NL1020358C2 - Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, alsmede de daarmee verkregen optische vezels. - Google Patents

Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, alsmede de daarmee verkregen optische vezels. Download PDF

Info

Publication number
NL1020358C2
NL1020358C2 NL1020358A NL1020358A NL1020358C2 NL 1020358 C2 NL1020358 C2 NL 1020358C2 NL 1020358 A NL1020358 A NL 1020358A NL 1020358 A NL1020358 A NL 1020358A NL 1020358 C2 NL1020358 C2 NL 1020358C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
substrate tube
tube
protective tube
plasma
hollow substrate
Prior art date
Application number
NL1020358A
Other languages
English (en)
Inventor
Pieter Matthijsse
Mattheus Jacobus Nicol Stralen
Marinus Jacob De Fouw
Henrikus Lambertus Mari Jansen
Antonius Cornelis Johan Vetter
Original Assignee
Draka Fibre Technology Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Draka Fibre Technology Bv filed Critical Draka Fibre Technology Bv
Priority to NL1020358A priority Critical patent/NL1020358C2/nl
Priority to DE60331136T priority patent/DE60331136D1/de
Priority to CNB038133652A priority patent/CN1303023C/zh
Priority to EP03725865A priority patent/EP1492735B1/en
Priority to PCT/NL2003/000261 priority patent/WO2003086998A1/en
Priority to AT03725865T priority patent/ATE456543T1/de
Priority to AU2003228129A priority patent/AU2003228129A1/en
Priority to US10/509,684 priority patent/US7734135B2/en
Application granted granted Critical
Publication of NL1020358C2 publication Critical patent/NL1020358C2/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00—Fibre or filament compositions
    • C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
    • C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
    • C03B37/01869—Collapsing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01876—Means for heating tubes or rods during or immediately prior to deposition, e.g. electric resistance heaters
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2443—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube
    • H05H1/2465—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube the plasma being activated by inductive coupling, e.g. using coiled electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2443—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube
    • H05H1/246—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube the plasma being activated using external electrodes

