JPS6012981B2 - 光フアイバ母材の製造法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造法Info
- Publication number
- JPS6012981B2 JPS6012981B2 JP12543180A JP12543180A JPS6012981B2 JP S6012981 B2 JPS6012981 B2 JP S6012981B2 JP 12543180 A JP12543180 A JP 12543180A JP 12543180 A JP12543180 A JP 12543180A JP S6012981 B2 JPS6012981 B2 JP S6012981B2
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- JP
- Japan
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- reaction tube
- gas
- heating burner
- optical fiber
- tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/60—Relationship between burner and deposit, e.g. position
- C03B2207/66—Relative motion
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/70—Control measures
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光フアィバ母村の製造方法に関するものである
。
。
石英よりなる反応管内に四塩化碇素（ＳＩＣ１４）のガ
ラス形成用原料ガスと屈折率制御用のドーパントの四塩
化ゲルマニウム（ＷＣ１４）等のガスと酸素（０２）ガ
スとを導入し、該反応管を加熱して前記ガラス形成用原
料ガスとドーパントのガスとを酸化してガラス形成用酸
化物となし、該酸化物を加熱溶融して形成したコアガラ
ス層を反応管内壁に堆積させて光フアィバの母材を製造
する方法は内付けＣＶＤ法と呼ばれて周知である。
ラス形成用原料ガスと屈折率制御用のドーパントの四塩
化ゲルマニウム（ＷＣ１４）等のガスと酸素（０２）ガ
スとを導入し、該反応管を加熱して前記ガラス形成用原
料ガスとドーパントのガスとを酸化してガラス形成用酸
化物となし、該酸化物を加熱溶融して形成したコアガラ
ス層を反応管内壁に堆積させて光フアィバの母材を製造
する方法は内付けＣＶＤ法と呼ばれて周知である。
第１図に示すように従来このような内付けＣＶＤ法で光
フアィバ母村を製造する場合、前記加熱バーナ１を反応
管２の導入端３より反応管のガス排出端４まで管墜に沿
すて管軸万向に往復移動させる。
フアィバ母村を製造する場合、前記加熱バーナ１を反応
管２の導入端３より反応管のガス排出端４まで管墜に沿
すて管軸万向に往復移動させる。
そして前記反応管の外壁を加熱して反応管内部の原料ガ
スとドーパントガスをガラス化して反応管内にガラス層
５を堆積し、堆積ガラスをコアとする光フアィバ母材を
形成していた。しかしこのような光フアィバ母材の製造
方法では第１図の示すように反応管２の内部に形成され
るコアガラス層５の厚さが反応管のガス導入端３よりガ
ス排出端４に近づくほど分厚く形成されるようになり、
このようにして製作した光フアィバ母材を加熱延伸して
光フアィバを形成した場合、コアの直径が変動して、長
尺に亘つてコアとクラッドの比が所望の寸法に制御され
た光フアィバが得られないといった欠点を生じていた。
本発明は前述した欠点を除去し、反応管内に内付けＣＶ
Ｄ法でガラス層を堆積する場合、反応管内に堆積される
コアガラス層の厚さが均一になるように光フアイバ母材
を形成し、もって前記母材より形成される光フアィバの
コアと外蓬との寸法の比が均一となるような光フアィバ
母材を得ることを目的とするものである。
スとドーパントガスをガラス化して反応管内にガラス層
５を堆積し、堆積ガラスをコアとする光フアィバ母材を
形成していた。しかしこのような光フアィバ母材の製造
方法では第１図の示すように反応管２の内部に形成され
るコアガラス層５の厚さが反応管のガス導入端３よりガ
ス排出端４に近づくほど分厚く形成されるようになり、
このようにして製作した光フアィバ母材を加熱延伸して
光フアィバを形成した場合、コアの直径が変動して、長
尺に亘つてコアとクラッドの比が所望の寸法に制御され
た光フアィバが得られないといった欠点を生じていた。
本発明は前述した欠点を除去し、反応管内に内付けＣＶ
Ｄ法でガラス層を堆積する場合、反応管内に堆積される
コアガラス層の厚さが均一になるように光フアイバ母材
を形成し、もって前記母材より形成される光フアィバの
コアと外蓬との寸法の比が均一となるような光フアィバ
母材を得ることを目的とするものである。
かかる目的を達成するための光フアィバ母材の製造方法
は、反応管内にガラス形成用原料ガスを導入し、該反応
管の外壁に管軸方向に沿って加熱バーナを移動させ、管
内で気相化学反応を行なってガラス層を順次堆積させる
光フアィバ母材の製造法において、反応管のガス導入端
から、反応管のガス排出端方向の所定位置まで前記加熱
