NL1023438C2 - Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, voorvorm en een optische vezel. - Google Patents

Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, voorvorm en een optische vezel. Download PDF

Info

Publication number
NL1023438C2
NL1023438C2 NL1023438A NL1023438A NL1023438C2 NL 1023438 C2 NL1023438 C2 NL 1023438C2 NL 1023438 A NL1023438 A NL 1023438A NL 1023438 A NL1023438 A NL 1023438A NL 1023438 C2 NL1023438 C2 NL 1023438C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
substrate tube
end region
plasma
length
preform
Prior art date
Application number
NL1023438A
Other languages
English (en)
Inventor
Igor Milicevic
Eric Aloysius Kuijpers
Rob Hubertus Matheus Deckers
Dennis Robert Simons
Frans Gooijer
Original Assignee
Draka Fibre Technology Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to NL1023438A priority Critical patent/NL1023438C2/nl
Application filed by Draka Fibre Technology Bv filed Critical Draka Fibre Technology Bv
Priority to EP04732858A priority patent/EP1622841B1/en
Priority to CN2004800133031A priority patent/CN1791560B/zh
Priority to BRPI0410244-4A priority patent/BRPI0410244B1/pt
Priority to JP2006532117A priority patent/JP4822125B2/ja
Priority to PCT/NL2004/000326 priority patent/WO2004101458A1/en
Priority to KR1020057021710A priority patent/KR101095428B1/ko
Priority to AT04732858T priority patent/ATE438595T1/de
Priority to DE602004022401T priority patent/DE602004022401D1/de
Priority to US10/846,637 priority patent/US7068899B2/en
Application granted granted Critical
Publication of NL1023438C2 publication Critical patent/NL1023438C2/nl
Priority to US11/414,376 priority patent/US7522800B2/en

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
    • C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
    • C03B37/0183—Plasma deposition burners or heating means for plasma within a tube substrate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)

