NL1033773C2

NL1033773C2 - Werkwijze voor de vervaardiging van een voorvorm alsmede daarmee te verkrijgen optische vezel.

Info

Publication number: NL1033773C2
Application number: NL1033773A
Authority: NL
Inventors: Rob Hubertus Matheus Deckers; Marco Korsten; Robert Martinus Marie Cremers; Koen De Jongh
Original assignee: Draka Comteq Bv
Priority date: 2007-04-27
Filing date: 2007-04-27
Publication date: 2008-10-28
Also published as: US20080271494A1; BRPI0801196A2; ATE481364T1; BRPI0801196B1; US8051683B2; EP1988063B1; EP1988063A1; CN101293734B; DE602008002467D1; CN101293734A

Description

r

Korte aanduiding: Werkwijze voor de vervaardiging van een voorvorm alsmede daarmee te verkrijgen optische vezel.

De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor de 5 vervaardiging van een voorvorm voor optische vezels met behulp van een dampdepositieproces omvattende de volgende stappen: i) het verschaffen van een holle glazen substraatbuis met een toevoerzijde en een afvoerzijde ii) het toevoeren via de toevoerzijde van al dan niet gedoteerde 10 glasvormende gassen aan het inwendige van de substraatbuis iii) het creëren van plasma omstandigheden in het inwendige van de substraatbuis ter depositie van glaslagen aan de binnenzijde van de substraatbuis door het plasma over de longitudinale as van de substraatbuis heen en weer te laten bewegen tussen een 15 omkeerpunt nabij de toevoerzijde en een omkeerpunt nabij de afvoerzijde van de substraatbuis iv) het consolideren van de buis verkregen in stap iii) tot de voorvorm

De onderhavige uitvinding heeft voorts betrekking op een werkwijze 20 voor het vervaardigen van een optische vezel waarbij een optische voorvorm aan een uiteinde wordt verhit en waaruit vervolgens een optische vezel wordt getrokken.

De in de aanhef vermelde werkwijze is op zich bekend uit Amerikaans octrooi US 4,741,747, waarbij een eind taper wordt gereduceerd door het plasma in het gebied van tenminste een omkeerpunt niet-lineair als functie van 25 de tijd te laten bewegen en/of door de intensiteit van het plasma over de lengte van de substraatbuis als een functie van de tijd te variëren. Met eind taper wordt bedoeld de depositiezones aan de uiteinden van de substraatbuis, waarbij de optische en geometrische eigenschappen van de afgezette lagen onvoldoende constant zijn.

Uit het Amerikaans octrooi 5,188,648 is een methode bekend, om de 30 geometrische eind taper te reduceren. Volgens voornoemd octrooi, wordt dit bewerkstelligd door de heen en weer gaande verplaatsing van het plasma bij het omkeerpunt aan de toevoerzijde van de glasvormende gassen een bepaalde tijd te onderbreken.

1033773 τ 2

Uit het Amerikaans octrooi 5,145,509 is een methode voor het reduceren van de geometrische taper bekend door in het centrum van de substraatbuis een glazen staaf de plaatsen waarvan de straal zodanig wordt ingesteld dat deze ten hoogste 0,67 en tenminste 0,2 maal de inwendige straal van 5 de glazen substraatbuis bedraagt, waarbij de glazen staaf na voltooiing van het depositieproces uit het inwendige van de substraatbuis wordt genomen waarna aldus de holle substraatbuis door contractie tot de massieve voorvorm, onder verhoogde temperatuur, wordt omgezet.

Uit de internationale octrooiaanvrage gepubliceerd onder nummer 10 WO 2004/101458 A1 is een methode bekend om taper te reduceren, waarbij de snelheid van het plasma in een eerste eind regio nabij een omkeerpunt zowel als een functie van de tijd in het depositieproces als een functie van de positie in deze eerste eind regio wordt gevarieerd. Met een eind regio, wordt een regio bedoeld waarin de snelheid van het plasma als een functie van de positie wordt gevarieerd.

15 De hiervoor besproken literatuurplaatsen hebben onder andere als probleem dat een optimalisatie van de geometrische taper zal leiden tot een optische taper en vice versa.

