JPS6239625B2 - - Google Patents

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JPS6239625B2
JPS6239625B2 JP55001542A JP154280A JPS6239625B2 JP S6239625 B2 JPS6239625 B2 JP S6239625B2 JP 55001542 A JP55001542 A JP 55001542A JP 154280 A JP154280 A JP 154280A JP S6239625 B2 JPS6239625 B2 JP S6239625B2
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JP
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carbon atoms
sub
group
phosphite
weight
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JP55001542A
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JPS5699246A (en
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Motonobu Minagawa
Yutaka Nakahara
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Adeka Corp
Original Assignee
Adeka Argus Chemical Co Ltd
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Publication date
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Priority to US06/220,406 priority patent/US4362830A/en
Priority to DE8181100099T priority patent/DE3176324D1/de
Priority to AT81100099T priority patent/ATE28464T1/de
Priority to EP81100099A priority patent/EP0032681B1/en
Publication of JPS5699246A publication Critical patent/JPS5699246A/ja
Publication of JPS6239625B2 publication Critical patent/JPS6239625B2/ja
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/52—Phosphorus bound to oxygen only
    • C08K5/527—Cyclic esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6564—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/6571—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07F9/6574—Esters of oxyacids of phosphorus
    • C07F9/65744—Esters of oxyacids of phosphorus condensed with carbocyclic or heterocyclic rings or ring systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6564—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/6571—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07F9/6574—Esters of oxyacids of phosphorus
    • C07F9/65746—Esters of oxyacids of phosphorus the molecule containing more than one cyclic phosphorus atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
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    • C07F9/6578—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and sulfur atoms with or without oxygen atoms, as ring hetero atoms

Description

【発明の詳細な説明】
本願発明は合成樹脂組成物に関し、詳しくは特
定のホスフアイト化合物を添加することによつ
て、熱及び光の作用による劣化に対して長期にわ
たつて安定化された合成樹脂組成物に関する。 ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル等の合成樹脂は熱及び光の作
用により劣化し、着色したり、機械的強度が低下
し使用に耐えなくなることが知られている。かか
る合成樹脂の劣化を防ぐ為にこれまで多くの添加
剤が単独であるいは種々組み合わせて用いられて
きた。これらの添加剤の中でもホスフアイト系の
化合物は合成樹脂に対して耐熱性、耐光性を付与
し、しかも合成樹脂の着色を抑制するという利点
があり広く用いられてきた。これらのホスフアイ
ト化合物の中でも、トリス（ノニルフエニル）ホ
スフアイト、ジフエニルイソデシルホスフアイ
ト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスフ
アイト、テトラアルキルビスフエノールＡジホス
フアイト等は比較的その効果が大きく、合成樹脂