バーナの移動距離を、段階的に増加させた状態で複数回
移動させるととも‘こ、前記加熱バーナを前記反応管の
ガス導入端から反応管のガス排出機に近い箇所まで少な
くとも１回移動させ、この加熱バーナの移動を１周期と
して前記加熱バーナを複数回の周期繰り返して移動させ
て反応管内にガラス層を堆積させることを特徴とするも
のである。
は、反応管内にガラス形成用原料ガスを導入し、該反応
管の外壁に管軸方向に沿って加熱バーナを移動させ、管
内で気相化学反応を行なってガラス層を順次堆積させる
光フアィバ母材の製造法において、反応管のガス導入端
から、反応管のガス排出端方向の所定位置まで前記加熱
バーナの移動距離を、段階的に増加させた状態で複数回
移動させるととも‘こ、前記加熱バーナを前記反応管の
ガス導入端から反応管のガス排出機に近い箇所まで少な
くとも１回移動させ、この加熱バーナの移動を１周期と
して前記加熱バーナを複数回の周期繰り返して移動させ
て反応管内にガラス層を堆積させることを特徴とするも
のである。
以下図面を用いて本発明の一実施例につき詳細に説明す
る。
る。
第２図は本発明の方法によって光フアィバ母材を製造す
る場合の説明図である。
る場合の説明図である。
図示するように内径約２仇吻、長さ約８０弧の石英反応
管１ １内にガラス形成用原料ガスとしてのＳＩＣ１４
を担持したアルゴン（Ａｒ）ガスを９０泌／分、屈折率
制御用のガスとしてのＷＣ１４を担持したＡｒガスを１
泌／分の流量で導入する。同時に反応ガスとしての０２
ガスを１〆／分の流量で導入する。そのとき加熱バーナ
１２を反応管１１のガス導入端１３から６ｃｍ／分の移
動速度で５ｃｍの距離ａ，までガスの排出端側１４の方
へ移動させたのち、ガスの導入端側１３へ戻す。その後
連続して前記ＳＩＣ１４、ＧｅＣ１４を担持したＡｒガ
スおよび０２ガスを同じ流量で反応管内へ導入しながら
加熱バーナをガス導入端１３からガスの排出端側１４へ
１０ｃのの距離ａ２まで移動させ、更に前記バーナをガ
スの導入端側１３へ戻す。この後同様にして前記加熱バ
ーナをガスの導入端１３からガスの排出端側１４へ２０
肌の距離ａ３まで移動させたのち、ガス導入端側へ戻し
更に前記バーナをガスの導入端１３から４０伽の距離ａ
４までガスの排出端側１４へ移動させたのち、ガス導入
端１３まで戻す。その後更に前記加熱バーナを反応管の
ガス導入端よりガス排出端まで距離ａ５（８０仇）に亘
つて移動させたのち、ガス導入端まで戻す。このような
方式で加熱バーナを距離ａ，から距離ａ５まで反応管の
ガス排出端方向に向かって、加熱バーナの移動距離を順
次増大させた状態で往復移動し、更に反応管のガス導入
端からガス排出端の近傍迄の所定の箇所まで移動したも
のを加熱バーナの移動の１周期とし、この移動周期を複
数回繰り返して加熱バーナを移動させて反応管内にガラ
ス層を堆積させる。このようにすることでガラスの堆積
量の少ないガス導入端でガラスの堆積量が増え、反応管
内にコアガラスの堆積層が均一な厚さで被看するように
なる。所要厚さのガラス堆積が終れば、あとは通常の方
法により中実化して光フアィバ母材とする。このような
光フアィバ母材を加熱延伸して光フアィバを形成すれば
コアとなる堆積ガラス層の厚さが一定であるからコアお
よびクラッド層の径の比が均一に制御された光フアィバ
が得られる利点を生じる。また、クラッド層の堆積をも
同様に行なって差支えない。
管１ １内にガラス形成用原料ガスとしてのＳＩＣ１４
を担持したアルゴン（Ａｒ）ガスを９０泌／分、屈折率
制御用のガスとしてのＷＣ１４を担持したＡｒガスを１
泌／分の流量で導入する。同時に反応ガスとしての０２
ガスを１〆／分の流量で導入する。そのとき加熱バーナ
１２を反応管１１のガス導入端１３から６ｃｍ／分の移
動速度で５ｃｍの距離ａ，までガスの排出端側１４の方
へ移動させたのち、ガスの導入端側１３へ戻す。その後
連続して前記ＳＩＣ１４、ＧｅＣ１４を担持したＡｒガ
スおよび０２ガスを同じ流量で反応管内へ導入しながら
加熱バーナをガス導入端１３からガスの排出端側１４へ
１０ｃのの距離ａ２まで移動させ、更に前記バーナをガ
スの導入端側１３へ戻す。この後同様にして前記加熱バ
ーナをガスの導入端１３からガスの排出端側１４へ２０
肌の距離ａ３まで移動させたのち、ガス導入端側へ戻し
更に前記バーナをガスの導入端１３から４０伽の距離ａ
４までガスの排出端側１４へ移動させたのち、ガス導入
端１３まで戻す。その後更に前記加熱バーナを反応管の
ガス導入端よりガス排出端まで距離ａ５（８０仇）に亘
つて移動させたのち、ガス導入端まで戻す。このような
方式で加熱バーナを距離ａ，から距離ａ５まで反応管の
ガス排出端方向に向かって、加熱バーナの移動距離を順
次増大させた状態で往復移動し、更に反応管のガス導入
端からガス排出端の近傍迄の所定の箇所まで移動したも
のを加熱バーナの移動の１周期とし、この移動周期を複
数回繰り返して加熱バーナを移動させて反応管内にガラ
ス層を堆積させる。このようにすることでガラスの堆積
量の少ないガス導入端でガラスの堆積量が増え、反応管
内にコアガラスの堆積層が均一な厚さで被看するように
なる。所要厚さのガラス堆積が終れば、あとは通常の方
法により中実化して光フアィバ母材とする。このような
光フアィバ母材を加熱延伸して光フアィバを形成すれば
コアとなる堆積ガラス層の厚さが一定であるからコアお
よびクラッド層の径の比が均一に制御された光フアィバ