Onder toepassing van een dampdepositieproces waarbij een plasma tussen twee omkeerpunten met een vaste positie ten opzichte van een substraatbuis 20 heen en weer wordt bewogen hebben de onderhavige uitvinders geconstateerd dat het longitudinale brekingsindexprofiel doorgaans een maximale waarde vertoont voor de brekingsindex. Met longitudinaal brekingsindexprofiel wordt bedoeld de waarde van de brekingsindex als functie van de longitudinale positie in de optische voorvorm. De aanwezigheid van een maximale waarde voor de brekingsindex nabij de 25 toevoerzijde is met name het geval gebleken wanneer de lengte waarin het plasma niet lineair als functie van de tijd wordt bewogen geoptimaliseerd wordt ten einde een zo groot mogelijke bruikbare voorvormlengte te verkrijgen. Met chemisch dampdepositieproces wordt bijvoorbeeld het PCVD (Plasma Chemical Vapour Deposition) proces bedoeld.

30 Een doel van de onderhavige uitvinding is het verschaffen van een werkwijze voor het vervaardigen van een voorvorm voor optische vezels met behulp van een dampdepositieproces, waarbij zowel de optische als geometrische taper tot een minimum wordt beperkt.

3

Nog een ander doel van de onderhavige uitvinding is het verschaffen van een werkwijze voor het vervaardigen van een voorvorm voor optische vezels met behulp van een dampdepositieproces, waarbij voor het vervaardigen van de optische vezel gebruik kan worden gemaakt van een zo groot mogelijke lengte van de 5 voorvorm.

Nog een ander doel van de onderhavige uitvinding is het verschaffen van een werkwijze voor het vervaardigen van een voorvorm voor optische vezels met behulp van een dampdepositieproces, waarbij de spanning die in de afgezette glaslagen ontstaat als gevolg van de depositie wordt gereduceerd.

10 De werkwijze zoals vermeld in de aanhef wordt gekenmerkt doordat gedurende tenminste een deel van stap iii) de positie van het omkeerpunt nabij de toevoerzijde van de substraatbuis verschuift over de longitudinale as van de substraatbuis.

Onder toepassing van de werkwijze volgens de onderhavige 15 uitvinding wordt aan een of meer van de voornoemde doelstellingen voldaan.

Door gedurende tenminste een deel van stap iii) de positie van het omkeerpunt nabij de toevoerzijde van de substraatbuis te verschuiven over de longitudinale as van de substraatbuis hebben de onderhavige uitvinders verrassenderwijs geconstateerd, dat de hierboven genoemde maximale waarde voor de brekingsindex nabij de 20 toevoerzijde van de substraatbuis kan worden verlaagd. Hierbij hebben zij tevens geconstateerd, dat er nauwelijks effect is op de geometrische taper en dat het derhalve mogelijk is geworden om de bruikbare voorvormlengte te vergroten.

Hoewel het taper effect aan de afvoerzijde van de substraatbuis minder uitgesproken is dan het taper effect aan de toevoerzijde van de substraatbuis, 25 kan ook de positie van het omkeerpunt nabij de afvoerzijde verschoven worden gedurende ten minste een deel van stap iii). De spanning die in de gedeponeerde lagen wordt ingebouwd gedurende het dampdepositieproces wordt hiermee gereduceerd.

In een bijzondere uitvoeringsvorm verschuift de positie van het omkeerpunt nabij de 30 toevoerzijde in de richting afgekeerd van de afvoerzijde. Een dergelijke verschuiving maakt het mogelijk de bruikbare voorvormlengte te vergroten.

De positie van het omkeerpunt nabij de toevoerzijde kan echter ook in de richting van de afvoerzijde verschuiven. In beide hierboven genoemde gevallen 4 wordt de hoeveelheid spanning, die in het glas wordt ingebouwd als gevolg van de depositie, verlaagd. Een verlaagde hoeveelheid spanning in het glas voorkomt lagensprong. Lagensprong treedt op indien de ingebouwde spanning van de afgezette lagen zodanig hoog is dat de afgezette lagen van elkaar loslaten. Een 5 voorvorm waarin lagensprong aanwezig is, is niet of slechts ten dele bruikbaar voor de vervaardiging van optische vezels.

