JPS6021627B2 - 安定化された合成樹脂組成物 - Google Patents
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本願発明は安定化された合成樹脂組成物に関し、さらに
詳しくは特定のオルソ置換フェノールホスフアィト化合
物及び多価フェノールカーボネート化合物の併用添加に
よって長期的な熱安定性、紫外線の照射による着色及び
湿潤雰囲気での使用における安定性の改善された合成樹
脂組成物に関する。
詳しくは特定のオルソ置換フェノールホスフアィト化合
物及び多価フェノールカーボネート化合物の併用添加に
よって長期的な熱安定性、紫外線の照射による着色及び
湿潤雰囲気での使用における安定性の改善された合成樹
脂組成物に関する。
ポリエチレン、ポリプロピレン、ボリ塩化ビニル等の合
成樹脂は熱及び光の作用により劣化し、着色したり、機
械的強度が低下し、使用に耐えなくなることが知られて
いる。
成樹脂は熱及び光の作用により劣化し、着色したり、機
械的強度が低下し、使用に耐えなくなることが知られて
いる。
かかる合成樹脂の劣化を防止するために、これまで多く
の添加剤が単独であるいは種々組み合わせて用いられて
きた。
の添加剤が単独であるいは種々組み合わせて用いられて
きた。
これらの添加剤の中でもホスフアィト化合物は比較的効
果が大きくフェノール系化合物あるいはチオヱーテル化
合物等と併用されていた。しかしながらホスフアィト化
合物は一般に耐水性が悪く、空気中に放置しておくこと
によって容易に加水分解を受けることが知られており、
また合成樹脂に添加した場合でも、湿潤雰囲気下ではホ
スフアィト化合物が加水分解を受け合成樹脂の安定性に
悪影響を与える場合すらあることも知られている。ホス
フアィト化合物のこのような欠点を除去するために、耐
水性の良好なホスフアィトが研究され、オルソ位にバル
キーな置換基を持つフェノールのホスファィトが比較的
耐水性にすぐれることが明きらかとなった。しかしなが
ら、これらのホスフアィト化合物を用いた場合でも、ホ
スフアィト単独では熱安定性が不充分であり、フェノー
ル化合物等との併用が必須であった。
果が大きくフェノール系化合物あるいはチオヱーテル化
合物等と併用されていた。しかしながらホスフアィト化
合物は一般に耐水性が悪く、空気中に放置しておくこと
によって容易に加水分解を受けることが知られており、
また合成樹脂に添加した場合でも、湿潤雰囲気下ではホ
スフアィト化合物が加水分解を受け合成樹脂の安定性に
悪影響を与える場合すらあることも知られている。ホス
フアィト化合物のこのような欠点を除去するために、耐
水性の良好なホスフアィトが研究され、オルソ位にバル
キーな置換基を持つフェノールのホスファィトが比較的
耐水性にすぐれることが明きらかとなった。しかしなが
ら、これらのホスフアィト化合物を用いた場合でも、ホ
スフアィト単独では熱安定性が不充分であり、フェノー
ル化合物等との併用が必須であった。
ところが、フェノール化合物との併用においては熱安定
性の面ではある程度改善される場合もあるが、特に高温
での安定性がまだまだ不満足なものであり、しかも紫外
線の照射により着色してしまうという欠点があり、さら
に改善することが必要であった。本発明者等はかかる現
状に鑑み鋭意検討を重ねた結果、合成樹脂10の重量部
に対して、‘aー次の一般式(1)または(ロ)で表わ
されるホスフアィト化合物の少なくとも一種0.001
〜5重量部及び‘b’一般式(町)で表わされる多価フ
ェノールカーボネート化合物の少なくとも一種0.00
1〜5重量部を添加することにより長期的な熱安定性、
耐光性及び湿潤雰囲気下での安定性にすぐれた合成樹脂
組成物が得られることを見し、出し本発明を完成した。
性の面ではある程度改善される場合もあるが、特に高温
での安定性がまだまだ不満足なものであり、しかも紫外
線の照射により着色してしまうという欠点があり、さら
に改善することが必要であった。本発明者等はかかる現
状に鑑み鋭意検討を重ねた結果、合成樹脂10の重量部
に対して、‘aー次の一般式(1)または(ロ)で表わ
されるホスフアィト化合物の少なくとも一種0.001
〜5重量部及び‘b’一般式(町)で表わされる多価フ
ェノールカーボネート化合物の少なくとも一種0.00
1〜5重量部を添加することにより長期的な熱安定性、
耐光性及び湿潤雰囲気下での安定性にすぐれた合成樹脂
組成物が得られることを見し、出し本発明を完成した。
〔式中、R,は第3プチル基、第3アミル基、シクロヘ
キシル基またはフェニル基を示す。
キシル基またはフェニル基を示す。
R2は水素原子、メチル基、第3ブチル基、第3アミル
基、シクロヘキシル基またはフェニル基を示す。R3は
水素原子、メチル基または第3ブチル基を示す。R4は
水素原子またはメチル基を示す。Rは水素原子またはを
示す。
基、シクロヘキシル基またはフェニル基を示す。R3は