用安定剤として賞用されていた。 しかしながら、これら従来用いられていたホス
フアイト化合物は耐水性が悪く、空気中に放置し
ておく事によつて容易に加水分解を受けることが
知られており、また合成樹脂に添加して使用中に
白点を発生したり、水によつて容易に抽出されて
しまうという欠点があり、また湿潤雰囲気で使用
中にホスフアイト化合物が加水分解を受け樹脂の
安定性を低下させる場合すらあり、耐水性の優れ
たホスフアイト化合物が必要とされていた。ま
た、ホスフアイト化合物の安定化能についても現
状ではまだまだ不充分でありさらに効果の優れた
ものが必要とされていた。ホスフアイト化合物の
耐水性を改善するために少量のイソプロパノール
アミンを添加することが行なわれていたがその効
果は一時的なものでしかなかつた。また耐水性の
良好なホスフアイトとしてトリス（オルソアルキ
ル化フエニル）ホスフアイト等も提案されている
が、これらのホスフアイトは耐水性はある程度改
善されるものの、耐熱性、耐光性などの効果の面
で劣り、実用上満足できるものではなかつた。 本発明者等はかかる現状から鋭意検討を重ねた
結果、次の一般式（）で示されるホスフアイト
化合物が耐水性において極めてすぐれており、し
かも合成樹脂に添加した場合、耐熱性、耐光性に
すぐれた樹脂組成物を与えることを見いだし本発
明に到達した。 〔式中、Ａは直接結合、硫黄原子、酸素原子又は
アルキリデン基を示し、Ｒはアルキル基を示し、
R1及びR2は各々水素原子又はアルキル基を示
し、R3は低級アルキレン基を示し、R4は１価〜
４価のアルコール残基を示す。ｎは１〜４を示
す。〕 本発明になる上記一般式（）で示される化合
物についてさらに詳しく説明する。 アルキリデン基としては例えばメチレン、イソ
プロピリデン、ブチリデン、シクロヘキシリデ
ン、イソプロピルベンジリデンなどの基があげら
れる。 アルキル基としてはメチル、エチル、イソプロ
ピル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、オクチル、イソ
オクチル、ｔ−オクチル、ノニル、ｔ−ノニル、
デシル、ラウリル、ステアリル、シクロヘキシ
ル、ベンジル、α−メチルベンジル、α・α−ジ
メチルベンジル、α−メチルシクロヘキシルなど
の基があげられる。 １〜４価のアルコール残基としてはメタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノー
ル、イソブタノール、オクタノール、イソオクタ
ノール、ノナノール、イソデカノール、トリデカ
ノール、ラウリルアルコール、ステアリルアルコ
ール、セチルアルコール、ミリスチルアルコー
ル、オレイルアルコール、シクロヘキサノール、
ベンジルアルコール； エチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、１・２−プロパンジオ
ール、１・３−プロパンジオール、１・２−ブタ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレングリコール、１・６−ヘキサンジオール、
１・10−デカンジオール、１・４−シクロヘキサ
ンジオール、１・４−シクロヘキサンジメタノー
ル、１・４−フエニレンジメタノール、水添ビス
フエノールＡ； グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメ
チロールエタン、トリス−（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレート； ペンタエリスリトール、ジトリメチロールエタ
ン、ジトリメチロールプロパン；などのアルコー
ルの残基があげられる。
【式】で示される二価フエノールとし ては ２・2′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−
ブチルフエノール）、２・2′−メチレンビス（４
−エチル−６−ｔ−ブチルフエノール）、２・
2′−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチ
ルシクロヘキシル）フエノール〕、２・2′−ｎ−
ブチリデンビス（４・６−ジメチルフエノー
ル）、ビス−１・１−（2′−ヒドロキシ−3′・5′−
ジメチルフエニル）−３・５・５−トリメチルヘ
キサン、２・2′−シクロヘキシリデンビス（４−
エチル−６−ｔ−ブチルフエノール）、２・2′−
イソプロピルベンジリデン−ビス（４−エチル−
６−ｔ−ブチルフエノール）、２・2′−チオビス
（４−ｔ−ブチル−６−メチルフエノール）、２・
2′−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフエ
ノール）、２・2′−チオビス（４・６−ジ−ｔ−
ブチルフエノール）、２・2′−メチレンビス（４
−α−メチルベンジル−６−シクロヘキシルフエ
ノール）、２・2′−メチレンビス（４−シクロヘ
キシル−６−α−メチルベンジルフエノール）、
２・2′−ジヒドロキシビフエニル、２・2′−ジヒ
ドロキシ−３・3′・５・5′−テトラ−ｔ−ブチル
ビフエニル、２・2′−ジヒドロキシ−３・3′・
５・5′−テトラ−ｔ−アミルビフエニル、２・
2′−ジヒドロキシ−３・3′・５・5′−テトラ−ｔ
−オクチルビフエニル、ビス（２−ヒドロキシ−
３−ｔ−ブチルフエニル）エーテル、ビス（２−
ヒドロキシ−３−プロピルフエニル）エーテルな
どがあげられる。 本発明において用いられる前記式（）で示さ
れるホスフアイト化合物の代表例を次の表−１に
示す。表中×はｔ−ブチル基を示す。 本発明になる前記式（）で示されるホスフア
イト化合物は式
【式】（式中Ｒ、R1 及びＡは式（）と同じ意味を示す。）で示され
る２価フエノールと
【式】（式中Ｒ、R2、R3、 R4及びｎは式（）と同じ意味を示す）で示さ
れるフエノールと三塩化リンとを反応させるかま
たは、三塩化リンに変えて、トリフエニルホスフ
アイトまたはトリメチルホスフアイトを反応させ
ることによつて容易に製造することができる。 次に本発明になる化合物の具体的な合成例を示
す。 合成例 （No.２化合物の合成） トルエン200mlに２・2′−メチレンビス（４−
エチル−６−ｔ−ブチルフエノール）36.8ｇとト
リエチルアミン22.2ｇを溶解した溶液に三塩化リ