Bij voorkeur bedraagt de verschuiving van de positie van het omkeerpunt nabij de toevoerzijde maximaal de helft van de lengte van het plasma. De onderhavige uitvinders hebben geconstateerd dat wanneer de verschuiving van 10 het omkeerpunt nabij de toevoerzijde meer bedraagt dan de helft van de lengte van het plasma, de bruikbare voorvormlengte afneemt. Deze afname in de bruikbare voorvormlengte wordt toegeschreven hetzij aan het ontstaan van een geometrische taper, hetzij aan het ontstaan van een optische taper als gevolg van een te sterke verandering van de brekingsindex, of een combinatie hiervan. Met geometrische 15 taper wordt bedoeld een taper ten aanzien van de geometrische eigenschappen van een optische voorvorm. Wanneer de verschuiving van de positie van het omkeerpunt nabij de toevoerzijde groter is dan maximaal de helft van de lengte van het plasma, dan is gevonden dat de bruikbare voorvormlengte lager is in vergelijking met de situatie waarin de positie van het omkeerpunt nabij de toevoerzijde gedurende het 20 gehele proces stationair is.

Andere bijzonder uitvoeringsvormen zijn verwoord in de afhankelijke conclusies.

De voorvorm vervaardigd volgens de onderhavige uitvinding kan indien gewenst aan de buitenzijde hiervan worden voorzien van een of meer extra 25 glaslagen, bijvoorbeeld door de voorvorm in een buis van kwartsglas te plaatsen of door silica middels een depositieproces aan te brengen, of door een combinatie van beide. De voorvorm, al dan niet voorzien van een of meer extra glaslagen, kan aan een uiteinde hiervan worden verhit en vervolgens worden uitgetrokken tot een optische vezel.

30 De onderhavige uitvinding zal hierna aan de hand van een aantal figuren worden toegelicht, waarbij echter dient te worden opgemerkt dat de onderhavige uitvinding in geen geval tot dergelijke bijzondere uitvoeringsvormen is beperkt.

5

Figuur 1 is een schematische voorstelling van een substraatbuis waarin de onderhavige uitvinding wordt toegepast.

Figuur 2 toont een snelheidsprofiel van het plasma onder toepassing van de werkwijze volgens de onderhavige uitvinding.

5 Figuur 3 toont een longitudinaal brekingsindexprofiel van een tweetal voorvormen.

Figuur 4 toont het radiale brekingsindexprofiel van een eenvoudige step-index optische vezel.

Figuur 5 toont het radiale brekingsindexprofiel van een W-type step-10 index optische vezel.

In figuur 1 is een holle glazen substraatbuis 10 waarin het dampdepositieproces volgens de onderhavige uitvinding kan worden uitgevoerd schematisch weergegeven. In substraatbuis 10 met toevoerzijde 20 en afvoerzijde 30 wordt een plasma 40 met lengte L heen en weer bewogen tussen twee 15 omkeerpunten (A0, A1, A2 respectievelijk DO, D1, D2). Lengte L is op te vatten als de lengte waarover plasma 40 zich over de longitudinale as van substraatbuis 10 uitstrekt.

De positie van het omkeerpunt nabij toevoerzijde 20 wordt aangeduid met A0 respectievelijk A1 en A2. De positie van het omkeerpunt nabij de afvoerzijde 20 wordt aangeduid met DO respectievelijk D1 en D2. Plasma 40 wordt gegenereerd door een resonator (niet weergegeven) die substraatbuis 40 omringt. De resonator is verbonden met microgolf genererende middelen (niet weergegeven) en koppelt microgolven in substraatbuis 10 teneinde plasmacondities in het inwendige van substraatbuis 10 te genereren.

25 Positie A0 komt overeen met de positie van het omkeerpunt nabij toevoerzijde 20 aan het begin van stap iii).

De positie DO komt overeen met de positie van het omkeerpunt nabij afvoerzijde 30 aan het begin van stap iii).

Gedurende tenminste een deel van stap iii) verschuift de positie van 30 het omkeerpunt A0 nabij toevoerzijde 20 over de longitudinale as van substraatbuis 10. De positie van het omkeerpunt A0 nabij toevoerzijde 20 kan verschuiven in de richting van A1 (afgekeerd van de afvoerzijde) of A2 (richting de afvoerzijde). In een voorkeursuitvoering verschuift de positie van het omkeerpunt A0 nabij toevoerzijde 6 20 in de richting afgekeerd van afvoerzijde 30 van substraatbuis 10, dat wil zeggen in de richting van A1. Indien de positie van het omkeerpunt A0 nabij toevoerzijde 20 in de richting afgekeerd van afvoerzijde 30 van substraatbuis 10 wordt verschoven, wordt de geometrische taper in mindere mate beïnvloed dan wanneer de positie van 5 het omkeerpunt nabij toevoerzijde 20 in de richting van afvoerzijde 30 van substraatbuis 10 wordt verschoven.

De maximale verschuiving van het omkeerpunt nabij toevoerzijde 20 bedraagt bij voorkeur de helft van lengte L van plasma 40.