水素原子、メチル基または第3ブチル基を示す。R4は
水素原子またはメチル基を示す。Rは水素原子またはを
示す。
mは0または1を示す。
nは0または1を示す。■は2価または3個のフェノー
ルあるいはアルコールの残基を示す。R5は水素原子ま
たはを 示す。
ルあるいはアルコールの残基を示す。R5は水素原子ま
たはを 示す。
R6はアルキル基、アリール基、アルキルアリールアリ
ールアルキル基またはを示す。
ールアルキル基またはを示す。
pは0または1を示す。qは1ないし20を示す。
■はベンゼン核上の水酸基のオルソ位の少なくとも一方
がアルキル基で置換されている2価または3価のフェノ
ールの残基を示す。また、同一式中に同一記号がある場
合は、それらは同一でも異なっていてもよい。〕本発明
において用いられる上記−般式(1)〜(m)で表わさ
れる化合物についてさらに詳しく説明する。アルキル基
としてはメチル、エチル、プロピル、ィソプロピル、ブ
チル、第2ブチル、第3ブチル、ィソブチル、アミル、
第3アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオク
チル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ヘキサデシ
ル、オクタデシル、エイコシル、ドコシル、テトラコシ
ル、トリァコンチルなどの直鎖あるいは分枝アルキル基
及びシクロベンチル、シク。
がアルキル基で置換されている2価または3価のフェノ
ールの残基を示す。また、同一式中に同一記号がある場
合は、それらは同一でも異なっていてもよい。〕本発明
において用いられる上記−般式(1)〜(m)で表わさ
れる化合物についてさらに詳しく説明する。アルキル基
としてはメチル、エチル、プロピル、ィソプロピル、ブ
チル、第2ブチル、第3ブチル、ィソブチル、アミル、
第3アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオク
チル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ヘキサデシ
ル、オクタデシル、エイコシル、ドコシル、テトラコシ
ル、トリァコンチルなどの直鎖あるいは分枝アルキル基
及びシクロベンチル、シク。
へキシル、シク。オクチル、Q一メチルシクロヘキシル
などの脂環状アルキル基があげられる。アリール基とし
ては、フェニル、ピフェニル・ナフチルなどがあげられ
る。
などの脂環状アルキル基があげられる。アリール基とし
ては、フェニル、ピフェニル・ナフチルなどがあげられ
る。
アルキルアリール基としてはメチルフェニル、ジメチル
フェニル、第3ブチルフエニル、シクロヘキシルフエニ
ル、オクチルフヱニル、ノニルフエニルなどがあげられ
る。アリールアルキル基としてはペンジル、フェニルェ
チル、フェニルプロピルなどがあげられる。■−(OH
)2十pで示される各水酸基のオルソ位の少くとも一方
がアルキル化された2価または3価フェノールとしては
例えば、2,5−ジー第3ブチルハイドロキノン、2,
3.6−トリメチルハイドロキノン、2ーメチルレゾル
シン、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−第3
ブチルフエノール)、2,2′−メチレンビス(4ーエ
チルー6−第3ブチルフェノール)、2,2′ーメチレ
ンビ:ス〔4ーメチル−6一(Q−メチルシクロヘキシ
ル)フェノール〕、2,2′−n−プチリデンビス(4
,6一ジーメチルフエノール)、ビスー1,1一(2−
ヒドロキシー3,5′ージーメチルフエニル)−3,5
,5−トリメチルヘキサン、2,2′−シクoヘキシリ
デンビス(4ーエチル−6一第3ブチルフェノール)、
2,2′ーィソプロピルベンジリデンービス(4−エチ
ル一6一第3ブチルフェノール)、2,2′−チオビス
(4−第3ブチルー6−メチルフェノール)、2,2−
チオピス(4−メチル一6−第3プチルフェノール)、
2,2′−チオビス(4,6−ジー第3ブチルフエノー
ル)、4,4′ーメチレンビス(2−メチル一6−第3
ブチルフェノール)、4,4一イソプロピリデンビス(
2−フヱニルエチルフヱノール)、4,4一nーブチリ
デンビス(3−メチル−6−第3ブチルフェノール)、
4,4′ーシクロヘキシリデンビス(2一第3プチルフ
エノール)、4,4ーシクロヘキシリデンビス(2−シ
クロヘキシルフエノ−ル)、4,4′−ペンジリデンビ
ス(2−第3ブチル−5−メチルフェノール)、4,4
′ーオキソビス(3ーメチルー6ーイソプロピルフエノ
ール)、4,4′−チオビス(2−メチル−6−第3ブ
チルフェノール)、4,4′ーチオビス(3−メチル−
6−第3プチルフェノール)、4,4′−スルホビス(
3ーメチル−6−第3ブチルフェノール)、ビス(2−
メチル−4−ヒドロキシ−5一第3ブチルベンジル)ス
ルフイド、1,1,3ートリス(2′ーメチルー4−ヒ