Description

• «
Korte aanduiding: Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, voorvorm en een optische vezel.
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een werkwijze 5 ter vervaardiging van een optische vezel, welke werkwijze de volgende stappen omvat; i) het verschaffen van een holle substraatbuis, ii) het door het inwendige van de holle substraatbuis leiden van al of niet van doteringen voorziene, reactieve glasvormende 10 gassen, iii) het in het inwendige van de holle substraatbuis tot stand brengen van zodanige omstandigheden dat depositie van glaslagen op het inwendige van de holle substraatbuis optreedt, waarbij een niet-isotherm plasma tussen twee omkeerpunten heen en weer over de lengte van 15 de substraatbuis wordt bewogen, waarbij de verplaatsingssnelheid van het plasma bij elk omkeerpunt tot nul afneemt, iv) het aan een collapse-handeling onderwerpen van de aldus verkregen substraatbuis ter vorming van een massieve voorvorm, en v) het uit de massieve voorvorm trekken van een optische 20 vezel.
Daarnaast heeft de onderhavige uitvinding betrekking op een voorvorm ter vervaardiging van een optische vezel, alsmede op een optische vezel.
Onder toepassing van de onderhavige uitvinding worden 25 voorvormen voor optische vezels onder toepassing van een inwendige chemische dampdepositietechniek (CVD) gevormd, waarbij aan de binnenzijde van een holle substraatbuis al of niet van doteringen voorziene, reactieve glasvormende gassen worden afgezet. Dergelijke reactieve gassen worden aan één zijde, te weten de toevoerzijde, van de substraatbuis 30 toegevoerd en vormen ten gevolge van bijzondere procesomstandigheden een glaslaag op het inwendige van de substraatbuis. Voor de vorming van een 1023438- I glaslaag wordt een energiebron over de lengte van de substraatbuis heen I en weer bewogen. De energiebron, in het bijzonder een piasmagenerator, I voert hoogfrequente energie toe waardoor een plasma in het inwendige van I de substraatbuis wordt opgewekt, onder welke plasma-omstandigheden de 5 reactieve glasvormende gassen zullen reageren (de plasma-CVD-techniek).
I Het is echter ook mogelijk dat de energie door middel van warmte, in het I bijzonder door branders, aan de buitenzijde van de substraatbuis of via I een oven, die de substraatbuis omringt, wordt toegevoerd. Deze hiervoor I genoemde technieken hebben als overeenkomst dat de energiebron ten 10 opzichte van de substraatbuis heen en weer wordt bewogen.
I Een nadeel van de hiervoor omschreven technieken is dat I door het heen en weer bewegen van de energiebron er ter hoogte van de I omkeerpunten afwijkingen in de door depositie gevormde lagen kunnen I ontstaan. Dergelijke afwijkingen worden "taper" genoemd, waarbij verder I 15 een onderscheid wordt gemaakt in geometrische taper en optische taper.
I Onder geometrische taper wordt verstaan dat de dikte van de totale I depositie, te weten alle glaslagen, over de lengte van de buis niet I constant is. Onder optische taper wordt verstaan dat de optische I eigenschappen, welke eigenschappen hoofdzakelijk aan de uiteindelijk I 20 getrokken vezel worden bepaald, over de lengte van de voorvorm niet I constant zijn. Optische taper wordt enigszins veroorzaakt door afwijkingen in de laagdikte, maar is hoofdzakelijk bepaald door I afwijkingen in de brekingsindex, of brekingsindexprofielen, over de I lengte van de voorvorm. Voor een goede beheersing van de optische I 25 eigenschappen van de te vervaardigen vezels is, naast een goede beheersing van de geometrische taper, het gewenst dat de afwijkingen in I het brekingsindexcontrast Δ zo gering mogelijk zijn over een zo groot I mogelijke lengte van de voorvorm.
Het nadeel van taper is dat de nuttige lengte van de I 30 voorvorm is beperkt, hetgeen betekent dat een geringere hoeveelheid vezel I uit één voorvorm kan worden verkregen. Daarnaast kunnen de eigenschappen I m?34sa-
Ivan een optische vezel ten gevolge van taper over de lengte van de vezel niet constant zijn. Hierbij kan verder worden vermeld dat wanneer de optische eigenschappen van een vezel van grote lengte ten gevolge van taper niet voldoende constant zijn er bepaalde garanties door de 5 fabrikant dienen te worden verschaft met betrekking tot het afgegeven productcertificaat, waarbij in principe elk afzonderlijk dëel van de optische vezel altijd dient te moeten voldoen aan de afgegeven specificatie, in het bijzonder wanneer de optische eigenschappen door bijvoorbeeld de gebruiker worden nagemeten.
10 Het Amerikaanse octrooi schrift 4.741.747 heeft betrekking op een methode voor het vervaardigen van optische vezels, waarbij het reduceren van zogenaamde eindtaper is beoogd door het plasma in het gebied van het omkeerpunt niet-lineair als functie van de tijd te verplaatsen en/of door de intensiteit van het plasma over de lengte van 15 de glazen buis te variëren.
Het Amerikaans octrooi schrift 4.857.091 heeft betrekking op een methode ter vervaardiging van optische vezels, waarbij een aantal parameters is genoemd die de axiale positie van de lokale depositiezone met betrekking tot de piasmagenerator beïnvloeden, waaronder: 20 i) het periodiek variëren van het microgolfvermogen, ii) het periodiek variëren van de druk in de substraatbuis, en ii) het periodiek variëren van de snelheid van de resonator die over de buis wordt bewogen. Nadere gegevens betreffende i)-25 iii) ontbreken volledig.
De Europese octrooiaanvrage 0 038 982 heeft betrekking op een methode ter vervaardiging van optische vezels, waarbij de piasmagenerator over de lengte van de substraatbuis wordt bewogen, welke piasmagenerator een zodanig hete zone produceert dat de hete zone is te 30 beschouwen als een zogenaamde “tandem hete zone" die ten minste twee zones omvat, namelijk zone I en zone II. Hoewel is vermeld dat 1023438- Η deposit!esnel heden of depositiesamenstellingen kunnen worden veranderd om H het optreden van zogenaamde taper-uiteinden te voorkomen, is niet H aangegeven volgens welke bijzondere maatregelen een dergelijke handeling moet worden verricht.
H 5 De Europese octrooiaanvrage 0 333 580 heeft betrekking op H een inrichting voor het vervaardigen van voorvormen voor optische vezels, waarbij een microgolfgenerator met variabel vermogen wordt toegepast, echter zonder dat gebruik wordt gemaakt van een niet-isotherm plasma dat tussen twee omkeerpunten heen en weer over de lengte van de substraatbuis 10 wordt bewogen.
De eerder ingediende maar later gepubliceerde internationale aanvrage WO 03/054245 heeft betrekking op een bijzondere PCVD-techniek ter vervaardiging van voorvormen, waarbij geen informatie is beschreven inzake het veranderen van de snelheid waarmee het plasma 15 over de lengte van de holle substraatbuis wordt bewogen.
Uit de Britse octrooi publicatie GB 2 118 165 is een methode voor het vervaardigen van een optische vezel bekend, waarbij de snelheid van de axiaal langs de substraatbuis verplaatsende warmtebron voldoet aan I een bepaalde wiskundige vergelijking, waarbij de snelheid een functie van I 20 de positie van de warmtebron langs de substraatbuis is zodat de totale I depositiedikte van de glaslagen over de lengte van de buis nagenoeg I constant is.
I Uit het ten name van de onderhavige aanvragers verleende I Amerikaanse octrooi schrift 5.188.648 is een werkwijze ter vervaardiging 25 van optische vezels bekend, waarbij iedere keer wanneer het plasma het I omkeerpunt in de buurt van het gasinlaatpunt van de substraatbuis I bereikt, de beweging van het plasma wordt onderbroken terwijl de glasdepositie zich voortzet, waarbij de periode waarin de plasmabeweging I wordt onderbroken ten minste 0,1 seconde bedraagt.
I 30 Het doel van de onderhavige uitvinding is . aldus het I verschaffen van een werkwijze ter vervaardiging van een voorvorm waaruit I » I 5 I een optische vezel kan worden getrokken, welke voorvorm een geringe I geometrische en optische taper bezit.
I Een ander aspect van de onderhavige uitvinding is het I verschaffen van een voorvorm waaruit een optische vezel kan worden I 5 getrokken, welke voorvorm over een zo groot mogelijke lengte constante I optische eigenschappen bezit.
I Een ander aspect van de onderhavige uitvinding is het I verschaffen van een optische vezel waarvan de afwijking ten opzichte van I de gemiddelde waarde van de profielvormparameter a, gemeten over een I 10 bepaalde lengtevezel, zich binnen een nauwkeurig gedefinieerd gebied I bevindt.
I De onderhavige uitvinding zoals vermeld in de aanhef wordt gekenmerkt doordat tijdens stap iii) in een eerste eindgebied grenzend aan een omkeerpunt de snelheid waarmee het plasma over de lengte van de I 15 holle substraatbuis wordt bewogen zowel als functie van de tijd als van I de positie in het eerste eindgebied wordt veranderd, welke verandering I het beginpunt van het eerste eindgebied markeert, waarbij het eindpunt I van het eerste eindgebied samenvalt met het omkeerpunt, welk eindgebied I een lengte bezit die voldoende Is om taper in de voorvorm te reduceren.
I 20 Onder toepassing van de hiervoor genoemde werkwijze kunnen I êén of meer doelstellingen van de onderhavige uitvinding worden bereikt.