Gelet op het feit dat het depositieproces in de orde van enkele uren 10 kan duren, terwijl de tijd waarmee het plasma 40 van het omkeerpunt nabij de toevoerzijde naar het omkeerpunt nabij de afvoerzijde en weer terug naar het omkeerpunt nabij de toevoerzijde in de orde van enkele seconden is, bijvoorbeeld 10 seconden, zal een relatief groot aantal discrete posities tussen positie A0 respectievelijk DO en A1 of A2 respectievelijk D1 of D2 worden ingenomen.

15 De positie van het omkeerpunt kan bijvoorbeeld lineair als functie van de tijd worden verschoven. Het verschuiven van het omkeerpunt nabij de toevoerzijde gedurende de gehele stap iii) geniet de voorkeur, met name ten aanzien van de spanning die gedurende deze stap in de afgezette glaslagen wordt ingebouwd. Ook het verschuiven van het omkeerpunt nabij de afvoerzijde gedurende de gehele stap iii) 20 geniet om dezelfde reden de voorkeur.

Het verschuiven van het omkeerpunt nabij toevoerzijde 20 van substraatbuis 10 gedurende tenminste een deel van stap iii) vindt niet noodzakelijkerwijs in een en dezelfde richting plaats. Dit betekent dat een bepaalde positie van het omkeerpunt nabij toevoerzijde 20 meer dan één keer kan worden 25 ingenomen gedurende tenminste een deel van stap iii). Het is dus mogelijk dat de positie van het omkeerpunt nabij toevoerzijde 20 aan het begin van stap iii) gelijk is aan de positie van het omkeerpunt nabij toevoerzijde 20 aan het einde van stap iii) terwijl er wel degelijk sprake is geweest van een verschuiving van het omkeerpunt, zowel in de richting van de afvoerzijde als in de richting afgekeerd van de 30 afvoerzijde, nabij toevoerzijde 20 gedurende tenminste een deel van stap iii).

Figuur 2 toont het snelheidsprofiel van plasma 40 gedurende stap iii) van de onderhavige werkwijze. De positie van plasma 40 (zie figuur 1) ten opzichte van de longitudinale as van substraatbuis 10 (zie figuur 1) is weergegeven op de 7 horizontale as. De genormaliseerde snelheid waarmee plasma 40 zich over de longitudinale as van substraatbuis 10 verplaatst is weergegeven op de verticale as. Met genormaliseerde snelheid wordt bedoeld de snelheid in verhouding tot de snelheid in het gebied BO - C, welke snelheid vanwege de duidelijkheid als een 5 constante snelheid wordt beschouwd. Indien plasma 40 zich beweegt van het omkeerpunt nabij toevoerzijde 20 (zie figuur 1) in de richting van het omkeerpunt nabij afvoerzijde 30 (zie figuur 1) neemt in het gebied tussen posities A0 en B0 respectievelijk A1 of A2 en B0 de snelheid van plasma 40 toe tot een genormaliseerde waarde gelijk aan 1. Hoewel niet noodzakelijk, verplaatst plasma 40 10 zich tussen posities B0 en C met een nagenoeg constante snelheid. In het gebied tussen posities C en DO respectievelijk C en D1 of D2 neemt de snelheid van plasma 40 af tot een waarde van nul. Zodra plasma 40 zich beweegt van het omkeerpunt nabij afvoerzijde 30 in de richting van het omkeerpunt nabij toevoerzijde 2n; 20 is er sprake van een toename van de snelheid in het gebied tussen 15 de posities DO en C respectievelijk D1 of D2 en C en een afname van de snelheid tussen de posities B0 en A0 respectievelijk B0 en A1 of A2.

In figuur 3 is een longitudinaal brekingsindexprofiel weergegeven van een geconsolideerde voorvorm vervaardigd volgens een standaard proces (1) en een geconsolideerde voorvorm vervaardigd volgens de werkwijze van de onderhavige 20 uitvinding (2). Op de horizontale as is de longitudinale positie in, of de lengte van, de voorvorm weergegeven. Beide voorvormen bezitten een lengte van circa 1200 mm. Positie 0 komt overeen met toevoerzijde 20 en positie 1400 met afvoerzijde 30 van substraatbuis 10. Tolerantiegrenzen 3 geven de minimale en maximale waarde voor de brekingsindex aan. Ligt de brekingsindex buiten deze tolerantiegrenzen, dan bezit 25 de vezel die wordt vervaardigd uit de voorvorm optische tekortkomingen.