ドロキシー6′一第3プチルフェニル)ブタン、2,2
−ビス(3′−第3ブチル−4′ーヒド。
フェニル、第3ブチルフエニル、シクロヘキシルフエニ
ル、オクチルフヱニル、ノニルフエニルなどがあげられ
る。アリールアルキル基としてはペンジル、フェニルェ
チル、フェニルプロピルなどがあげられる。■−(OH
)2十pで示される各水酸基のオルソ位の少くとも一方
がアルキル化された2価または3価フェノールとしては
例えば、2,5−ジー第3ブチルハイドロキノン、2,
3.6−トリメチルハイドロキノン、2ーメチルレゾル
シン、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−第3
ブチルフエノール)、2,2′−メチレンビス(4ーエ
チルー6−第3ブチルフェノール)、2,2′ーメチレ
ンビ:ス〔4ーメチル−6一(Q−メチルシクロヘキシ
ル)フェノール〕、2,2′−n−プチリデンビス(4
,6一ジーメチルフエノール)、ビスー1,1一(2−
ヒドロキシー3,5′ージーメチルフエニル)−3,5
,5−トリメチルヘキサン、2,2′−シクoヘキシリ
デンビス(4ーエチル−6一第3ブチルフェノール)、
2,2′ーィソプロピルベンジリデンービス(4−エチ
ル一6一第3ブチルフェノール)、2,2′−チオビス
(4−第3ブチルー6−メチルフェノール)、2,2−
チオピス(4−メチル一6−第3プチルフェノール)、
2,2′−チオビス(4,6−ジー第3ブチルフエノー
ル)、4,4′ーメチレンビス(2−メチル一6−第3
ブチルフェノール)、4,4一イソプロピリデンビス(
2−フヱニルエチルフヱノール)、4,4一nーブチリ
デンビス(3−メチル−6−第3ブチルフェノール)、
4,4′ーシクロヘキシリデンビス(2一第3プチルフ
エノール)、4,4ーシクロヘキシリデンビス(2−シ
クロヘキシルフエノ−ル)、4,4′−ペンジリデンビ
ス(2−第3ブチル−5−メチルフェノール)、4,4
′ーオキソビス(3ーメチルー6ーイソプロピルフエノ
ール)、4,4′−チオビス(2−メチル−6−第3ブ
チルフェノール)、4,4′ーチオビス(3−メチル−
6−第3プチルフェノール)、4,4′−スルホビス(
3ーメチル−6−第3ブチルフェノール)、ビス(2−
メチル−4−ヒドロキシ−5一第3ブチルベンジル)ス
ルフイド、1,1,3ートリス(2′ーメチルー4−ヒ
ドロキシー6′一第3プチルフェニル)ブタン、2,2
−ビス(3′−第3ブチル−4′ーヒド。
キシフェニル)−4−(3″,5″−ジー第3ブチル−
4″−ヒドロキシフエニル)ブタン、2,2ービス−(
2′−メチル−5′−第3ブチル−4′ーヒドロキシフ
ェニル)−4−(3″,5″ージ−第3ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)ブタンなどがあげられる。■−(O
H)2Mで示される2価または3価のフェノールとして
は、上記■−(OH)2ルで示されるフェノールに加え
、ハイドロキノン、4,4′ーイソプロピリデンジフェ
ノール、4,4ーシクロヘキシリデンジフエノール、4
,4′ーメチレンビスフエノール、4,4′ースルホビ
スフエ/−ルなどがあげられる。又、■−(OH)2十
mで示される2価または3価のアルコールとしては例え
ば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、1,2ープロパンジオール、1,
3ープロ/ゞンジオール、1,2ーブタンジオール、1
,3−ブタンジオール、1,4ーブタンジオール、ネオ
ベンチルグリコール、チオジエチレングリコール、1,
6ーヘキサンジオール、1,10−デカンジオ川ル、1
,4ーシクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサ
ンジメタノール、1,4一フェニルジメタノール、水添
ピスフェノールA、グリセリン、トリメチロ−ルメタソ
、トリメチロールエタン、トリス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートなどがあげられる。本発明におい
て用いられる前記一般式(1)または(0)で示される
ホスフアィト化合物の例を次の表−1に示し、一般式(
m)で示されるカーボネート化合物の例を表−2に示す
。
4″−ヒドロキシフエニル)ブタン、2,2ービス−(
2′−メチル−5′−第3ブチル−4′ーヒドロキシフ
ェニル)−4−(3″,5″ージ−第3ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)ブタンなどがあげられる。■−(O
H)2Mで示される2価または3価のフェノールとして
は、上記■−(OH)2ルで示されるフェノールに加え
、ハイドロキノン、4,4′ーイソプロピリデンジフェ
ノール、4,4ーシクロヘキシリデンジフエノール、4
,4′ーメチレンビスフエノール、4,4′ースルホビ
