、
外壁（第２の装置に場合によって必要とされるような）
全体にもわたるマイクロ波共振器の高価な冷却を省略す
ることができる。
両側に設けられ、電気絶縁材料の管に沿って前記の共振
器と共に往復運動される。このようにすることにより、
外壁（第２の装置に場合によって必要とされるような）
全体にもわたるマイクロ波共振器の高価な冷却を省略す
ることができる。
第２乃至第３の装置では、プラズマを発生するマイクロ
波共振器は、少なくとも１つの熱反射フィルタの内側か
または外側を夫々可動なように設けられる。この装置は
次のような利点を有する、ずなわぢ、被覆さるべき管に
対するフィルタ装置の位置が一定に保たれ、したがって
エネルギ消散の軸方向および／または周囲の非対称性は
対応したフィルタ装置によって最適に補償されることが
できる。更に６、フィルタの位置が一定であるために構
造が部隊になり、フィルタ装置の全長にわたってマイク
ロ波共振器の被覆および運動を可能にする。
波共振器は、少なくとも１つの熱反射フィルタの内側か
または外側を夫々可動なように設けられる。この装置は
次のような利点を有する、ずなわぢ、被覆さるべき管に
対するフィルタ装置の位置が一定に保たれ、したがって
エネルギ消散の軸方向および／または周囲の非対称性は
対応したフィルタ装置によって最適に補償されることが
できる。更に６、フィルタの位置が一定であるために構
造が部隊になり、フィルタ装置の全長にわたってマイク
ロ波共振器の被覆および運動を可能にする。
付加熱源は、マイクロ波共振器の反転点の少なくとも１
つの近くに設けるのが有利である。このようにすること
により、プラズマの必要とされる運動反転のために軸方
向に不均一に加熱され、残りの管部分に比して余りに加
熱の低い範囲でも、被覆すべき管を十分に高い均一な温
度にすることができる。
つの近くに設けるのが有利である。このようにすること
により、プラズマの必要とされる運動反転のために軸方
向に不均一に加熱され、残りの管部分に比して余りに加
熱の低い範囲でも、被覆すべき管を十分に高い均一な温
度にすることができる。
付加熱源は、電気的に加熱される抵抗炉より成るのが好
ましい。例えばレーザまたは高温空気による加熱のよう
な別の熱源の使用も可能であるが、一般に技術的に高く
つきしかも効果は少ない。
ましい。例えばレーザまたは高温空気による加熱のよう
な別の熱源の使用も可能であるが、一般に技術的に高く
つきしかも効果は少ない。
付加熱源の長さはプラズマの長さに対応するのが好まし
い。これによって、プラズマの運動反転のために不均一
にそして極めて低くしか加熱されない被覆さるべき管の
範囲だけがその熱エネルギ分布および温度分布に関して
影響を受けるようにすることができる。
い。これによって、プラズマの運動反転のために不均一
にそして極めて低くしか加熱されない被覆さるべき管の
範囲だけがその熱エネルギ分布および温度分布に関して
影響を受けるようにすることができる。
本発明の装置の好ましい別の実施態様では、付加熱源は
電気絶縁材料の管を取囲み、この管を周方向に均一に加
熱する。この実施態様は、被覆すべき管の温度分布に付
加熱源によって周囲非対称性が付加されることがないと
いう利点を有する。
電気絶縁材料の管を取囲み、この管を周方向に均一に加
熱する。この実施態様は、被覆すべき管の温度分布に付
加熱源によって周囲非対称性が付加されることがないと
いう利点を有する。
本発明の方法の好ましい実施＠様では、管を加熱する付
加熱源の位置を、マイクロ波共振器が電気絶縁材料の管
の残余の範囲を運動している間、この管に対する行程反
転の少なくとも１つの範囲に一定に保つ。このようにす
ることにより、プラズマで不拘−且つ不十分に加熱され
る管の範囲を、管に沿ったプラズマの往復行程の間有効
に常に加熱することかできる。
加熱源の位置を、マイクロ波共振器が電気絶縁材料の管
の残余の範囲を運動している間、この管に対する行程反
転の少なくとも１つの範囲に一定に保つ。このようにす
ることにより、プラズマで不拘−且つ不十分に加熱され
る管の範囲を、管に沿ったプラズマの往復行程の間有効
に常に加熱することかできる。
マイクロ波共振器の行程反転の期間中電気絶縁材料の管