Description

Korte aanduiding: Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, alsmede de daarmee verkregen optische vezels.
5 De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, waarbij op het inwendig oppervlak van een holle substraatbuis door middel van depositie een of meer glaslagen, al of niet van doteringen voorzien, worden afgezet, welke depositie tot stand wordt gebracht door het aan het 10 inwendige van de holle substraatbuis toevoeren van een of meer reactieve gasmengsels van glasvormende verbindingen en het vervolgens in de holle substraatbuis creëren van een niet-isotherm plasma, waarna de holle substraatbuis of voorvorm, die op het inwendig oppervlak hiervan is voorzien van een aantal door depositie verkregen glaslagen, aan een 15 contractieproces wordt onderworpen ter vorming van een massieve staaf waaruit optische vezels worden getrokken. Verder heeft de onderhavige uitvinding betrekking op optische vezels die onder toepassing van een dergelijke werkwijze en inrichting worden verkregen.
Uit het Amerikaans octrooi schrift 4.746.345 is een methode 20 ter vervaardiging van vaste, uit kwartsglas samengestelde voorvormen uit holle substraatbuizen bekend waarbij een plasmabrander, bestaande uit twee kwartsbuizen en een spoel, over de lengte van een holle substraatbuis heen en weer wordt bewogen. Het plasma wordt ontstoken en gehandhaafd in de gasatmosfeer die de te contraheren substraatbuis 25 omringt waarbij de afmeting van de plasmabrander wezenlijk geringer is dan de lengte van de substraatbuis.
Uit het Amerikaans octrooischrift 5.203.691 is een brander bekend die wordt toegepast voor het contraheren van holle substraatbuizen tot vaste massieve voorvormen, waarbij echter geen sprake is van plasma-30 omstandigheden.
Een werkwijze ter vervaardiging van optische vezels is op : ?ü 3 5 8 2 zich bekend uit de Amerikaanse octrooischriften 4.314.833, 4.844.007 en Re. 30.635. De volgens een dergelijke methode vervaardigde optische vezels kunnen uit een kern van gedoteerd si1iciumdioxideglas en een mantel van niet-gedoteerd si 1iciumdioxideglas bestaan. Anderzijds kan de 5 vezel uit een kern van al of niet gedoteerd sil ici umdi oxi degl as, een eerste mantellaag van gedoteerd si 1i ci umdi oxi deglas en een uitwendige mantellaag van niet-gedoteerd sil iciumdioxideglas bestaan. Het doteermiddel, afhankelijk van het type hiervan, kan de brekingsindexwaarde van siliciumidioxide verhogen of verlagen. 10 Doteermiddel en zoals Ge02, P205, Al 203 en Ti02 zullen de brekingsindexwaarde doen toenemen, terwijl doteermiddelen zoals B203, of F de brekingsindexwaarde zullen verlagen. In een optische vezel bevat het kerndeel lagen met brekingsindexwaarden hoger dan de glaslaag die het kerndeel omringt. Er kan sprake zijn van een stapsgewijze toename of een 15 parabolische toename van de brekingsindexwaarde van de kern.
In de hiervoor genoemde Amerikaanse octrooischriften wordt de voorvorm, waaruit de optische vezel in een trektoren wordt getrokken, in een tweetal afzonderlijke stappen tot stand gebracht, namelijk a) het op de binnenzijde van de holle voorvorm of substraatbuis afzetten van een 20 aantal, al of niet van doteermiddel voorziene dunne kwartslagen, gevolgd door b) het contractie- of collapsproces, waarbij de eerder verkregen holle substraatbuis met de daarin op het inwendige, afgezette kwartslagen door een sterke, in de longitudinale richting verplaatsende verhitting wordt omgezet in de uiteindelijke massieve voorvorm. Volgens het aldus 25 bekende PCVD-proces wordt de afzetting van de al of niet van doteermiddel voorziene kwartslagen aan het inwendige van de holle substraatbuis tot stand gebracht door het opwekken van een plasma in een reactief gasmengsel dat zich binnen de substraatbuis bevindt. Dit reactieve gasmengsel wordt onder toepassing van een regelsysteem op de gewenste 30 chemische samenstelling en de gewenste lage druk gehandhaafd, waarbij het plasma wordt opgewekt door microgolfstralen waarvan de energie vanuit een A 203 58 3 resonator, die zich buiten de substraatbuis bevindt, in het geïoniseerde reactieve gasmengsel in een substraatbuis wordt gekoppeld. Door het in de longitudinale richting ten opzichte van de holle substraatbuis verplaatsen van de resonator ontstaat een zogenaamde cirkel symmetrische 5 afzetting van glaslagen die nagenoeg uniform in de lengterichting van de holle substraatbuis is. Om een dergelijk deposit!eproces optimaal te laten plaatsvinden wordt de holle substraatbuis op een temperatuur van ongeveer 1200 °C gehandhaafd door het geheel van substraatbuis en bewegende resonator in een beweegbare oven te plaatsen, waarbij voor een 10 goede functionering de resonator is voorzien van een isolerende omhulling waarbij de resonator tevens wordt gekoeld. Nadat het hiervoor beschreven depositieproces is voltooid, wordt volgens gebruikelijke wijze de substraatbuis met de op het inwendige daarvan afgezette glaslagen handmatig uit de PCVD-bank genomen en aansluitend in een contractie-15 opstelling gemonteerd. Voor het contract!eproces wordt gebruikelijk een waterstof-zuurstofbrander of een elektrische oven toegepast waarbij de holle substraatbuis in een aantal slagen wordt omgezet in de gewenste massieve voorvorm. Een aldus verkregen massieve staaf, ofwel voorvorm genoemd, eventueel voorzien van extra glas aan de buitenzijde daarvan 20 wordt in een trektoren gemonteerd en tot een optische vezel getrokken.