ン13.8ｇを１時間かけて滴下し、室温で10時間反
応した。反応生成物はトリエチルアミンの塩酸塩
を除去後、溶媒を留去する。得られた生成物をト
ルエン50mlに溶解し、オクタデシル・３−（３・
５−ジ−ｔ−ブチル４−ヒドロキシフエニル）プ
ロピオネート53ｇとトリエチルアミン12.1ｇのト
ルエン200ml溶液に対して１時間で滴下し、10時
間還流下反応した。塩酸トリエチルアミンを除去
後、減圧下に溶媒を除去することによつて化合物
No.２をm.p56゜〜70℃の白色粉末として得た。 本発明は合成樹脂に対して前記式（）で示さ
れるホスフアイト化合物を添加することによつて
該合成樹脂を安定化させるものであり、その添加
量は合成樹脂100重量部に対して0.001〜10重量部
である。 本発明によつて安定化される合成樹脂として
は、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リブテン、ポリ−３−メチルブテンなどのα−オ
レフイン重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重
合体、エチレン−プロピレン共重合体などのポリ
オレフインおよびこれらの共重合体、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポ
リプロピレン、ポリフツソ化ビニリデン、臭素化
ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重体、塩化
ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−スチ
レン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共重合
体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合
体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル共
重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化
ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素
化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−ア
クリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイ
ン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル
酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニト
リル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニルなどの
含ハロゲン合成樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビ
ニル、アクリル樹脂、スチレンと他の単量体（例
えば無水マレイン酸、ブタジエン、アクリロニト
リルなど）との共重合体、アクリロニトリル−ブ
タジエン−スチレン共重合体、アクリル酸エステ
ル−ブタジエン−スチレン共重合体、メタクリル
酸エステル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポ
リメチルメタクリレートなどのメタクリレート樹
脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルブチラール、直鎖ポリエステル、
ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセター
ル、ポリフエニレンオキシド、ポリウレタン、繊
維素系樹脂、あるいはフエノール樹脂、ユリア樹
脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シ
リコーン樹脂などを挙げることができる。更に、
イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジ
エン共重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹脂のブ
レンド品であつてもよい。 また、過酸化物あるいは放射線等によつて架橋
させた架橋ポリエチレン等の架橋合成樹脂及び発
泡剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発
泡合成樹脂も包含される。 本発明の組成物に、さらにフエノール系の抗酸
化剤0.01〜５重量部を添加することによつて相剰
的に作用し酸化安定性を改善することができる。
フエノール系抗酸化剤としてはたとえば、２・６
−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール、ステアリル
−（３・５−ジ−メチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）チオグリコーレート、ステアリル−β−（４
−ヒドロキシ−３・５−ジ−第３ブチルフエニ
ル）プロピオネート、ジステアリル（４−ヒドロ
キシ−３−メチル−５−第３ブチル）ベンジルマ
ロネート、２・2′−メチレンビス（４−メチル−
６−第３ブチルフエノール）、４・4′−メチレン
ビス（２・６−ジ−第３ブチルフエノール）、
２・2′−メチレンビス〔６−（１−メチルシクロ
ヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビス〔３・３−ビ
ス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチルフエニル）
ブチリツクアシド〕グリコールエステル、４・
4′−ブチリデンビス（６−第３ブチル−ｍ−クレ
ゾール）、１・１・３−トリス（２−メチル−４
−ヒドロキシ−５−第３ブチルフエニル）ブタ
ン、１・３・５−トリス（３・５−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２・４・６−ト
リメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−