に対する熱源の位置を変えるのがこの場合有利である。
に対する熱源の位置を変えるのがこの場合有利である。
これは、次のような利点を有する、すなわち、熱源て加
熱される管範囲もマイクロ波共振器でカバーされ、した
がって、電気絶縁材料の堆積をここにも行うことができ
る。この場合、熱源を、少なくともマイクロ波共振器の
幅だけこのマイクロ波共振器の運動方向に動かすのが有
利である。このようにすると、熱源の運動を共振器自体
を経て行うことができるという利点がある。例えば、熱
源はばねのような弾性変形可能な素子に抗して共振器に
よって機械的に動かされ、次いで行程が反転されると再
び管上の前の位置になる。
熱される管範囲もマイクロ波共振器でカバーされ、した
がって、電気絶縁材料の堆積をここにも行うことができ
る。この場合、熱源を、少なくともマイクロ波共振器の
幅だけこのマイクロ波共振器の運動方向に動かすのが有
利である。このようにすると、熱源の運動を共振器自体
を経て行うことができるという利点がある。例えば、熱
源はばねのような弾性変形可能な素子に抗して共振器に
よって機械的に動かされ、次いで行程が反転されると再
び管上の前の位置になる。
熱源は熱反射フィルタ内に配設されるのが好ましい。こ
れは、熱源が、被覆すべき管に直接に働くという利点が
ある。周囲を取巻くフィルタのために、外部への放射損
失を小さく保つことができる。このため特に有効な局部
加熱が可能になる。
れは、熱源が、被覆すべき管に直接に働くという利点が
ある。周囲を取巻くフィルタのために、外部への放射損
失を小さく保つことができる。このため特に有効な局部
加熱が可能になる。
以下本発明を添付の図面を参照して実施例により更に詳
しく説明する。
しく説明する。
第１図において、被覆さるべき石英管１は、共振器２の
両側を円筒状の熱反射器３で取囲まれており、この熱反
射器は共振器と同時に石英管に沿って動くことができる
。前記の熱反射器は熱反射層３１を有する。共振器の石
英管に面する側にも必要に応じて熱反射層２１が設けら
れる。管端における放射損失を補償するために、熱反射
器と石英管との間に付加熱源４が選択的に設けられる。
両側を円筒状の熱反射器３で取囲まれており、この熱反
射器は共振器と同時に石英管に沿って動くことができる
。前記の熱反射器は熱反射層３１を有する。共振器の石
英管に面する側にも必要に応じて熱反射層２１が設けら
れる。管端における放射損失を補償するために、熱反射
器と石英管との間に付加熱源４が選択的に設けられる。
プラズマの容量が小さい場合最適な基体温度に調節する
だめに、場合によっては、反射器の全長にわたっても同
様な付加熱源５が配設される。場合によ−っては、熱反
射器３はその軸に沿いそしてその半径にわたって可変成
いは−・定の反射係数を有する。
だめに、場合によっては、反射器の全長にわたっても同
様な付加熱源５が配設される。場合によ−っては、熱反
射器３はその軸に沿いそしてその半径にわたって可変成
いは−・定の反射係数を有する。
第１図に示した装置の動作時ガス混合物が石英管内に導
入されるが、このガス流の方向は矢印６て示されている
。
入されるが、このガス流の方向は矢印６て示されている
。
共振器の往復運動は矢印８で示されている。
第２図の装置では、石英管１と熱絶縁および／または冷
却された共振器２が熱反射器３の内側に配されている。
却された共振器２が熱反射器３の内側に配されている。
熱絶縁乃至冷却は夫々破線おおい２２で示しである。外
部および内部の付加熱源４゜５が選択的に設けられる。
部および内部の付加熱源４゜５が選択的に設けられる。
第３図の装置で、被覆さるべき石英管１は用筒状の熱反
射器３で取囲まれている。反射特性は、略々１と１．０
Ａｔｍの間の波長範囲の電磁放射は反射するが長波長範
囲（マイクロ波）のものは反射も吸収もしないようにさ
れる。このようにすることによって、反射器の外側に配
設された共振器２を動かすようにすることができる。第
１図および第２図の場合のように付加熱源４，５を設け
ることもてきる。
射器３で取囲まれている。反射特性は、略々１と１．０
Ａｔｍの間の波長範囲の電磁放射は反射するが長波長範