I Meer in het bijzonder ziet de onderhavige uitvinding erop toe dat ter vermindering van de optische taper niet alleen een bepaalde variatie in een bepaalde procesparameter over de lengte of positie van de 25 substraatbuis wordt toegepast, welke maatregel in de hiervoor besproken stand van de stand van de techniek uitvoerig is omschreven, maar dat ook H moet gelden dat een variatie van deze aanpassing in de tijd dient te geschieden, waarbij de tijd moet worden gezien als de periode waarin de H depositie van de glaslagen plaatsvindt. De procesparameters waarmee een 30 dergelijke reductie van de optische taper kan worden bewerkstelligd zijn i) de snelheid waarmee de piasmagenerator ten opzichte van de I 1023438- substraatbuis wordt verplaatst, ii) het aan de piasmagenerator toegevoerde vermogen, iii) de hoeveelheid en de samenstelling van de aan het inwendige van de holle substraatbuis toegevoerde, al of niet van doteringen voorziene, reactieve glasvormende gassen en iv) de in de 5 substraatbuis heersende druk.
Het verdient derhalve de voorkeur dat de snelheid waarmee H het plasma in het eerste eindgebied over de lengte van de holle H substraatbuis wordt bewogen in het begin van stap iii) overal lager is dan de snelheid waarmee het plasma buiten het eindgebied over de holle H 10 substraatbuis wordt bewogen, en aan het einde van stap iii) waarden bevat H die hoger zijn dan de snelheid waarmee het plasma buiten het eerste H eindgebied over de holle substraatbuis wordt bewogen, waarbij in het bijzonder de snelheid in het eerste eindgebied lineair in de tijd H toeneemt. Het hiervoor genoemde eerste eindgebied bevindt zich aan het 15 uiteinde van de holle substraatbuis waar de toevoer van reactieve glasvormende gassen volgens stap ii) plaatsvindt.
Om een voorvorm te vervaardigen die een zo groot mogelijk nuttige lengte bezit, is het gewenst dat aan beide uiteinden van de I voorvorm een reductie van taper wordt bewerkstelligd, waarbij het de 20 voorkeur verdient dat tijdens stap iii) in een tweede eindgebied grenzend I aan een omkeerpunt de snelheid waarmee het plasma over de lengte van de I holle substraatbuis wordt bewogen zowel als functie van de tijd als van de positie in het tweede eindgebied wordt veranderd, welke verandering het beginpunt van het tweede eindgebied markeert, waarbij het eindpunt 25 van het tweede eindgebied samenvalt met het omkeerpunt, welk tweede eindgebied een lengte bezit die voldoende is om taper in de voorvorm te I reduceren.
I Om een taperreductie in het tweede eindgebied tot stand te brengen is het gewenst dat de snelheid waarmee het plasma in het tweede 30 eindgebied over de lengte van de holle substraatbuis wordt bewogen in het begin van stap iii) overal lager is dan de snelheid waarmee het plasma 1023438- * 1 7 buiten het eindgebied over de holle substraatbuis wordt bewogen en aan het einde van stap iii) verder is afgenomen, waarbij in het bijzonder het tweede eindgebied zich bevindt aan het uiteinde van de holle substraatbuis waar de afvoer van reactieve glasvormende gassen volgens 5 stap ii) plaatsvindt.
Om op een bepaalde positie, in de axiale lengte van de substraatbuis gezien, aan het begin van het deposit!eproces een grote hoeveelheid glas af te zetten en aan het einde van het depositieproces een geringe hoeveelheid glas af te zetten, verdient het de voorkeur dat 10 tijdens stap iii) de snelheid in het tweede eindgebied lineair als functie van de tijd afneemt. Het is met name gunstig wanneer het eerste eindgebied een lengte van 5-35% en het tweede eindgebied een lengte van 1-10%, berekend over de totale afstand van de holle substraatbuis tussen beide omkeerpunten, omvat.
15 De werkwijze volgens de onderhavige uitvinding wordt verder gekenmerkt doordat tijdens stap iii) het vermogen van het plasma en de snelheid waarmee het plasma over de lengte van de holle substraatbuis tussen beide omkeerpunten nagenoeg constant worden gehouden, waarbij in een eindgebied grenzend aan een omkeerpunt het plasmavermogen als functie 20 van de tijd wordt veranderd, welke verandering het beginpunt van het eindgebied markeert, welk plasmavermogen in het begin van stap iii) lager, bij voorkeur ten minste 2%, in het bijzonder ten minste 5%, is dan het plasmavermogen in het gebied buiten het eindgebied en als functie van de tijd geleidelijk wordt verhoogd naar een plasmavermogen met een waarde 25 die aan het einde van stap iii) hoger, bij voorkeur ten minste 2%, in het bijzonder ten minste 5%, is dan het plasmavermogen in het gebied buiten het eindgebied, waarbij het met name gewenst is dat het eindgebied zich bevindt aan het uiteinde van de holle substraatbuis waar de toevoer van reactieve glasvormende gassen volgens stap ii) plaatsvindt.
30 De onderhavige uitvinding wordt verder gekenmerkt doordat de toegevoerde hoeveelheid reactieve glasvormende gassen volgens stap 1023438- Η ' I iii) over de lengte van de holle substraatbuis tussen beide omkeerpunten I nagenoeg constant wordt gehouden, waarbij in een eindgebied grenzend aan I een omkeerpunt de samenstelling van de reactieve glasvormende gassen als functie van de tijd wordt veranderd, welke verandering het beginpunt van I 5 het eindgebied markeert.
I In een bijzondere uitvoeringsvorm verdient het de voorkeur I dat de snelheid waarmee het plasma over de lengte van de holle I substraatbuis tussen beide omkeerpunten nagenoeg constant wordt gehouden, waarbij in een eindgebied grenzend aan een omkeerpunt de druk in de holle I 10 substraatbuis als functie van de tijd wordt veranderd, welke verandering I het beginpunt van het eindgebied markeert.
I Onder toepassing van de onderhavige werkwijze kunnen I optische vezels worden vervaardigd, welke optische vezels van het type I gradiëntindex een 1ichtgeleidende optische kern bezitten waarvan de I 15 brekingsindex bij voorkeur dient te voldoen aan de vergelijking: I n(r) = n,[l - 2Δ (r/a)a]1/2 I waarin geldt: I 20 brekingsindexwaarde van het centrum van de vezel, r = de radiale positie in de vezel (μιη), Δ = brekingsindexcontrast van de vezel (= (η^-η^^/Ση,1), I ncl = brekingsindex van de de kern omringende cladding, I α = profielvormparameter en 25 a = straal van de gradiëntindexkern (μπ>).
I De profiel parameter α bepaalt de kromming van het I gradiëntprofiel; bij een α-waarde van 1 bezit het profiel de vorm van een driehoek, bij een α-waarde van oneindig bezit het profiel de vorm van I 30 een rechthoek. De hiervoor genoemde α-waarde bezit een grote invloed op I de pulsverbreding van een door de optische vezel verstuurde lichtpuls, en ‘ · 9 derhalve ook op de transmissiecapaciteit van een dergelijke multimode optische vezel. Om grote afwijkingen in de transmissiecapaciteit van de optische vezels te voorkomen verdient het de voorkeur dat de afwijking ten opzichte van de gemiddelde waarde van de profielvormparameter α 5 binnen een gebied van ± 0,03 of minder ligt, over een lengte van ten minste 10 km. Met name verdient het de voorkeur dat de afwijking ten opzichte van de gemiddelde waarde van de profielvormparameter α binnen een gebied van ten hoogste ± 0,015 voor een optische vezel met een lengte van ten minste 10 km ligt.
10 De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een voorvorm ter vervaardiging van een optische vezel, gekenmerkt doordat de afwijking van het brekingsindexcontrast zich binnen een absolute waarde van 2% bevindt, gemeten voor een voorvorm met een lengte van ten minste 60 cm, in het bijzonder dat de afwijking van het brekingsindexcontrast 15 zich binnen een absolute waarde van 1,5% bevindt, gemeten voor een voorvorm met een lengte van ten minste 60 cm.
De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een voorvorm ter vervaardiging van een optische vezel, waarbij de profiel parameter α zich binnen een absolute waarde van 0,03 bevindt, 20 gemeten voor een voorvorm met een lengte van ten minste 80 cm, met name dat de profiel parameter α zich binnen een absolute waarde van 0,015 bevindt, gemeten voor een voorvorm met een lengte van ten minste 80 cm.
De onderhavige uitvinding zal hierna aan de hand van een aantal voorbeelden worden toegelicht, waarbij echter dient te worden 25 opgemerkt dat de onderhavige uitvinding in geen geval tot dergelijke bijzondere voorbeelden is beperkt.
Ter vergelijking dienend voorbeeld 1.
Onder toepassing van de PCVD-techniek werd een voorvorm vervaardigd waaruit een optische vezel van het type gradiëntindex met een 30 brekingsindexcontrast van ongeveer 0,02 werd getrokken. Aan de binnenzijde van de substraatbuis werden glaslagen afgezet door reactieve 1023438- I 10 I glasvormende gassen aan êên zijde van de substraatbuis te laten binnenstromen en vervolgens te laten reageren onder toepassing van een I aan de binnenzijde van de substraatbuis opgewekt plasma. Een I substraatbuis omringende piasmagenerator of resonator werd toegepast voor I 5 de inkoppeling van de vereiste hoogfrequentie-energie in het plasma. Deze I piasmagenerator werd met een constante snelheid heen en weer bewogen over de lengte van de substraatbuis, waarbij bij de omkeerpunten de snelheid I vanaf een bepaalde positie lineair afnam naar 0. Dit snel heidsprofiel I werd gedurende het depositieproces constant gehouden en is weergegeven in I 10 Figuur 1. Na het depositieproces werd de substraatbuis volgens gebruikelijke wijze gecontraheerd tot een massieve voorvorm. Op verschillende posities over de lengte van de aldus gevormde voorvorm werd het brekingsindexprofiel gemeten onder toepassing van een zogenaamde I index-profiler type Photon Kinetics model 2600. Het verloop van de I 15 kerndiameter, de maximale Δ-waarde en profiel parameter a zijn I respectievelijk in de ingesloten Figuren 3-5 schematisch weergegeven. Uit