（３・５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフエ
ニル）プロピオネート〕メタン、１・３・５−ト
リス（３・５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１・３・５−トリ
ス〔（３・５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
フエニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシア
ヌレート、２−オクチルチオ−４・６−ジ（４−
ヒドロキシ−３・５−ジ−第３ブチル）フエノキ
シ−１・３・５−トリアジン、４・4′−チオビス
（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）などがあげ
られる。 本発明の組成物に光安定剤を添加することによ
つてその耐光性をさらに改善することができる。
これらの光安定剤としてはたとえば、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフエノン、２−ヒドロ
キシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフエノン、２・
2′−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノ
ン、２・４−ジヒドロキシベンゾフエノン等のヒ
ドロキシベンゾフエノン類、２−（2′−ヒドロキ
シ−3′−ｔ−ブチル−5′−メチルフエニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロ
キシ−3′・5′−ジ−ｔ−ブチルフエニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキ
シ−5′−メチルフエニル）ベンゾトリアゾール、
２−（2′−ヒドロキシ−3′・5′−ジ−ｔ−アミルフ
エニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾ
ール類、フエニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチル
フエニルサリシレート、２・４−ジ−ｔ−ブチル
フエニル−３・５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート等のベンゾエート類、２・2′−
チオビス（４−ｔ−オクチルフエノール）Ni
塩、〔２・2′−チオビス（４−ｔ−オクチルフエ
ノラート）〕−ｎ−ブチルアミンNi塩、（３・５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホス
ホン酸モノエチルエステルNi塩等のニツケル化
合物類、置換アクリロニトリル類及び２・２・
６・６−テトラメチル−４−ピペリジニルベンゾ
エート、ビス（２・２・６・６−テトラメチル−
４−ピペリジニル）セバケート、トリス（２・
２・６・６−テトラメチル−４−ピペリジニル）
ニトリロトリアセテート、テトラキス（２・２・
６・６−テトラメチル−４−ピペリジニル）ブタ
ンテトラカルボキシレート等のピペリジン系化合
物類等があげられる。 本発明の組成物に硫黄系抗酸化剤を含有させる
こともできる。硫黄系抗酸化剤としては、たとえ
ば、ジステアリルチオジプロピオネート、ジラウ
リルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトー
ルテトラ（β−ラウリルチオプロピオネート）、
１・３・５−トリス−β−ステアリルチオプロピ
オニルオキシエチルイソシアヌレートなどがあげ
られる。 本発明の組成物に、必要に応じて他のホスフア
イト系の化合物を添加することによつて、耐光性
及び耐熱性をさらに改善することができる。この
ホスフアイト系の化合物としては例えば、トリオ
クチルホスフアイト、トリラウリルホスフアイ
ト、トリデシルホスフアイト、オクチル−ジフエ
ニルホスフアイト、トリフエニルホスフアイト、
トリス（ブトキシエチル）ホスフアイト、トリス
（ノニルフエニル）ホスフアイト、ジステアリル
ペンタエリスリトールジホスフアイト、テトラ
（トリデシル）−１・１・３−トリス（２−メチル
−５−第３ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ブ
タンジホスフアイト、テトラ（C12〜15混合アル
キル）−４・4′−イソプロピリデンジフエニルジ
ホスフアイト、テトラ（トリデシル）−４・4′−
ブチリデンビス（３−メチル−６−第３ブチルフ
エノール）ジホスフアイト、トリス（３・５−ジ
−第３ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ホスフ
アイト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフエニル）
ホスフアイト、水素化−４・4′−イソプロピリデ
ンジフエノールポリホスフアイト、ビス（オクチ
ルフエニル）・ビス〔４・4′−ブチリデンビス
（３−メチル−６−第３ブチルフエノール）〕・
１・６−ヘキサンジオールジホスフアイト、フエ
ニル・４・4′−イソプロピリデンジフエノール・
ペンタエリスリトールジホスフアイト、トリス
〔４・4′−イソプロピリデンビス（２−第３ブチ
ルフエノール）〕ホスフアイト、フエニル・ジイ
ソデシルホスフアイト、ジ（ノニルフエニル）ペ
ンタエリスリトールジホスフアイト、トリス
（１・３−ジ−ステアロイルオキシイソプロピ
ル）ホスフアイト、４・4′−イソプロピリデンビ
ス（２−第３ブチルフエノール）・ジ（ノニルフ
エニル）ホスフアイトなどがあげられる。 その他、必要に応じて、重金属不活性化剤、造
核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エポ
キシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止
剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させること