Het hiervoor genoemde proces van voorvormfabri cage is aldus te beschouwen als een methode waarin twee afzonderlijke processtappen zijn te onderscheiden, die elk in een afzonderlijke installatie worden uitgevoerd. Een belangrijk nadeel is dat ten gevolge van de bij het 25 overzetten optredende afkoeling van de substraatbuis de interne spanning in de in het inwendige van de substraatbuis afgezette lagen zodanig zal toenemen dat er sprake is van een zogenaamde "lagensprong" waardoor de substraatbuis ongeschikt wordt voor een verdere verwerking in de trektoren. Een dergelijke "lagensprong" leidt ertoe dat verlies van de 30 voorvorm ontstaat, welk fenomeen met name optreedt wanneer voorvormen worden vervaardigd die de beschikking hebben over een groot 10 203 5 8 4 brekingsindexcontract of grote verschillen in de thermische uitzettingscoëfficiënten van de afgezette lagen, ten gevolge van de toepassing van een of meer typen doteermiddelen. Een dergelijk verschijnsel doet zich met name voor bij het vervaardigen van bepaalde 5 typen multimodevezels, vezels voor sensortoepassingen, fotogevoelige vezels, vezels ten behoeve van dispersie composerende modules, vezels met bijzondere doteringen voor versterkende eigenschappen, en dergelijke. Bij het ontwerpen van dergelijke vezels is het gewenst hogere brekingsindex-contrasten, hogere hoeveelheid doteringen en/of andere doteringen toe te 10 passen. Echter, de op dit moment in de handel verkrijgbare productietechnieken laten het vervaardigen van vezels met een maximaal brekingsindexcontrast van ongeveer 2% toe, waarbij veelal sprake is van zogenaamde graded index vezels. Het is derhalve gewenst optische vezels te vervaardigen waarin bepaalde lagen een brekingsindexcontrast bezitten 15 groter dan de volgens de stand van de techniek bekende waarde, in het bijzonder groter dan 2,5%.
Indien men gebruik wil maken van doteringsmaterialen in een bepaalde laag van een optische vezel, waarvan de structuur sterk afwijkend is van de ongedoteerde kwartsstructuur, zal dit leiden tot 20 grote verschillen in de thermische uitzettingscoëfficiënt. Volgens de bekende stand van de techniek wordt gedacht dat men optische vezels kan vervaardigen waarvan de thermische uitzettingscoëfficiënt van de verschillende naast elkaar liggende lagen een maximaal verschil ten opzichte van elkaar van 3,2xl0'6 K'1 kan hebben. Indien men daarentegen 25 bijzondere doteringen zou willen toepassen, is het aldus gewenst dat optische vezels kunnen worden vervaardigd waarin de thermische uitzettingscoëfficiënten van de in de optische vezel naast elkaar liggende lagen meer dan de hiervoor genoemde waarde, in het bijzonder meer dan 3,4 χ 10'6 K'1, van elkaar zou kunnen verschillen.
30 Het moet duidelijk zijn dat indien zich in de substraatbuis lagen met grote verschillen in de thermische uitzettingscoëffiënt ' 203 59 5 bevinden, deze lagen bij het afkoelen een verschil in spanning kunnen veroorzaken, welke spanning kan leiden tot het optreden van breuklijnen in de diverse lagen, en in het ergste geval, tot de breuk van de volledige voorvorm. In de praktijk is bovendien gebleken dat de hiervoor 5 genoemde afzonderlijke processtappen tot nadelen kunnen leiden, in het bijzonder bij het demonteren van de substraatbuis in de PCVD-bank en het vervolgens monteren van de substraatbuis in de contract!ebank, welke handeling mogelijk tot een vervuiling van het inwendig oppervlak van de substraatbuis zal leiden.
10 Een aspect van de onderhavige uitvinding is aldus het verschaffen van een werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen waarbij de hiervoor genoemde problemen volgens de stand van de techniek zich niet voordoen.
Een ander aspect van de onderhavige uitvinding is het 15 verschaffen van een werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, welke optische voorvormen zodanig zijn samengesteld dat hieruit optische vezels kunnen worden getrokken die over een groot brekingsindexcontrast beschikken.
Een ander aspect van de onderhavige uitvinding is het 20 verschaffen van een werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, waarbij uit de optische voorvormen optische vezels kunnen worden getrokken, welke optische vezels zijn samengesteld uit een of meer lagen met grote verschillen in de thermische expansiecoëfficiënt.
Nog een ander aspect van de onderhavige uitvinding is het 25 verschaffen van een werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen waarbij zowel het contractie- als het deposit!eproces onder toepassing van een niet-isotherm plasma wordt uitgevoerd.
Een aanvullende doelstelling van de onderhavige uitvinding is het verschaffen van een werkwijze en inrichting ter vervaardiging van 30 optische voorvormen, waarbij zowel het depositie- als het contract!eproces in één en dezelfde inrichting wordt uitgevoerd, te :/035® 6 weten, een geïntegreerde PCVD/collapsemachine.