Figuur 4 is duidelijk waarneembaar dat de maximale voorvormlengte, I waarbij de afwijkingen in het brekingsindexcontrast binnen een waarde van ±1% vallen, ongeveer 60 cm bedraagt. De maximale voorvormlengte waarbij I 20 de afwijkingen in de brekingsindexcontrast binnen een waarde van ± 0,5% vallen, bedraagt ongeveer 40 cm.
I Voorbeeld 1.
I Onder toepassing van de in ter vergelijking dienend voorbeeld 1 beschreven PCVD-techniek werd een voorvorm vervaardigd I 25 waaruit een optische vezel van het type gradiëntindex met een brekingsindexcontrast van ongeveer 0,02 kan worden getrokken, waarbij I volgens de onderhavige uitvinding het snel heidsprofiel waarmee de I piasmagenerator over de axiale lengte van de substraatbuis werd bewogen, in de tijd werd gevarieerd. In Figuur 2 is het snel hei dsprof iel waarmee I 30 de piasmagenerator over de axiale lengte van de substraatbuis wordt I bewogen, schematisch is weergegeven. Uit Figuur 2 volgt duidelijk dat de I 1023438” 11 I werkwijze volgens de onderhavige uitvinding is toegepast aan het uiteinde I van de substraatbuis waar de reactieve glasvormende gassen worden I toegevoerd en het snelheidsprofiel van de piasmagenerator afneemt naar I punt B. In Figuur 2 is een aantal karakteristieke punten aangegeven, I 5 waarbij punt A de positie markeert waar het snel heidsprof iel van de I piasmagenerator niet meer constant wordt gehouden en wordt verlaagd naar I punt B (linkerzijde in de figuur) om de beoogde optische taper te I verminderen. Punt C markeert het omkeerpunt (snelheid = 0) van de I plasmaresonator aan het uiteinde van de substraatbuis waar de reactieve
I 10 glasvormende gassen de substraatbuis binnentreden, waarbij punt D
I (snelheid - 0) het aan het andere uiteinde van de substraatbuis gelegen I omkeerpunt markeert. De lengte van het eindgebied, gemarkeerd door A-C, I bedroeg 24% van de afstand tussen beide omkeerpunten, gemarkeerd door I C-D. Uit Figuur 2 volgt dat het snel heidsprof iel aan het begin van het I 15 depositieproces ter hoogte van punt A een afwijking vertoont ten opzichte I van het in Figuur 1 weergegeven snelheidsprofiel van vergelijkend I voorbeeld 1. Met andere woorden, de resonatorsnelheid is aan het begin I van het depositieproces in het eindgebied A-C lager dan het I snelheidsprofiel volgens Figuur 1 en zal gedurende het depositieproces op I 20 de positie van punt B geleidelijk toenemen naar een waarde hoger dan de I resonatorsnelheid zoals tijdens het gehele depositieproces in het gebied I rechts van beginpunt A is toegepast. Het gebied gelegen tussen omkeerpunt I C en het beginpunt A wordt ook wel eindgebied genoemd.
I Van de aldus verkregen voorvorm is op verschillende I 25 posities het brekingsindexprofiel gemeten onder toepassing van dezelfde I index-profiler als toegepast in ter vergelijking dienend voorbeeld 1, waarbij het verloop van de kerndiameter als lengte van de voorvorm in
Figuur 3 is weergegeven, de afwijking Δ (%) als functie van de lengte van de voorvorm in Figuur 4 is weergegeven en waarbij tenslotte in Figuur 5 I 30 de afwijking van de a-waarde als functie van de lengte van de voorvorm is I weergegeven. Uit deze figuren 3-5 volgt duidelijk dat de voorvorm volgens I 102343A- I Voorbeeld 1 wezenlijk betere resultaten verschaft dan de voorvorm volgens ter vergelijking dienend voorbeeld 1.
Voorbeeld 2.
Onder toepassing van de PCVD-techniek, zoals omschreven in 5 ter vergelijking dienend voorbeeld 1 en Voorbeeld 1, werd een voorvorm vervaardigd waaruit een optische vezel van het type gradiëntindex met een brekingsindexcontrast van ongeveer 0,02 werd getrokken. Tijdens het depositieproces werd het snel heidsprofiel van de piasmagenerator als functie van de tijd en van de positie gevarieerd, waarbij nu echter zowel 10 het profiel aan het linker uiteinde als het rechter uiteinde van de substraatbuis werd gevarieerd. De variatie als functie van de tijd en positie aan het uiteinde waar de reactieve glasvormende gassen de holle substraatbuis binnentreden komt overeen met het snel heidsprofiel zoals weergegeven in Figuur 2. Het snel heidsprofiel aan slechts het uiteinde 15 van de substraatbuis waar de gassen het inwendige van de substraatbuis verlaten, is schematisch weergegeven in Figuur 6. Aldus zijn in Figuur 6 het snel hei dsprof iel aan het begin van het depositieproces en het snel heidsprofiel aan het einde van het depositieproces weergegeven, waarbij duidelijk waarneembaar is dat het snel heidsprofiel aan het einde 20 van het depositieproces aanzienlijk langzamer is dan aan het begin. Vanaf punt E wordt de resonatorsnelheid als functie van de positie verlaagd, welke verandering aanzienlijk afwijkt van de bekende resonatorsnel hei dsprof iel en zoals weergegeven in Figuur 1. De lengte van het eindgebied bij het rechter omkeerpunt gemarkeerd door E-D, bedroeg 1,5% 25 van de afstand tussen beide omkeerpunten, gemarkeerd door C-D, waarbij C het linker omkeerpunt is (niet weergegeven). De aldus vervaardigde voorvorm is aan een aantal metingen onderworpen, waarbij op verschillende posities over de lengte van de voorvorm het brekingsindexprofiel is gemeten onder toepassing van dezelfde index-profiler als hiervoor in 30 Voorbeeld 1 en ter vergelijking dienend voorbeeld 1 is genoemd. Het verloop van de maximale Δ en profielvormparameter α zijn in in Figuren 7 1023438- 13 en 8 schematisch weergegeven, welke figuren duidelijk weergeven dat de voorvorm volgens Voorbeeld 2 wezenlijk betere resultaten verschaft dan de voorvorm volgens ter vergelijking dienend voorbeeld 1.
Voorbeeld 3.
5 Onder toepassing van de hiervoor weergegeven PCVD-techniek werd een voorvorm vervaardigd, waarbij het vermogen van de toegevoerde microgolvenenergie werd gevarieerd ter plaatse van het uiteinde van de substraatbuis waar de al of niet van doteringen voorziene, reactieve glasvormende gassen werden geïntroduceerd. Het hierbij toegepaste 10 snel heidsprofiel van de piasmagenerator komt overeen met het snel heidsprofiel zoals weergegeven in Figuur 1. In Figuur 9 is het vermogen van de toegevoerde microgolvenenergie als functie van de positie van de piasmagenerator schematisch weergegeven, waarbij in het gebied links van positie A het toegevoerde vermogen aan het begin van het 15 depositieproces is verminderd tot een waarde die 5% beneden het nominale vermogen lag ten opzichte van het gebied rechts van positie A. Gedurende het depositieproces is de aanpassing van het toegevoerde microgolfenergievermogen veranderd, waarbij aan het einde van het depositieproces het vermogen, afhankelijk van de positie van de 20 piasmagenerator, geleidelijk toenam tot een waarde die 5% boven het nominale vermogen lag. Onder toepassing van een dergelijke werkwijze is gebleken dat de optische taper kan worden verlaagd ten opzichte van de methode zoals omschreven in ter vergelijking dienend voorbeeld 1, te weten een uitvoeringsvorm waarbij geen aanpassing van het plasmavermogen, 25 zowel als functie van de tijd als plaats, werd uitgevoerd.
Voorbeeld 4.
Met behulp van de hiervoor beschreven PCVD-techniek werd een voorvorm voor een optische vezel van het type gradiëntindex met een brekingsindexcontrast van ongeveer 0,02 vervaardigd, waarbij in plaats 30 van het vermogen, zoals in Voorbeeld 3, de verhouding tussen de reactieve glasvormende gassen in de loop van het depositieproces werden gevarieerd, 1023438- I 14 I in het bijzonder de verhouding tussen de toegevoerde hoeveelheid GeCl„ en
SiCl4. De verandering van de verhouding tussen deze beide gassen is I schematisch in Figuur 10 aangegeven. In deze figuur 10 is een vijftal lijnen weergegeven die de gassamenstelling bij t = 0, aan het begin van I 5 de afzetting, bij t = 0,2 na 20% van de afzettijd, t = 0,4 na 40% van de I afzettijd tot t = 1, het einde van de afzettijd vertegenwoordigen.
I Tijdens het afzetten van een laag wordt de gassamenstelling ter plaatse I van het plasma over een groot gedeelte van de substraatbuis constant I gehouden. In een eindgebied wijkt de gassamenstelling ter plaatse van het I 10 plasma af van de rest van de substraatbuis. Deze afwijking van de I gassamenstelling in het eindgebied vindt niet plaats aan het begin van de I afzetting, bij t = 0 of aan het eind van de afzetting bij t = 1. Tussen I deze tijden wordt de gassamenstelling in een eindgebied zo gevarieerd dat I afwijkingen in de alfa-waarde in het eindgebied worden geminimaliseerd.
I 15 Uit de figuren volgt dat de geometrische taper onder I toepassing van de onderhavige werkwijze kan worden verminderd. Daarnaast I is het duidelijk dat voorvormen kunnen worden vervaardigd waarvan de I profielvormparameter ct over een lengte van 100 cm binnen een grens van I ± 0,02 ligt. Daarnaast kan de afwijking in de brekingsindexcontrast I 20 worden verminderd tot een waarde binnen een gebied van ± 1,5% over een I lengte van meer dan 100 cm. De aldus vervaardigde voorvorm is vervolgens I tot een optische vezel met een kerndiameter van ongeveer 62,5 micrometer I en een brekingsindexcontrast van ongeveer 0,02 getrokken waarna optische I vezels met een lengte van ten minste 10 km konden worden vervaardigd 25 waarvan de α-waarde over de totale lengte van de vezel binnen een gebied I van ± 0,01 lag. Dit resultaat geeft aan dat er sprake is van een vrijwel I constante bandbreedte over de gehele lengte van de optische vezel.
I Overeenkomstige resultaten zijn behaald met een voorvorm van het type I gradient!ndex en vezels met een kerndiameter van ongeveer 50 micrometer I 30 en een brekingsindexcontrast van ongeveer 0,01.
I 1023438*