囲（マイクロ波）のものは反射も吸収もしないようにさ
れる。このようにすることによって、反射器の外側に配
設された共振器２を動かすようにすることができる。第
１図および第２図の場合のように付加熱源４，５を設け
ることもてきる。
第１図は共振器と反射器を可動とした装置の一実施例の
断面略図、 第２図は反射器を固定した装置の一実施例の断面略図、 第３図は反射器を固定した装置の別の実施例の断面略図
である。
断面略図、 第２図は反射器を固定した装置の一実施例の断面略図、 第３図は反射器を固定した装置の別の実施例の断面略図
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、電気絶縁材料の管の内側を、この管を貫流するガス
混合物からの別の電気絶縁材料の反応性堆積によってこ
の別の電気絶縁材料の層で被覆し、この場合、管は加熱
され、堆積は、マイクロ波により発生され且つ管中を往
復動されるプラズマによって付活されるようにした管の
内側を被覆する方法において、周囲への管の熱損失を熱
反射素子によって管壁に反射して戻すことにより、管を
、プラズマによって管壁に供給されたエネルギにより少
なくとも部分的に加熱し、反応温度に保つことを特徴と
する管の内側を被覆する方法。 ２、管を加熱する付加熱源の位置を、マイクロ波共振器
が管の残余の範囲を往復運動している間、この管に対す
る行程反転の少なくとも１つの範囲に一定に保つ特許請
求の範囲第１項記載の方法。 ３、熱源の位置を、プラズマの行程反転の間管に対して
変える特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４、熱源を、プラズマを発生するマイクロ波共振器の運
動の方向に軸方向に動かす特許請求の範囲第３項記載の
方法。 ５、ガス混合物を管に供給する供給システム、管内のガ
ス混合物内にプラズマを発生し維持するためのマイクロ
波発生器とマイクロ波共振器、プラズマを管の縦方向に
往復させる手段、および管を熱的に加熱する手段とを有
する、管の内側を被覆する装置において、管（１）を熱
的に加熱する手段は、プラズマ（７）で発生されて管に
よって消散される熱エネルギを管に戻すための熱反射素
子（３）を有することを特徴とする管の内側を被覆する
装置。 ６、熱反射素子は少なくとも１つの熱反射フィルタ（３
）より成る特許請求の範囲第５項記載の装置。 ７、熱反射フィルタは、熱反射材料で被覆され且つ電気
絶縁材料の管（１）と同心的に配設された管の形を有す
る特許請求の範囲第６項記載の装置。 ８、熱反射層（３１）は、管の長さおよび／または管の
周囲にわたって不均一に設けられた特許請求の範囲第７
項記載の装置。 ９、熱反射材料で被覆された複数の管（３）が互に同心
的に設けられ、それ等の軸位置および／または周囲位置
に関して互に動かされることができる特許請求の範囲第
６項から第９項の何れかの１項記載の装置。 １０、熱反射フィルタ（３）はマイクロ波共振器（２）
の両側に設けられ、電気絶縁材料の管に沿って前記の共
振器と共に往復運動される特許請求の範囲第６項から第
９項の何れかの１項記載の装置。 １１、プラズマ（７）を発生するマイクロ波共振器（２
）は、少なくとも１つの熱反射フィルタ（３）の内側か
または外側を可動なように設けられた特許請求の範囲第
６項から第９項の何れかの１項記載の装置。 １２、付加熱源（４、５）は、マイクロ波共振器（２）
の反転点の少なくとも１つの範囲に設けられた特許請求
の範囲第５項記載の装置。 １３、付加熱源（４、５）は、電気的に加熱される抵抗
炉より成る特許請求の範囲第１２項記載の装置。 １４、付加熱源（４、５）の長さはプラズマ（７）の長
さに対応する特許請求の範囲第１２項記載の装置。 １５、付加熱源（４、５）は、電気絶縁材料の管（１）
を取囲み、この管を周方向に均一に加熱する特許請求の
範囲第１２項から第１４項の何れかの１項記載の装置。 １６、付加熱源（４、５）は、熱反射フィルタ（３）の
内部に設けられた特許請求の範囲第１２項から第１５項
の何れかの１項記載の装置。
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