De uitvinding zoals vermeld in de aanhef wordt gekenmerkt doordat het contraheren de volgende stappen omvat: i) het verschaffen van een holle substraatbuis die is 5 omgeven met een beschermbuis, welke beschermbuis stationair is gepositioneerd ten opzichte van de holle substraatbuis, waarbij de holle substraatbuis over nagenoeg de gehele lengte hiervan is omgeven met de beschermbui s.
ii) het verschaffen van een resonator die de beschembuis 10 omringt, iii) het aan de annul ai re ruimte, gevormd tussen de buitenomtrek van de holle substraatbuis en de binnenomtrek van de beschermbuis, toevoeren van een plasmavormend gas, iv) het in de annul ai re ruimte tot stand brengen van een 15 niet-isotherm plasma, v) het in de longitudinale richting ten opzichte van de beschermbuis heen en weer bewegen van de resonator om de holle voorvorm te contraheren tot een massieve staaf en aansluitend gecontroleerd afkoel en hiervan.
20 Door de toepassing van een beschermbuis zoals omschreven in stap i) is het mogelijk dat voor het contractieproces gebruik wordt gemaakt van dezelfde microgolfenergiebron als toegepast bij het depositieproces. Aldus wordt voor de contractie een plasma gegenereerd in de annul ai re ruimte, gevormd tussen de buitenomtrek van de holle 25 substraatbuis en de binnenomtrek van de beschermbuis, welk plasma zodanig wordt gegenereerd dat de ingekoppelde microgolfenergie relatief hoog is en de resonatorsnelheid laag. Bovendien is door de bijzondere constructie van de beschermbuis en substraatbuis, waarbij met name de substraatbuis over vrijwel de gehele lengte is omgeven met de beschermbuis, een 30 reproduceerbare en controleerbare contractie van de substraatbuis mogelijk. In de onderhavige beschrijvingsinleiding wordt steeds gesproken 10 20358 7 van holle substraatbuis of voorvorm. Deze twee termen zijn in feite synoniemen voor de deskundigen op dit gebied en uit de context zal blijken of er al of niet sprake is van reeds afgezette lagen op het inwendig oppervlak hiervan.
5 In een bijzondere uitvoeringsvorm is het gewenst dat tijdens het depositieproces in de annulaire ruimte, gevormd tussen de buitenomtrek van de holle substraatbuis en de binnenomtrek van de beschermbuis, een gas met hoge temperatuur wordt geleid. Aldus is het mogelijk dat de buitenwand van de substraatbuis dezelfde temperatuur 10 verkrijgt als bij de toepassing van een externe oven.
In een bijzondere uitvoeringsvorm is het daarentegen mogelijk dat het onderhavige contractieproces zodanig wordt uitgevoerd dat een eerste contractiestap plaatsvindt onder gebruikmaking van hetzelfde plasma waarmee het depositieproces is uitgevoerd. Volgens een 15 dergelijke uitvoeringsvorm is het mogelijk dat de oorspronkelijke verschillen in diameter tussen de buitenomtrek van de substraatbuis en de buitenomtrek van de beschermbuis aanzienlijk kleiner kunnen worden gekozen. Daarnaast zijn in een dergelijke uitvoeringsvorm de omstandigheden waaronder het ringvormig plasma in de annulaire ruimte 20 dient te worden opgewekt, aanzienlijk gunstiger dan in de situatie waar sprake is van een groot verschil in diameter.
Het verdient met name de voorkeur dat de holle substraatbuis en de beschermbuis gedurende de stappen i)-iv) in een horizontale positie worden gehouden, waarbij in het bijzonder gedurende 25 stap v) de holle substraatbuis wordt geroteerd.
Om een uniforme contractie van de substraatbuis te verkrijgen verdient het de voorkeur dat tijdens stap v) het plasma wordt aangepast ten gevolge van het toegenomen volume van de annulaire ruimte.
Als een geschikt plasmavormend gas, zoals toegepast in stap 30 iü), wordt bij voorkeur een mengsel van argon en zuurstof toegepast, waarbij met name de druk tijdens het contractieproces < 50 mbar, in het 020358 8 bijzonder 10-25 mbar bedraagt.
Het moet duidelijk zijn dat in stap v) de contractie tot een volledig massieve staaf vroegtijdig kan worden beëindigd, welke contractie, zoals hiervoor uitvoerig beschreven, kan zijn uitgevoerd 5 onder toepassing van het bij het depositieproces toegepaste plasma en/of het in de annulaire ruimte tot stand gebrachte plasma. Een dergelijke vroegtijdige beëindiging kan gewenst zijn voor speciale producten, of door de sluiting van de voorvorm te laten plaatsvinden in de smeltzone van de trektoren.
10 Om te voorkomen dat reeds tijdens stap v) de beschermbuis, die de holle substraatbuis omringt, begint te verweken, verdient het de voorkeur dat de beschermbuis is vervaardigd uit een keramisch materiaal dat een hogere verwekingstemperatuur bezit dan de te contraheren holle substraatbuis.
15 In een bijzondere uitvoeringsvorm, waarbij het gewenst is dat de beschermbuis een aantal malen voor het uitvoeren van stappen i)-v) kan worden toegepast, verdient het de voorkeur dat, ter voorkoming van een vroegtijdige contractie van de beschermbuis, de beschermbuis is voorzien van koelmiddelen, bijvoorbeeld door het aanbrengen van holle 20 kanalen in de buitenwand van de beschermbuis.