が得られる利点を生じる。また、クラッド層の堆積をも
同様に行なって差支えない。
第１図は従来の光フアィバ母村の製造法において反応管
内に被着したガラス層の厚さの分布を示す図、第２図は
本発明の方法によって光フアィバ用母材を製造する場合
の説明図である。 １：加熱バーナ、２：反応管、３：ガス導入端、４：ガ
ス排出端、５：ガラス層、１１：反応管、１２：加熱バ
ーナ、１３：ガス導入機、１４：ガス排出端、ａ，，ａ
２，ａ３，ａ４，ａ５：加熱バーナの移動距離。 第１図 豹２図
内に被着したガラス層の厚さの分布を示す図、第２図は
本発明の方法によって光フアィバ用母材を製造する場合
の説明図である。 １：加熱バーナ、２：反応管、３：ガス導入端、４：ガ
ス排出端、５：ガラス層、１１：反応管、１２：加熱バ
ーナ、１３：ガス導入機、１４：ガス排出端、ａ，，ａ
２，ａ３，ａ４，ａ５：加熱バーナの移動距離。 第１図 豹２図
Claims (1)
- １ 反応管内にガラス形成用原料ガスを導入し、該反応
管の外壁を管軸方向に沿って加熱バーナを移動させ、管
内で気相化学反応を行ってガラス層を順次堆積させる光
フアイバー母材の製造法において、反応管のガス導入端
から、反応管のガス排出端方向の所定位置まで前記加熱
バーナの移動距離を段階的に増加させた状態で複数回移
動させるとともに前記加熱バーナを前記反応管のガス導
入端から反応管のガス排出端に近い箇所まで少なくとも
１回移動させ、この加熱バーナの移動を１周期として、
前記加熱バーナを複数回の周期繰り返して移動させて反
応管内に所要厚さのガラス層を堆積させることを特徴と
する光フアイバ母材の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12543180A JPS6012981B2 (ja) | 1980-09-09 | 1980-09-09 | 光フアイバ母材の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12543180A JPS6012981B2 (ja) | 1980-09-09 | 1980-09-09 | 光フアイバ母材の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5751139A JPS5751139A (en) | 1982-03-25 |
| JPS6012981B2 true JPS6012981B2 (ja) | 1985-04-04 |
Family
ID=14909917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12543180A Expired JPS6012981B2 (ja) | 1980-09-09 | 1980-09-09 | 光フアイバ母材の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6012981B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0160680U (ja) * | 1987-10-13 | 1989-04-18 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL1033769C2 (nl) * | 2007-04-27 | 2008-10-28 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor het vervaardigen van een voorvorm alsmede werkwijze voor het uit een dergelijke voorvorm vervaardigen van optische vezels. |
| NL1033773C2 (nl) * | 2007-04-27 | 2008-10-28 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor de vervaardiging van een voorvorm alsmede daarmee te verkrijgen optische vezel. |
| NL2007448C2 (nl) | 2011-09-20 | 2013-03-21 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezels. |
| NL2007447C2 (nl) | 2011-09-20 | 2013-03-21 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezel. |
-
1980
- 1980-09-09 JP JP12543180A patent/JPS6012981B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0160680U (ja) * | 1987-10-13 | 1989-04-18 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5751139A (en) | 1982-03-25 |
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