Claims (21)

1. Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, welke I werkwijze de volgende stappen omvat; I 5 i) het verschaffen van een holle substraatbuis, I ii) het door het inwendige van de holle substraatbuis I leiden van al of niet van doteringen voorziene, reactieve glasvormende I gassen, I iii) het in het inwendige van de holle substraatbuis tot I 10 stand brengen van zodanige omstandigheden dat depositie van glaslagen op I het inwendige van de holle substraatbuis optreedt, waarbij een niet- I isotherm plasma tussen twee omkeerpunten heen en weer over de lengte van I de substraatbuis wordt bewogen, waarbij de verplaatsingssnelheid van het I plasma bij elk omkeerpunt tot nul afneemt, I 15 iv) het aan een collapse-handeling onderwerpen van de I aldus verkregen substraatbuis ter vorming van een massieve voorvorm, en I v) het uit de massieve voorvorm trekken van een optische I vezel, met het kenmerk, dat I tijdens stap iii) in een eerste eindgebied grenzend aan een I 20 omkeerpunt de snelheid waarmee het plasma over de lengte van de holle I substraatbuis wordt bewogen zowel als functie van de tijd als van de I positie in het eerste eindgebied wordt veranderd, welke verandering het beginpunt van het eerste eindgebied markeert, waarbij het eindpunt van het eerste eindgebied samenvalt met het omkeerpunt, welk eindgebied een I 25 lengte bezit die voldoende is om taper in de voorvorm te reduceren.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de I snelheid waarmee het plasma in het eerste eindgebied over de lengte van de holle substraatbuis wordt bewogen in het begin van stap iii) overal lager is dan de snelheid waarmee het plasma buiten het eindgebied over de I 30 holle substraatbuis wordt bewogen, en aan het einde van stap iii) waarden I bevat die hoger zijn dan de snelheid waarmee het plasma buiten het eerste eindgebied over de holle substraatbuis wordt bewogen. Η
3. Werkwijze volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de snelheid in het eerste eindgebied lineair in de tijd toeneemt.
4. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande 5 conclusies, met het kenmerk, dat het eerste eindgebied zich bevindt aan het uiteinde van de holle substraatbuis waar de toevoer van reactieve glasvormende gassen volgens stap ii) plaatsvindt.
5. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande H conclusies, met het kenmerk, dat tijdens stap iii) in een tweede 10 eindgebied grenzend aan een omkeerpunt de snelheid waarmee het plasma over de lengte van de holle substraatbuis wordt bewogen zowel als functie van de tijd als van de positie in het tweede eindgebied wordt veranderd, I welke verandering het beginpunt van het tweede eindgebied markeert, I waarbij het eindpunt van het tweede eindgebied samenvalt met het I 15 omkeerpunt, welk tweede eindgebied een lengte bezit die voldoende is om I eindtaper in de voorvorm te reduceren.
6. Werkwijze volgens conclusie 5, met het kenmerk, dat de I snelheid waarmee het plasma in het tweede eindgebied over de lengte van de holle substraatbuis wordt bewogen in het begin van stap iii) overal I 20 lager is dan de snelheid waarmee het plasma buiten het eindgebied over de holle substraatbuis wordt bewogen, en aan het einde van stap iii) verder I is afgenomen.
7. Werkwijze volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat het I tweede eindgebied zich bevindt aan het uiteinde van de holle 25 substraatbuis waar de afvoer van reactieve glasvormende gassen volgens stap ii) plaatsvindt.
8. Werkwijze volgens een of meer van de conclusies 5-7, met I het kenmerk, dat tijdens stap iii) de snelheid in het tweede eindgebied I lineair in de tijd afneemt. I 30
9. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande I conclusies, met het kenmerk, dat het eerste eindgebied een. lengte van * 5-35%, berekend over de totale afstand van de holle substraatbuis tussen beide omkeerpunten, omvat.
10. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat het tweede eindgebied een lengte van 5 1-10%, berekend over de totale afstand van de holle substraatbuis tussen beide omkeerpunten, omvat.
11. Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, welke werkwijze de volgende stappen omvat; i) het verschaffen van een holle substraatbuis, 10 ii) het door het inwendige van de holle substraatbuis leiden van al of niet van dateringen voorziene, reactieve glasvormende gassen, iii) het in het inwendige van de holle substraatbuis tot stand brengen van zodanige omstandigheden dat depositie van glaslagen op 15 het inwendige van de holle substraatbuis optreedt, waarbij een niet-isotherm plasma tussen twee omkeerpunten heen en weer over de lengte van de substraatbuis wordt bewogen, waarbij de verplaatsingssnelheid van het plasma bij elk omkeerpunt tot nul afneemt, iv) het aan een collapse-handeling onderwerpen van de 20 aldus verkregen substraatbuis ter vorming van een massieve voorvorm, en v) het uit de massieve voorvorm trekken van een optische vezel, met het kenmerk, dat tijdens stap iii) het vermogen van het plasma en de snelheid waarmee het plasma over de lengte van de holle substraatbuis 25 tussen beide omkeerpunten nagenoeg constant worden gehouden, waarbij in een eindgebied grenzend aart een omkeerpunt het plasmavermogen als functie van de tijd wordt veranderd, welke verandering het beginpunt van het eindgebied markeert, welk plasmavermogen in het begin van stap iii) lager is dan het plasmavermogen in het gebied bui ten het eindgebied en als 30 functie van de tijd geleidelijk wordt verhoogd naar een plasmavermogen met een waarde die aan het einde van stap iii) hoger is dan het 1023438- I 18 I plasmavermogen in het gebied buiten het eindgebied.
12. Werkwijze volgens conclusie 11, met het kenmerk, dat in het begin van stap iii) het plasmavermogen ten minste 2% lager en aan het I einde van stap iii) ten minste 2% hoger is dan het plasmavermogen in het 5 gebied buiten het eindgebied.
13. Werkwijze volgens conclusies 11-12, met het kenmerk, dat I het eindgebied zich bevindt aan het uiteinde van de holle substraatbuis waar de toevoer van reactieve glasvormende gassen volgens stap ii) I plaatsvindt. I 10
14. Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, welke I werkwijze de volgende stappen omvat; I i) het verschaffen van een holle substraatbuis, I ii) het door het inwendige van de holle substraatbuis I leiden van al of niet van doteringen voorziene, reactieve glasvormende I 15 gassen, I iii) het in het inwendige van de holle substraatbuis tot I stand brengen van zodanige omstandigheden dat depositie van glaslagen op I het inwendige van de holle substraatbuis optreedt, waarbij een niet- I isotherm plasma tussen twee omkeerpunten heen en weer over de lengte van I 20 de substraatbuis wordt bewogen, waarbij de verplaatsingssnelheid van het plasma bij elk omkeerpunt tot nul afneemt, I iv) het aan een collapse-handeling onderwerpen van de I aldus verkregen substraatbuis ter vorming van een massieve voorvorm, en v) het uit de massieve voorvorm trekken van een optische I 25 vezel, met het kenmerk, dat I de toegevoerde hoeveelheid reactieve glasvormende gassen I volgens stap iii) over de lengte van de holle substraatbuis tussen beide omkeerpunten nagenoeg constant wordt gehouden, waarbij in een eindgebied I grenzend aan een omkeerpunt de samenstelling van de reactieve I 30 glasvormende gassen als functie van de tijd wordt veranderd, welke verandering het beginpunt van het eindgebied markeert. I 1023438- >
15. Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, welke werkwijze de volgende stappen omvat; i) het verschaffen van een holle substraatbuis, ii) het door het inwendige van de holle substraatbuis 5 leiden van al of niet van doteringen voorziene, reactieve glasvormende gassen, iii) het in het inwendige van de holle substraatbuis tot stand brengen van zodanige omstandigheden dat depositie van glaslagen op het inwendige van de holle substraatbuis optreedt, waarbij een niet 10 isotherm plasma tussen twee omkeerpunten heen en weer over de lengte van de substraatbuis wordt bewogen, waarbij de verplaatsingssnelheid van het plasma bij elk omkeerpunt tot nul afneemt, iv) het aan een collapse-handeling onderwerpen van de aldus verkregen substraatbuis ter vorming van een massieve voorvorm, en 15 v) het uit de massieve voorvorm trekken van een optische vezel, met het kenmerk, dat de snelheid waarmee het plasma over de lengte van de holle substraatbuis tussen beide omkeerpunten nagenoeg constant wordt gehouden, waarbij in een eindgebied grenzend aan een omkeerpunt de druk in de holle 20 substraatbuis als functie van de tijd wordt veranderd, welke verandering het beginpunt van het eindgebied markeert.
16. Voorvorm ter vervaardiging van een optische vezel, met het kenmerk, dat de afwijking van het brekingsindexcontrast zich binnen een absolute waarde van 2% bevindt, gemeten voor een voorvorm met een lengte 25 van ten minste 60 cm.
17. Voorvorm ter vervaardiging van een optische vezel volgens conclusie 16, met het kenmerk, dat de afwijking van het brekingsindexcontrast zich binnen een absolute waarde van 1,5% bevindt, gemeten voor een voorvorm met een lengte van ten minste 60 cm.
18. Voorvorm ter vervaardiging van een optische vezel, met het kenmerk, dat de profiel parameter ex zich binnen een absolute waarde van 1023438- 0,03 bevindt, gemeten voor een voorvorm met een lengte van ten minste I 80 cm.
19. Voorvorm ter vervaardiging van een optische vezel volgens conclusie 18, met het kenmerk, dat de profiel parameter α zich binnen een 5 absolute waarde van 0,015 bevindt, gemeten voor een voorvorm met een lengte van ten minste 80 cm.
20. Optische vezel, met het kenmerk, dat de afwijking ten opzichte van de gemiddelde waarde van de profielvormparameter α over een I lengte van ten minste 10 km binnen een gebied van ten hoogste ± 0,03 I 10 ligt.
21. Optische vezel volgens conclusie 20, met het kenmerk, dat I de afwijking ten opzichte van de gemiddelde waarde van de I profielvormparameter α binnen een gebied van ten hoogste ± 0,015 voor een I optische vezel met een lengte van ten minste 10 km ligt. I 1023438-
NL1023438A 2003-05-15 2003-05-15 Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, voorvorm en een optische vezel. NL1023438C2 (nl)