In een bijzondere uitvoeringsvorm is het gewenst dat de in stap i) toegepaste beschermbuis tevens dient als mantel buis voor de massieve voorvorm, hetgeen betekent dat het contractieproces aanvullend een stap vi) omvat, welke stap vi) het in de longitudinale richting ten 25 opzichte van de beschermbuis heen en weer bewegen van de resonator om de beschermbuis te contraheren en het aansluitend gecontroleerd afkoel en hiervan, omvat. In een dergelijke uitvoeringsvorm is de beschermbuis als mantel buis voor de massieve voorvorm te beschouwen waarna het geheel als complete voorvorm in de trektoren wordt gemonteerd ter vervaardiging van 30 optische vezels.
In het bijzonder wordt zowel het depositieproces als het ! U £ t; i b 8 9 contractieproces in dezelfde inrichting uitgevoerd, waarbij de constructie van het roterend doorvoeren zodanig is uitgevoerd dat het demonteren van de uiteindelijk verkregen massieve voorvorm en de beschermbuis eenvoudig kan plaatsvinden. Om een dergelijke constructie 5 tot stand te brengen zijn klemmen, die de beschermbuis en het uiteinde van de substraatbuis ondersteunen, van een open constructie voorzien.
Het moet duidelijk zijn dat het in stap iii) toegepaste gas een of meer glasvormende verbindingen kan omvatten zodat een aanvullende depositie plaatsvindt op de binnen- en/of buitenomtrek van de holle 10 beschermbuis.
Onder toepassing van de onderhavige werkwijze is het aldus mogelijk optische voorvormen te vervaardigen die over een groot brekingsindexcontrast of over een groot verschil in thermisch uitzettingscoëfficiënt van de verschillende, op het inwendige van de 15 holle substraatbuis afgezette lagen beschikken.
De onderhavige uitvinding heeft aldus verder betrekking op een optische vezel gekenmerkt doordat het brekingsindexcontrast, 20 Ai=!iz!i.mo/o 2-nf waarbij: Δ1 = brekingsindexcontrast van bepaalde laag i, 25 ni = brekingsindex van laag i, ncl = brekingsindex van cladding, dat is de buitenste laag van de vezel een waarde bezit waarvoor geldt: Aj > 2,5%, in het bijzonder > 3%.
30 De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een optische vezel gekenmerkt doordat de thermische uitzettingscoëfficiënt 10
1 Al Γΐ/·-ίτ a =---[Κ J
/ο ΔΓ gemeten bij een temperatuur van 25-300 'C, waarin geldt: 5 1 = lengte bij Tj 10 = lengte bij T0 ΔΤ = (TrT0) Δ1 = (1-10) een waarde bezit waarvoor geldt a > 3,4.10-6 K'1, in het 10 bijzonder a > 4,0.10-6 K"1.
De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een inrichting voor het uitvoeren van de hiervoor beschreven werkwijze, zoals omschreven in de onafhankelijke inrichtingsconclusie.
De onderhavige uitvinding zal hierna worden toegelicht aan 15 de hand van een voorbeeld en een figuur, waarbij echter moet worden opgemerkt dat de onderhavige uitvinding in geen geval tot een dergelijk bijzonder voorbeeld en figuur is beperkt.
In de bijgevoegde figuur is schematisch de positie van de beschermbuis en de substraatbuis volgens de onderhavige uitvinding 20 weergegeven.
Voorbeeld.
De in de figuur weergegeven constructie 1 omvat de situatie waarin reeds depositie van glaslagen op het inwendig oppervlak van substraatbuis 3 heeft plaatsgevonden, welke lagen met verwijzingscijfer 6 25 zijn aangeduid. De substraatbuis 3 of voorvorm 3 is omgeven door een beschermbuis 4, welke beschermbuis 4 is omringd door een orgaan 2 voor het opwekken van plasma, in het bijzonder een resonator die over de lengte van de beschermbuis 4 verplaatsbaar is. Ten gevolge van het plasma ontwikkeld in de annul ai re ruimte, gevormd tussen de buitenomtrek van de 30 voorvorm 3 en de binnenomtrek van de beschermbuis 4, zoals weergegeven met verwi jzingsci jfer 5, treedt contractie van de voorvorm 3 op ter to ?03s8 11 verkrijging van een al of niet massieve staaf.
De onderhavige uitvinding is toegepast bij het ontwerp van een voorvorm met een dotering van A (Ge02). Het maximale indexcontrast hiervan ten gevolge van deze dotering bedraagt meer dan 2,5% en het 5 verschil in thermische uitzettingscoëfficiënt tussen deze laag en de cladding bedraagt meer dan 3,4.10‘6 K'1. De onderhavige uitvinding is tevens toegepast bij het ontwerp van een voorvorm met een dotering A zoals hiervoor omschreven, en een codotering van stof B. Het verschil in thermische uitzettingscoëfficiënt tussen deze laag en de cladding 10 bedraagt in dit geval meer dan 4.10'6 K'1.
Als beschermbuis is een buis met een buitendiameter van 34 mm en een wanddikte van 4 mm toegepast. De toegepaste substraatbuis heeft een buitendiameter van 22 mm en een wanddikte van 2 mm. Bij een afzettingsdikte van in totaal 1 mm resulteert na contractie een massieve 15 staaf van 14,6 mm bij een substraatbuis-afstookverlies tijdens contractie van circa 10%. Na montage van een aparte mantel buis met een doorsnede oppervlak van 300 mm2 resulteert de voorvorm waaruit de gewenste optische vezel kan worden getrokken. Bij een diameter van 125 μπι resulteert de gewenste kerndiameter van 7 μπι, indien tijdens het PCVD proces 0,029 mm 20 van de laatste afgezette lagen als kernmateriaal zijn afgezet. De diameter van de totale afzetting bedraagt in de vezel 48,5 μιη. Bij een nuttig voorvormlengte van 40 cm kan uit deze voorvorm circa 15 km vezel worden geproduceerd. 1 ' 0 20358