In figuur 3 zijn de tolerantiegrenzen 0,33 respectievelijk 0,4 delta%, doch deze waarden dienen niet als beperkend te worden opgevat.

De waarde delta% wordt berekend volgens de onderstaande formule: 30 n2 - n2 delta _ 1% -- 2n2 8

Hierin is n, de brekingsindexwaarde op een radiale positie i en nc de brekingsindexwaarde op een radiale referentiepositie c in de geconsolideerde voorvorm. De waarde nc is bijvoorbeeld gelijk aan de brekingsindex van de laag die de kern omgeeft, welke laag ook wel met "cladding" wordt aangeduid. Aan de hand 5 van een radiaal brekingsindexprofiel voor optische vezels zoals weergegeven in figuur 4 bijvoorbeeld, kan delta_ 1% berekend worden door voor n; de waarde van η, te gebruiken.

Het longitudinale brekingsindexprofiel 1 laat in het met verwijzingscijfer 4 weergegeven gebied rond positie 200 een maximale waarde voor 10 de brekingsindex zien die buiten voornoemde tolerantiegrenzen 3 valt. Derhalve zal dit deel van voorvorm 1 ongeschikt zijn voor vervaardiging van een optische vezel.

Het longitudinale brekingsindexprofiel 2 laat ook een maximale waarde voor de brekingsindex nabij de toevoerzijde zien, doch deze waarde valt binnen tolerantiegrenzen 3. Als gevolg hiervan is de bruikbare voorvormlengte in 15 vergelijking met de voorvormlengte van de voorvorm vervaardigd volgens de stand der techniek toegenomen met circa 50 mm. Dit komt overeen met een toename van circa 5% in voorvormlengte of, uitgedrukt in vezellengte 30 km of meer in de uitvoeringsvorm van een eenvoudige single mode optische vezel (zie figuur 4).

Naast bovengenoemde verbetering van de bruikbare voorvormlengte wordt in 20 voorvorm 2 minder spanning in het in stap iii) gedeponeerde glas ingebouwd dan in voorvorm 1.

De werkwijze volgens de onderhavige uitvinding is met name geschikt voor de vervaardiging van voorvormen voor optische vezels van het zogenaamde step-index type. Hiermee worden optische vezels bedoeld met een 25 radiaal brekingsindexprofiel, waarin tenminste een schil van afgezette lagen aanwezig is, waarbij een schil is op te vatten als een aantal lagen met een constante waarde voor de brekingsindex in radiale richting. Voorbeelden van dergelijke profielen zijn afgebeeld in de figuren 4 en 5. Figuur 4 toont een eenvoudig step-index profiel bestaande uit een kern met brekingsindex n1 en een cladding met 30 brekingsindex nc heeft. Figuur 5 toont een W-type profiel met een kern bestaande uit schillen met brekingsindices n1, n2 en n3 en een cladding met brekingsindex nc.

In een uitvoeringsvorm waarbij meer dan een schil met een constante brekingsindex in radiale richting aanwezig is, zoals bijvoorbeeld in bovengenoemd 9 W-type profiel, is het mogelijk om gedurende de depositie in stap iii) van de onderhavige werkwijze voor elke schil de optimale verplaatsing van de positie van de omkeerpunten te bepalen.

De onderhavige werkwijze is aldus op te vatten als een aantal 5 deelstappen iii), waarbij elke deelstap de depositie van een schil betreft. In het bijzonder zijn in figuur 5 aldus drie schillen te herleiden, te weten de schillen met brekingsindices n1, n2 en n3, waarbij elke schil vervaardigd wordt in een deelstap en waarbij voor elke deelstap de optimale verplaatsing van de positie van de omkeerpunten moet worden bepaald teneinde een over de longitudinale richting van 10 de voorvorm voor de desbetreffende schil constante brekingsindexwaarde te verkijgen.

Voorbeeld

Voorvormen voor vervaardiging van optische vezels met een radiaal brekingsindexprofiel zoals afgebeeld in figuur 4 worden vervaardigd volgens de 15 werkwijze van de onderhavige uitvinding. Het omkeerpunt nabij de toevoerzijde verschuift gedurende gehele stap iii) in de richting afgekeerd van de afvoerzijde. In figuur 1 en 2 betekent dit dat gedurende stap iii) het omkeerpunt nabij de toevoerzijde verschuift van AO naar A1. De plasmalengte L bedraagt circa 20 cm en de verschuiving vindt lineair plaats met de tijd. De totale verschuiving wordt 20 gevarieerd, waarbij het effect hiervan op de bruikbare voormlengte wordt bepaald.