Priority Applications (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1023438A NL1023438C2 (nl) 2003-05-15 2003-05-15 Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, voorvorm en een optische vezel.
CN2004800133031A CN1791560B (zh) 2003-05-15 2004-05-13 光纤及预制件和它们的制造方法
BRPI0410244-4A BRPI0410244B1 (pt) 2003-05-15 2004-05-13 mÉtodo para fabricaÇço de uma fibra àptica.
JP2006532117A JP4822125B2 (ja) 2003-05-15 2004-05-13 光ファイバーおよびプリフォームおよびそれらの製造方法
EP04732858A EP1622841B1 (en) 2003-05-15 2004-05-13 Optical fibre and preform and method of their manufacture
PCT/NL2004/000326 WO2004101458A1 (en) 2003-05-15 2004-05-13 Optical fibre and preform and method of their manufacture
KR1020057021710A KR101095428B1 (ko) 2003-05-15 2004-05-13 광섬유와 프리폼 및 그 제조방법
AT04732858T ATE438595T1 (de) 2003-05-15 2004-05-13 Optische faser und vorform sowie verfahren zu deren herstellung
DE602004022401T DE602004022401D1 (de) 2003-05-15 2004-05-13 Optische faser und vorform sowie verfahren zu deren herstellung
US10/846,637 US7068899B2 (en) 2003-05-15 2004-05-17 Method for the production of an optical fibre, preform, and an optical fibre
US11/414,376 US7522800B2 (en) 2003-05-15 2006-05-01 Method for the production of an optical fibre, preform, and an optical fibre