Claims (20)

1. Werkwijze ter vervaardiging van optische voorvormen, waarbij op het inwendig oppervlak van een holle substraatbuis door middel 5 van depositie een of meer glaslagen, al of niet van doteringen voorzien, worden afgezet, welke depositie tot stand wordt gebracht door het aan het inwendige van de holle substraatbuis toevoeren van een of meer reactieve gasmengsels van glasvormende verbindingen en het vervolgens in de holle substraatbuis creëren van een niet-isotherm plasma, waarna de door middel 10 van depositie van glaslagen voorziene substraatbuis aan een contract!eproces wordt onderworpen ter vorming van een massieve staaf waaruit optische vezels worden getrokken, met het kenmerk, dat het contraheren de volgende stappen omvat: i) het verschaffen van een holle substraatbuis die over 15 vrijwel de gehele lengte hiervan is omgeven met een beschermbuis, welke beschermbuis stationair is gepositioneerd ten opzichte van de substraatbuis, ii) het verschaffen van een resonator die de beschermbuis omringt, 20 iii) het aan de annul ai re ruimte, gevormd tussen de buitenomtrek van de holle substraatbuis en de binnenomtrek van de beschermbuis, toevoeren van een plasmavormend gas, iv) het in de annulaire ruimte tot stand brengen van een niet-isotherm plasma, 25 v) het in de longitudinale richting ten opzichte van de beschermbuis heen en weer bewegen van de resonator om de holle voorvorm te contraheren tot een massieve staaf.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de holle substraatbuis en de beschermbuis gedurende de stappen i)-iv) in een 30 horizontale positie worden gehouden.
3. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande 9 0 ^ conclusies, met het kenmerk, dat gedurende stap v) de holle substraatbuis wordt geroteerd, en aansluitend gecontroleerd wordt afgekoeld.
4. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat tijdens stap v) het plasma wordt 5 aangepast ten gevolge van het toegenomen volume van de annulaire ruimte.
5. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat als plasmavormend gas een mengsel van argon en zuurstof wordt toegepast.
6. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande 10 conclusies, met het kenmerk, dat tijdens het contract!eproces de druk < 50 mbar, in het bijzonder 10-25 mbar bedraagt.
7. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat tijdens het deposit!eproces in de annulaire ruimte een gas met hoge temperatuur wordt geleid.
8. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat de beschermbuis is vervaardigd uit een keramisch materiaal dat een hogere verwekingstemperatuur bezit dan de te contraheren holle substraatbuis.
9. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande 20 conclusies, met het kenmerk, dat het contract!eproces aanvullend stap vi) omvat, welke stap vi) het in de longitudinale richting ten opzichte van de beschermbuis heen en weer bewegen van de resonator om de beschermbuis te contraheren, omvat.
10. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande 25 conclusies, met het kenmerk, dat de beschermbuis is voorzien van koelmiddelen.
11. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat het deposit!eproces en het contract!eproces in dezelfde inrichting worden uitgevoerd.
12. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat het uitvoeren van het contractieproces ·. J i.'u3 58 aansluitend aan het depositieproces plaatsvindt.
13. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat aan het in stap iii) toegepaste gas een of meer glasvormende verbindingen worden toegevoegd.
14. Werkwijze volgens een of meer van de voroafgaande conclusies, met het kenmerk, dat in stap v) de contractie tot een volledig massieve staaf vroegtijdig wordt beëindigd, welke contractie kan zijn uitgevoerd onder toepassing van het bij het depositieproces toegepaste plasma en/of het in de annul ai re ruimte tot stand gebrachte 10 plasma.
15. Optische vezel, gekenmerkt doordat het brekingsindexcontrast 15 Δ, =^-^--100% ' 2 rif waarbij: Aj = brekingsindexcontrast van bepaalde laag i, 20 ni = brekingsindex van laag i, ncl = brekingsindex van cladding, dat is de buitenste laag van de vezel een waarde bezit waarvoor geldt: Δ! > 2,5%.
16. Optische vezel volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat 25 geldt: Δ, > 3%.
17. Optische vezel, gekenmerkt doordat de thermische ui tzetti ngscoëffi ci ënt a = —~ [IC'] 30 '· ΔΓ 'ίΰ 20358 r gemeten bij een temperatuur van 25-300 'C, waarin geldt: 1. lengte bij 10. lengte bij T0 ΔΤ = (TrTe) 5 Δ1 = (1-10) een waarde bezit waarvoor geldt a > 3,4.10"6 K"1.
18. Optische vezel volgens conclusie 17, met het kenmerk, dat geldt: a > 4,0.ΙΟ'6 K'1.
19. Inrichting voor het contraheren van een substraatbuis tot 10 een al of niet massieve voorvorm, omvattende middelen voor het roteren van de substraatbuis, middelen voor het verwarmen van de substraatbuis en middelen voor het ondersteunen van de substraatbuis, met het kenmerk, dat de inrichting verder middelen voor het rond de substraatbuis en over vrijwel de gehele lengte hiervan monteren van een beschermbuis, middelen 15 voor het toevoeren van gassen aan de annul ai re ruimte, gevormd tussen de buitenomtrek van de holle substraatbuis en de binnenomtrek van de beschermbuis en middelen voor het opwekken van een niet-isotherm plasma in de annul ai re ruimte omvat.
20. Inrichting volgens conclusie 19, met het kenmerk, dat de 20 inrichting verder middelen voor het roteren van de beschermbuis omvat. :· ü Z U 3 5 0
NL1020358A 2002-04-10 2002-04-10 Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, alsmede de daarmee verkregen optische vezels. NL1020358C2 (nl)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1020358A NL1020358C2 (nl) 2002-04-10 2002-04-10 Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, alsmede de daarmee verkregen optische vezels.
DE60331136T DE60331136D1 (de) 2002-04-10 2003-04-07 Verfahren und vorrichtung zur herstellung von optischen vorformen und dadurch erhaltene optischen fasern
CNB038133652A CN1303023C (zh) 2002-04-10 2003-04-07 制造光学预制件的方法和装置以及生产出的光纤
EP03725865A EP1492735B1 (en) 2002-04-10 2003-04-07 Method and device for manufacturing optical preforms, as well as the optical fibers obtained herewith
PCT/NL2003/000261 WO2003086998A1 (en) 2002-04-10 2003-04-07 Method and device for manufacturing optical preforms, as well as the optical fibres obtained therewith
AT03725865T ATE456543T1 (de) 2002-04-10 2003-04-07 Verfahren und vorrichtung zur herstellung von optischen vorformen und dadurch erhaltene optischen fasern
AU2003228129A AU2003228129A1 (en) 2002-04-10 2003-04-07 Method and device for manufacturing optical preforms, as well as the optical fibres obtained therewith
US10/509,684 US7734135B2 (en) 2002-04-10 2003-04-07 Method and device for manufacturing optical preforms, as well as the optical fibres obtained therewith