Tabel

Voorbeeld Totale verschuiving Fmml I Bruikbare voorvormlengte fmml

Geen verschuiving__0__1000_ 25 !__20__1010_ _M__50__1030_ _IM__70__1050_ _IV__100__1050_ V l 110 980 30

Een batch voorvormen vervaardigd volgens de onderhavige uitvinding vertoont een reductie van circa 5% in de voorvormen die lagensprong bevatten.

1033773

Claims

1. Werkwijze voor de vervaardiging van een voorvorm voor optische vezels met behulp van een dampdepositieproces omvattende de volgende stappen: 5 i) het verschaffen van een holle glazen substraatbuis met een toevoerzijde en een afvoerzijde ii) het toevoeren via de toevoerzijde van al dan niet gedoteerde glasvormende gassen aan het inwendige van de substraatbuis iii) het creëren van plasma omstandigheden in het inwendige van 10 de substraatbuis ter depositie van glaslagen aan de binnenzijde van de substraatbuis door het plasma over de longitudinale as van de substraatbuis heen en weer te laten bewegen tussen een omkeerpunt nabij de toevoerzijde en een omkeerpunt nabij de afvoerzijde van de substraatbuis iv) het consolideren van de buis verkregen in stap iii) tot de 15 voorvorm, met het kenmerk, dat gedurende tenminste een deel van stap iii) de positie van het omkeerpunt nabij de toevoerzijde van de substraatbuis verschuift over de longitudinale as van de substraatbuis.

2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de positie van het 20 omkeerpunt nabij de toevoerzijde over de longitudinale as van de substraatbuis in de richting afgekeerd van de afvoerzijde verschuift.

3. Werkwijze volgens een van voorgaande conclusies 1-2, met het kenmerk, dat de verschuiving van de positie van het omkeerpunt over de longitudinale as van de substraatbuis nabij de toevoerzijde maximaal de helft van de 25 lengte van het plasma bedraagt.

4. Werkwijze volgens een van voorgaande conclusies 1-3, met het kenmerk, dat gedurende tenminste een deel van stap iii) de positie van het omkeerpunt nabij de afvoerzijde over de longitudinale as van de substraatbuis verschuift.

5. Werkwijze volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat de positie van het omkeerpunt nabij de afvoerzijde over de longitudinale as van de substraatbuis in de richting van de toevoerzijde verschuift.

6. Werkwijze volgens een van voorgaande conclusies 1-5, met het 1033773 kenmerk, dat de verschuiving van de positie van het omkeerpunt nabij de toevoerzijde gedurende de gehele stap iii) plaatsvindt.

7. Werkwijze volgens een van voorgaande conclusies 4-5, met het kenmerk, dat de verschuiving van de positie van het omkeerpunt nabij de afvoerzijde 5 gedurende de gehele stap iii) plaatsvindt.

8. Werkwijze volgens een van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de positie van het omkeerpunt nabij de toevoerzijde van de holle substraatbuis verschuift over de longitudinale as van de substraatbuis om in de aldus, op het inwendige van de holle substraatbuis afgezette glaslagen een 10 brekingsindexwaarde te verkrijgen die in de longitudinale richting van de substraatbuis nagenoeg constant is, welke glaslagen als een schil zijn te beschouwen, waarbij op de aldus verkregen schil een of meer aanvullende schillen, elk omvattende een aantal glaslagen, worden afgezet, waarbij voor de depositie van elke schil de positie van het omkeerpunt nabij de toevoerzijde van de substraatbuis 15 zodanig wordt gekozen dat de brekingsindexwaarde over de desbetreffende schil in longitudinale richting van de substraatbuis nagenoeg constant is.

9. Werkwijze volgens een van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de verschuiving van de positie van het omkeerpunt over de longitudinale as van de substraatbuis nabij de toevoerzijde en/of de afvoerzijde 20 lineair als functie van de tijd gedurende ten minste een deel van stap iii) wordt uitgevoerd.

10. Werkwijze voor het vervaardigen van een optische vezel waarbij een optische voorvorm aan een uiteinde wordt verhit en waaruit vervolgens een optische vezel wordt getrokken, met het kenmerk, dat de voorvorm volgens een van 25 voorgaande conclusies 1-9 wordt toegepast. t ©33 773