スフエ/−ルなどがあげられる。又、■−(OH)2十
mで示される2価または3価のアルコールとしては例え
ば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、1,2ープロパンジオール、1,
3ープロ/ゞンジオール、1,2ーブタンジオール、1
,3−ブタンジオール、1,4ーブタンジオール、ネオ
ベンチルグリコール、チオジエチレングリコール、1,
6ーヘキサンジオール、1,10−デカンジオ川ル、1
,4ーシクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサ
ンジメタノール、1,4一フェニルジメタノール、水添
ピスフェノールA、グリセリン、トリメチロ−ルメタソ
、トリメチロールエタン、トリス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートなどがあげられる。本発明におい
て用いられる前記一般式(1)または(0)で示される
ホスフアィト化合物の例を次の表−1に示し、一般式(
m)で示されるカーボネート化合物の例を表−2に示す
。
表中×は第3ブチル基を示す。
表−1
No.1
No.2
No.3
No.4
No.5
No.6
No.7
No.8
No.9
No.10
No.11
No.12
No.13
No.14
No.15
No.16
No.17
No.18
No.19
No.20
No.21
No.22
No.23
No.24
No.25
No.26
No.27
No.28
No.29
No.30
No.31
No.32
No.33
No.34
No.35
No.36
No.37
No.38
No.39
No.40
No.41
No.42
No.43
No.44
No.45
No.46
No.47
No.48
No.49
No.50
No.51
No.52
No.53
No.54
表−2
No.1
No.2
No.3
No.4
No.5
No.6
No.7
No.8
No.9
No.10
No.11
No.12
No.13
No.14
No.15
No.16
No.17
No.18
No.19
No.20
本発明によって安定化される合成樹脂としては、たとえ
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリー
3ーメチルブテン、などのQ−オレフィン重合体または
エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレンープロピレン
共重合体などのボリオレフインおよびこれらの共重合体
、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ピニル、ポリフッ化ビニル
、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポ
リプロピレン、ポリフッ秦化ビニリデン、臭素化ポリエ
チレン、塩化ゴム、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニルーェチレン共重合体、塩化ビニループロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニ
ルーイソブチレン共重合体、塩化ビニルー塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニルースチレンー無水マレイン酸三
元共重合体、塩化ビニル−スチレンーアクリロニトリル
共重合体、塩化ビニルーブタジェン共重合体、塩化ビニ
ルーィソプレン共重合体、塩化ビニルー塩素化プロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデンー酢酸ビニル
三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸ェステル共重合
体、塩化ビニルーマレイン酸ェステル共重合体、塩化ビ
ニル−メタクリル酸ェステル共重合体、塩化ビニルーア
クリロニトリル共重合体、内部可塑化ボリ塩化ビニルな
どの含ハロゲン合成樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニ
ル、アクリル樹脂、スチレンと他の単量体(例えば無水
マレィン酸、ブタジェン、アクリロニトリルなど)との
共重合体、ァクリロニトリルーブタジェンースチレン共
重合体、アクリル酸ヱステルーブタジェンースチレン共
重合体、メタクリル酸ェステルーブタジェン−スチレン
共重合体、ポリメチルメタクリレートなどのメタクリレ
ート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリア
ミド、ポリカーボネ−ト、ポリアセタール、ポリウレタ
ン、繊維素系樹脂、あるいはフェノール樹脂、ュリア樹