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1020358A NL1020358C2 (nl) 2002-04-10 2002-04-10 Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, alsmede de daarmee verkregen optische vezels.
NL1020358 2002-04-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL1020358C2 true NL1020358C2 (nl) 2003-10-13

Family

ID=29244977

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1020358A NL1020358C2 (nl) 2002-04-10 2002-04-10 Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, alsmede de daarmee verkregen optische vezels.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7734135B2 (nl)
EP (1) EP1492735B1 (nl)
CN (1) CN1303023C (nl)
AT (1) ATE456543T1 (nl)
AU (1) AU2003228129A1 (nl)
DE (1) DE60331136D1 (nl)
NL (1) NL1020358C2 (nl)
WO (1) WO2003086998A1 (nl)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1020358C2 (nl) 2002-04-10 2003-10-13 Draka Fibre Technology Bv Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, alsmede de daarmee verkregen optische vezels.
FR2863605B1 (fr) * 2003-12-15 2006-04-28 Cit Alcatel Procede de recharge plasma autour d'un tube dope au fluor
NL1032867C2 (nl) 2006-11-14 2008-05-15 Draka Comteq Bv Inrichting en een werkwijze voor het uitvoeren van een depositieproces van het type PCVD.
NL1033763C2 (nl) * 2007-04-26 2008-10-28 Draka Comteq Bv Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen van een optische voorvorm.
NL1033773C2 (nl) * 2007-04-27 2008-10-28 Draka Comteq Bv Werkwijze voor de vervaardiging van een voorvorm alsmede daarmee te verkrijgen optische vezel.
NL1033783C2 (nl) * 2007-05-01 2008-11-06 Draka Comteq Bv Inrichting voor het uitvoeren van een plasma chemische dampdepositie alsmede werkwijze ter vervaardiging van een optische voorvorm.
US8252387B2 (en) * 2007-12-10 2012-08-28 Ofs Fitel, Llc Method of fabricating optical fiber using an isothermal, low pressure plasma deposition technique
US8857372B2 (en) * 2007-12-10 2014-10-14 Ofs Fitel, Llc Method of fabricating optical fiber using an isothermal, low pressure plasma deposition technique
NL2011077C2 (en) * 2013-07-01 2015-01-05 Draka Comteq Bv A method for manufacturing a precursor for a primary preform for optical fibres by means of an internal plasma chemical vapour deposition (pcvd) process.
CN105271710B (zh) * 2015-11-13 2018-05-29 成都中住光纤有限公司 一种光纤拉丝炉

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5899131A (ja) * 1981-12-10 1983-06-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光学系ガラス材の製造方法
US4493721A (en) * 1982-04-06 1985-01-15 U.S. Philips Corporation Method of manufacturing optical fibres
US4746345A (en) * 1984-07-13 1988-05-24 U.S. Philips Corp. Method of manufacturing solid glass preforms from hollow preforms
US5203691A (en) * 1988-08-30 1993-04-20 At&T Bell Laboratories Torch assembly for heating glassy tubes
US5397372A (en) * 1993-11-30 1995-03-14 At&T Corp. MCVD method of making a low OH fiber preform with a hydrogen-free heat source
WO1999035304A1 (en) * 1997-12-31 1999-07-15 Plasma Optical Fibre B.V. Pcvd apparatus and a method of manufacturing an optical fiber, a preform rod and a jacket tube as well as the optical fiber manufactured therewith