ができる。 次に本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら本発明はこれらの実施例によつ
て限定されるものではない。 実施例 １ 下記配合物を180℃で５分間ミキシングロール
で混練し、次いで180℃250Kg／cm2で５分間圧縮成
型し、厚さ１mmの試験片を作成した。この試験片
を用いて160℃のギヤーオーブン中での熱安定性
試験を行なつた。また、72時間螢光灯照射後の試
験片の黄色度のハンター比色計を用いて測定し
た。結果を表−２に示す。 配 合 未安定化ポリプロピレン 100重量部 カルシウムステアレート 0.2 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 ペンタエリスリトールテトラキス（３・５−ジ−
第３ブチル−４−ヒドロキシフエニルプロピオネ
ート） 0.1 ホスフアイト化合物（表−２） 0.1
【表】 実施例 ２ 次の配合物を150℃の温度で５分間ミキシング
ロールで混練し、次いで150℃の温度、180Kg／cm2
の条件で５分間圧縮成型を行い、厚さ1.2mmのシ
ートを作成した。このシートを10×20mmの試験片
としてアルミ箔上、150℃の温度で空気中に於け
るギヤーオーブン加熱劣化試験を行つた。なお、
同一サンプルに10枚の試片を用い５枚以上が変
色、ワツクス状化した時点を劣化時間とした。そ
の結果を表−３に示す。 配 合 ポリエチレン樹脂（ハイゼツクス5100E、三井石
油社製） 100重量部 ジラウリルチオジプロピオネート 0.3 ステアリル−３・５−ジ−第３ブチル−４−ヒド
ロキシフエニルプロピオネート 0.1 ホスフアイト化合物（表−３） 0.05
【表】
【表】 実施例 ３ 固有粘度0.56dl／ｇ（クロロホルム中25℃）の
ポリ（２・６−ジメチル−１・４−フエニレンオ
キサイド）50重量部、ポリスチレン47.5重量部、
ポリカーボネート2.5cm重量部、酸化チタン3.0重
量部及び安定剤0.5重量部を加え、ヘンシエルミ
キサーにて十分混合し押し出し機でペレツト化、
次いで射出成型により試験片を作成した。この試
験片をギヤオーブン中で125℃、100時間加熱し、
伸び及びアイゾツド衝撃値保持率を測定した。結
果を表−４に示す。
【表】
【表】 実施例 ４ ABS樹脂（Blendex111） 100重量部 亜鉛ステアレート 0.5 トリス（３・５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキ
シフエニルプロピオニルオキシエチル）イソシア
ヌレート 0.1 ホスフアイト化合物（表−５） 0.2 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ0.5
mmのシートを作成した。このシートを用い135℃
のギヤーオーブン中で20時間加熱後のシートの着
色の度合をハンター比色計で測定し白色度で示し
た。結果を表−５に示す。
【表】
【表】 実施例 ５ ポリ塩化ビニル樹脂（Geon 103EP、日本ゼオ
ン社製品）100重量部、ジオクチルフタレート42
重量部、エポキシ化大豆油３重量部、亜鉛ステア
レート0.3重量部、バリウムステアレート0.5重量
部、ステアリン酸0.3重量部、４・4′−ｎ−ブチ
リデンビス（２−第３ブチル−５−メチルフエノ
ール）0.05重量部及びホスフアイト化合物（表−
６）0.2重量部をミキシングロールで175℃の温度
で５分間混練したあと175℃の温度で圧縮成型し
透明なシートを作成した。次いで190℃の温度で
ギヤーオーブン中空気雰囲気下で熱劣化試験を行
つた。尚、劣化開始時間は着色の度合で判断し
た。また、関係湿度100％、温度175℃に保つた恒
温槽中での試験も行なつた。結果を表−６に示
す。
【表】 実施例 ６ 本発明に係る化合物のエチレン酢酸ビニル共重
合体に対する効果をみるために、次の配合で試料
を作成し175℃のギヤーオーブン中での熱安定性
および初期着色性を測定した。なお、初期着色に
関してはハンター比色計を用いて黄色度を求め
た。結果を表−７に示した。 配 合 エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂 100重量部 モンタン酸系滑剤 0.3 １・１・３−トリス（2′−メチル−4′−ヒドロキ
シ−5′−第３ブチルフエニル）ブタン 0.05 ホスフアイト化合物（表−７） 0.1
【表】
【表】 実施例 ７ ポリブチレンテレフタレート 100重量部 １・３・５−トリス（3′・5′−ジ−第３ブチル−
4′−ヒドロキシベンジル）−２・４・６−トリメ
チルベンゼン 0.2 ホスフアイト化合物（表−８） 0.2 上記配合物を270℃でインジエクシヨン加工し
試験片を作成した。この試験片を用いて150℃、
240時間熱老化後の抗張力残率を測定した。結果
を表−８に示す。
【表】 実施例 ８ シス−１・４−イソプレンゴム（チグラー系触
媒、数平均分子量680000）100ｇに対しホスフア
イト化合物0.5ｇを添加した後、乾燥させたイソ
オクタン250mlを加え、均一な溶液を調製した。
次いでこの溶液をエバポレーターに移し温浴上で
脱溶媒した。得られたゴム組成物を100℃の恒温
槽で３時間熱老化させた。着色テスト及び固有粘
度測定（トルエン溶媒）を行つた。その結果を表
−９に示す。
【表】 実施例 ９ ポリカーボネート樹脂100重量部及びホスフア
イト化合物0.1重量部を混合し、260℃でプレスし
て厚さ1.0mmの試験片を作成した。この試験片を
ギヤーオープン中で230℃で30分間加熱後の試験
片の変色程度を観察した。結果を表−10に示す。
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 合成樹脂100重量部に対し、次の一般式
    （）で示されるホスフアイト化合物0.001〜10重
    量部を添加してなる安定化された合成樹脂組成
    物。 （式中、Ａは直接結合、硫黄原子、酸素原子又は
    アルキリデン基を示し、Ｒはアルキル基を示し、
    R1及びR2は各々水素原子又はアルキル基を示
    し、R3は低級アルキレン基を示し、R4は１価〜
    ４価のアルコール残基を示す。ｎは１〜４を示
    す。）
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