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1023438 2003-05-15
NL1023438A NL1023438C2 (nl) 2003-05-15 2003-05-15 Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, voorvorm en een optische vezel.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL1023438C2 true NL1023438C2 (nl) 2004-11-22

Family

ID=33448522

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1023438A NL1023438C2 (nl) 2003-05-15 2003-05-15 Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, voorvorm en een optische vezel.

Country Status (10)

Country Link
US (2) US7068899B2 (nl)
EP (1) EP1622841B1 (nl)
JP (1) JP4822125B2 (nl)
KR (1) KR101095428B1 (nl)
CN (1) CN1791560B (nl)
AT (1) ATE438595T1 (nl)
BR (1) BRPI0410244B1 (nl)
DE (1) DE602004022401D1 (nl)
NL (1) NL1023438C2 (nl)
WO (1) WO2004101458A1 (nl)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1988064A1 (en) 2007-04-27 2008-11-05 Draka Comteq B.V. A method for manufacturing a preform as well as a method for forming optical fibres such a preform
EP2008979A1 (en) 2007-06-29 2008-12-31 Draka Comteq B.V. A method for manufacturing a preform as well as a method for forming optical fibres from such a preform
EP2008978A1 (en) 2007-06-29 2008-12-31 Draka Comteq B.V. A method for manufacturing a preform for optical fibres by means of a vapour deposition process
EP2743237A1 (en) 2012-12-11 2014-06-18 Draka Comteq B.V. Method for activating an inner surface of a hollow glass substrate tube for the manufacturing of an optical fiber preform.
EP3118172A1 (en) 2015-07-13 2017-01-18 Draka Comteq B.V. Method for activating an inner surface of a substrate tube for the manufacturing of an optical fiber preform

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1023438C2 (nl) 2003-05-15 2004-11-22 Draka Fibre Technology Bv Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, voorvorm en een optische vezel.
US7444955B2 (en) * 2004-05-19 2008-11-04 Sub-One Technology, Inc. Apparatus for directing plasma flow to coat internal passageways
NL1032140C2 (nl) * 2006-07-10 2008-01-15 Draka Comteq Bv Werkwijze voor door middel van een inwendig damp-depositieproces vervaardigen van een optische voorvorm, alsmede een daarmee verkregen voorvorm.
NL1032463C2 (nl) * 2006-09-08 2008-03-11 Draka Comteq Bv Werkwijze voor het vervaardigen van een optische voorvorm.
NL1033763C2 (nl) * 2007-04-26 2008-10-28 Draka Comteq Bv Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen van een optische voorvorm.
NL1033773C2 (nl) 2007-04-27 2008-10-28 Draka Comteq Bv Werkwijze voor de vervaardiging van een voorvorm alsmede daarmee te verkrijgen optische vezel.
US7848604B2 (en) 2007-08-31 2010-12-07 Tensolite, Llc Fiber-optic cable and method of manufacture
US8857372B2 (en) * 2007-12-10 2014-10-14 Ofs Fitel, Llc Method of fabricating optical fiber using an isothermal, low pressure plasma deposition technique
NL1036343C2 (nl) * 2008-12-19 2010-06-22 Draka Comteq Bv Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een optische voorvorm.
NL2004544C2 (nl) 2010-04-13 2011-10-17 Draka Comteq Bv Inwendig dampdepositieproces.
NL2004546C2 (nl) 2010-04-13 2011-10-17 Draka Comteq Bv Inwendig dampdepositieproces.
NL2004874C2 (nl) 2010-06-11 2011-12-19 Draka Comteq Bv Werkwijze voor het vervaardigen van een primaire voorvorm.
EP2418523B1 (en) 2010-08-12 2016-10-05 Draka Comteq B.V. Depressed graded index multi-mode optical fiber
US9052486B2 (en) 2010-10-21 2015-06-09 Carlisle Interconnect Technologies, Inc. Fiber optic cable and method of manufacture
NL2006472C2 (en) 2011-03-25 2012-09-26 Draka Comteq Bv Method of manufacturing an optical fibre, preform and optical fibre.
NL2007447C2 (nl) 2011-09-20 2013-03-21 Draka Comteq Bv Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezel.
NL2007448C2 (nl) * 2011-09-20 2013-03-21 Draka Comteq Bv Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezels.
NL2007831C2 (en) * 2011-11-21 2013-05-23 Draka Comteq Bv Apparatus and method for carrying out a pcvd deposition process.
DE102012106478B4 (de) * 2012-07-18 2015-03-05 J-Fiber Gmbh Verfahren zur Fertigung einer Preform für eine Gradientenindex-Multimodefaser unter Anwendung einer Innenwand-Rohrabscheidung
US8837888B1 (en) * 2013-08-02 2014-09-16 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Multimode optical fiber including a core and a cladding
CN111517634B (zh) * 2020-04-13 2021-05-07 烽火通信科技股份有限公司 一种提高pcvd原料气体沉积均匀性的系统、方法和应用
NL2031450B1 (en) 2022-03-30 2023-10-24 Draka Comteq Bv A PCVD deposition process for manufacturing a primary preform as well as a method for forming optical fibres from such a preform