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2444100C3 (de) * 1974-09-14 1979-04-12 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Verfahren zur Herstellung von innenbeschichteten Glasrohren zum Ziehen von Lichtleitfasern
JPS5812213B2 (ja) * 1978-05-16 1983-03-07 株式会社東芝 高耐候性光通信用多成分系ガラスファイバ−
DE2929166A1 (de) * 1979-07-19 1981-01-29 Philips Patentverwaltung Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern
JPS57181516A (en) * 1981-05-01 1982-11-09 Agency Of Ind Science & Technol Heterogeneous refractive index lens
DE3635034A1 (de) * 1986-10-15 1988-04-21 Philips Patentverwaltung Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern
NL8602910A (nl) * 1986-11-17 1988-06-16 Philips Nv Inrichting voor het aanbrengen van glaslagen op de binnenzijde van een buis.
DE3824273A1 (de) * 1988-07-16 1990-01-18 Philips Patentverwaltung Verfahren zur herstellung von festkoerpern
WO2000026150A1 (fr) * 1998-10-29 2000-05-11 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Procede de production de preforme et de fibre optique
AU2002317703A1 (en) * 2001-06-08 2002-12-23 Crystal Fibre A/S Photonic bandgap fibre, and use thereof
US6876791B2 (en) * 2001-09-03 2005-04-05 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Diffraction grating device
NL1020358C2 (nl) 2002-04-10 2003-10-13 Draka Fibre Technology Bv Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, alsmede de daarmee verkregen optische vezels.

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5899131A (ja) * 1981-12-10 1983-06-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光学系ガラス材の製造方法
US4493721A (en) * 1982-04-06 1985-01-15 U.S. Philips Corporation Method of manufacturing optical fibres
US4746345A (en) * 1984-07-13 1988-05-24 U.S. Philips Corp. Method of manufacturing solid glass preforms from hollow preforms
US5203691A (en) * 1988-08-30 1993-04-20 At&T Bell Laboratories Torch assembly for heating glassy tubes
US5397372A (en) * 1993-11-30 1995-03-14 At&T Corp. MCVD method of making a low OH fiber preform with a hydrogen-free heat source
WO1999035304A1 (en) * 1997-12-31 1999-07-15 Plasma Optical Fibre B.V. Pcvd apparatus and a method of manufacturing an optical fiber, a preform rod and a jacket tube as well as the optical fiber manufactured therewith

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 007, no. 201 (C - 184) 6 September 1983 (1983-09-06) *

Also Published As

Publication number Publication date
US7734135B2 (en) 2010-06-08
US20070003197A1 (en) 2007-01-04
WO2003086998A1 (en) 2003-10-23
ATE456543T1 (de) 2010-02-15
CN1303023C (zh) 2007-03-07
CN1659108A (zh) 2005-08-24
DE60331136D1 (de) 2010-03-18
EP1492735B1 (en) 2010-01-27
AU2003228129A1 (en) 2003-10-27
EP1492735A1 (en) 2005-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1020358C2 (nl) Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, alsmede de daarmee verkregen optische vezels.
WO2015107931A1 (ja) 光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法
EP1740510A1 (en) Method for fabricating an optical fiber, preform for fabricating an optical fiber, optical fibre and apparatus
GB2081250A (en) Method and apparatus for fabricating optical fibres
WO2002102730A1 (en) Method of manufacturing multi-segmented optical fiber and preform
JP5459977B2 (ja) プラズマ化学蒸着法を実行するための装置および光学的予備成形品を製造する方法
EP2045217B1 (en) Process for producing optical fiber base and apparatus therefor
RU2335465C2 (ru) Способ вытяжки оптического волокна без оболочки, способ изготовления оптического волокна и оптическое волокно
KR101057173B1 (ko) 광섬유 및 그의 모재의 제조방법
US6938443B1 (en) Method for the manufacture of a quartz glass preform for an optical fiber
US8381549B2 (en) Optical fiber preform fabricating method
EP3118171B1 (en) A method for preparing a primary preform by etching and collapsing a deposited tube
US20090260400A1 (en) Method for Producing a Tubular Semifinished Product From Fluorine-Doped Quartz Glass
NL1012616C2 (nl) Werkwijze ter vervaardiging van een voorvorm, alsmede vezel verkregen uit een dergelijke voorvorm.
NL2011077C2 (en) A method for manufacturing a precursor for a primary preform for optical fibres by means of an internal plasma chemical vapour deposition (pcvd) process.
EP2261182A1 (en) Method for fabricating a preform from glass particles
NL2004874C2 (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een primaire voorvorm.
GB1559768A (en) Optical fibre preform manufacture
US20070157674A1 (en) Apparatus for fabricating optical fiber preform and method for fabricating low water peak fiber using the same
US8245542B2 (en) Method for producing a cylinder from synthetic quartz glass
EP1693348A1 (en) Multimode optical fiber and method for manufacturing same
NL2012868B1 (en) A method for manufacturing an optical preform.
EP1544173A1 (en) Glass preform for an optical fibre and method and apparatus for its manufacture
CN110316951A (zh) 光纤制造方法
GB2369820A (en) Fabrication of substrates for planar waveguide devices by blow moulding tube into facetted mould

Legal Events

Date Code Title Description
PD2B A search report has been drawn up
MM Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20150501