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0038982A2 (en) * 1980-04-25 1981-11-04 Western Electric Company, Incorporated Optical fiber fabrication
GB2118165A (en) * 1982-04-12 1983-10-26 Western Electric Co Improved manufacture of optical fibers
EP0209945A1 (de) * 1985-07-20 1987-01-28 Philips Patentverwaltung GmbH Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasern
US4741747A (en) * 1984-12-12 1988-05-03 U.S. Philips Corporation Method of fabricating optical fibers
US4857091A (en) * 1986-10-15 1989-08-15 U.S. Philips Corp. Method of manufacturing optical fibers
EP0333580A1 (fr) * 1988-03-16 1989-09-20 ETAT FRANCAIS représenté par le Ministre des Postes, Télécommunications et de l'Espace Dispositif de fabrication de préformes pour fibres optiques
WO2003054245A1 (en) * 2001-12-19 2003-07-03 Corning Incorporated Device for producing pcvd coated glass tubes for the drawing of optical fibers

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5188648A (en) * 1985-07-20 1993-02-23 U.S. Philips Corp. Method of manufacturing optical fibres
DE3720030A1 (de) * 1987-06-16 1988-12-29 Philips Patentverwaltung Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern
EP0656325B1 (en) * 1993-11-29 1999-09-22 AT&T Corp. Method for making optical fiber preforms
JP3937665B2 (ja) * 1999-11-01 2007-06-27 住友電気工業株式会社 光ファイバ製造方法
JP3746427B2 (ja) * 2000-01-14 2006-02-15 三星電子株式会社 分散制御光ファイバ母材及びｍｃｖｄ法を利用した分散制御光ファイバ母材製造方法
US6532773B1 (en) * 2000-06-30 2003-03-18 Fitel Usa Corp. Method of modifying the index profile of an optical fiber preform in the longitudinal direction
NL1023438C2 (nl) 2003-05-15 2004-11-22 Draka Fibre Technology Bv Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, voorvorm en een optische vezel.

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0038982A2 (en) * 1980-04-25 1981-11-04 Western Electric Company, Incorporated Optical fiber fabrication
GB2118165A (en) * 1982-04-12 1983-10-26 Western Electric Co Improved manufacture of optical fibers
US4741747A (en) * 1984-12-12 1988-05-03 U.S. Philips Corporation Method of fabricating optical fibers
EP0209945A1 (de) * 1985-07-20 1987-01-28 Philips Patentverwaltung GmbH Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasern
US4857091A (en) * 1986-10-15 1989-08-15 U.S. Philips Corp. Method of manufacturing optical fibers
EP0333580A1 (fr) * 1988-03-16 1989-09-20 ETAT FRANCAIS représenté par le Ministre des Postes, Télécommunications et de l'Espace Dispositif de fabrication de préformes pour fibres optiques
WO2003054245A1 (en) * 2001-12-19 2003-07-03 Corning Incorporated Device for producing pcvd coated glass tubes for the drawing of optical fibers

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
HÜNLICH TH ET AL: "Fiber-Preform Fabrication Using Plasma Technology: A Review", JOURNAL OF OPTICAL COMMUNICATIONS, vol. 8, no. 4, December 1987 (1987-12-01), FACHVERLAG SCHIELE & SCHON, BERLIN, DE, pages 122 - 129, XP002267374, ISSN: 0173-4911 *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1988064A1 (en) 2007-04-27 2008-11-05 Draka Comteq B.V. A method for manufacturing a preform as well as a method for forming optical fibres such a preform
EP2008979A1 (en) 2007-06-29 2008-12-31 Draka Comteq B.V. A method for manufacturing a preform as well as a method for forming optical fibres from such a preform
EP2008978A1 (en) 2007-06-29 2008-12-31 Draka Comteq B.V. A method for manufacturing a preform for optical fibres by means of a vapour deposition process
EP2743237A1 (en) 2012-12-11 2014-06-18 Draka Comteq B.V. Method for activating an inner surface of a hollow glass substrate tube for the manufacturing of an optical fiber preform.
EP3118172A1 (en) 2015-07-13 2017-01-18 Draka Comteq B.V. Method for activating an inner surface of a substrate tube for the manufacturing of an optical fiber preform
US9831068B2 (en) 2015-07-13 2017-11-28 Draka Comteq, B.V. Method for activating an inner surface of a substrate tube for the manufacturing of an optical-fiber preform

Also Published As

Publication number Publication date
US20060193581A1 (en) 2006-08-31
KR101095428B1 (ko) 2011-12-16
CN1791560B (zh) 2010-10-13
US7522800B2 (en) 2009-04-21
US20050041943A1 (en) 2005-02-24
EP1622841A1 (en) 2006-02-08
US7068899B2 (en) 2006-06-27
KR20060015251A (ko) 2006-02-16
JP4822125B2 (ja) 2011-11-24
CN1791560A (zh) 2006-06-21
BRPI0410244A (pt) 2006-05-16
JP2007504092A (ja) 2007-03-01
WO2004101458A1 (en) 2004-11-25
DE602004022401D1 (de) 2009-09-17
EP1622841B1 (en) 2009-08-05
ATE438595T1 (de) 2009-08-15
BRPI0410244B1 (pt) 2013-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1023438C2 (nl) Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, voorvorm en een optische vezel.
NL1036343C2 (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een optische voorvorm.
NL1032140C2 (nl) Werkwijze voor door middel van een inwendig damp-depositieproces vervaardigen van een optische voorvorm, alsmede een daarmee verkregen voorvorm.
EP1612192B1 (en) Methods for optical fiber manufacture
WO1998025861A1 (en) Method of making optical fiber preform by chemical vapour deposition
NL1034058C2 (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een voorvorm alsmede werkwijze voor het uit een dergelijke voorvorm vervaardigen van optische vezels.
NL1037163C2 (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een primaire voorvorm voor optische vezels.
NL1033769C2 (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een voorvorm alsmede werkwijze voor het uit een dergelijke voorvorm vervaardigen van optische vezels.
NL1019004C2 (nl) Multimodevezel voorzien van een brekingsindexprofiel.
NL1037164C2 (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een primaire voorvorm voor optische vezels.
NL1033773C2 (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een voorvorm alsmede daarmee te verkrijgen optische vezel.
NL2007447C2 (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezel.
JP2001066439A (ja) 分散制御光ファイバ及びその大口径母材の製造方法
NL2007448C2 (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezels.
EP2502887B1 (en) Method of manufacturing a preform and an optical fibre
NL2004544C2 (nl) Inwendig dampdepositieproces.
NL2010724C2 (en) A pcvd method for manufacturing a primary preform for optical fibers.
JP4056778B2 (ja) 光ファイバ母材の製造方法
EP2947055B1 (en) A method for manufacturing an optical preform
NL2006688C2 (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een primaire voorvorm voor optische vezels.
KR100666254B1 (ko) 기가비트급 전송시스템용 다중모드 광섬유의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
PD2B A search report has been drawn up
MM Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20200601