脂、メラミン樹脂、ヱポキシ樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、シリコーン樹脂などを挙げることができる。
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリー
3ーメチルブテン、などのQ−オレフィン重合体または
エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレンープロピレン
共重合体などのボリオレフインおよびこれらの共重合体
、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ピニル、ポリフッ化ビニル
、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポ
リプロピレン、ポリフッ秦化ビニリデン、臭素化ポリエ
チレン、塩化ゴム、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニルーェチレン共重合体、塩化ビニループロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニ
ルーイソブチレン共重合体、塩化ビニルー塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニルースチレンー無水マレイン酸三
元共重合体、塩化ビニル−スチレンーアクリロニトリル
共重合体、塩化ビニルーブタジェン共重合体、塩化ビニ
ルーィソプレン共重合体、塩化ビニルー塩素化プロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデンー酢酸ビニル
三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸ェステル共重合
体、塩化ビニルーマレイン酸ェステル共重合体、塩化ビ
ニル−メタクリル酸ェステル共重合体、塩化ビニルーア
クリロニトリル共重合体、内部可塑化ボリ塩化ビニルな
どの含ハロゲン合成樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニ
ル、アクリル樹脂、スチレンと他の単量体(例えば無水
マレィン酸、ブタジェン、アクリロニトリルなど)との
共重合体、ァクリロニトリルーブタジェンースチレン共
重合体、アクリル酸ヱステルーブタジェンースチレン共
重合体、メタクリル酸ェステルーブタジェン−スチレン
共重合体、ポリメチルメタクリレートなどのメタクリレ
ート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリア
ミド、ポリカーボネ−ト、ポリアセタール、ポリウレタ
ン、繊維素系樹脂、あるいはフェノール樹脂、ュリア樹
脂、メラミン樹脂、ヱポキシ樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、シリコーン樹脂などを挙げることができる。
更に、ィソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニト
リルーブタジェン共重合ゴム、スチレンーブタジェン共
重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹脂のブレンド品であ
ってもよい。また、過酸化物あるいは放射線等によって
架橋させた架橋ポリエチレン等の架橋合成樹脂及び発泡
剤によって発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡合成樹
脂も包含される。
リルーブタジェン共重合ゴム、スチレンーブタジェン共
重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹脂のブレンド品であ
ってもよい。また、過酸化物あるいは放射線等によって
架橋させた架橋ポリエチレン等の架橋合成樹脂及び発泡
剤によって発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡合成樹
脂も包含される。
本発明の組成物に、さらにフェノール系の抗酸化剤を添
加することによって酸化安定性をより改善することがで
きる。
加することによって酸化安定性をより改善することがで
きる。
フェノール系抗酸化剤としてはたとえば、2,6ージ−
第3ブチル−p−クレゾール、ステアリルー(3,5ー
ジーメチル−4ーヒドロキシベンジル)チオグリコーレ
ート、ステアリル−8−(4ーヒドロキシー3,5−ジ
一第3ブチルフェニル)プロピオネート、ジステアリル
(4−ヒドロキシ−3−メチル−5−第3プチル)ペン
ジルマロネート、2,2′ーメチレンビス(4ーメチル
ー6一第3ブチルフェノール)、4,4′−メチレンビ
ス(2,6ージ−第3ブチルフエノール)、2,2−メ
チレンビス〔6一(1一メチルシクロヘキシル)p−ク
レゾール〕、ビス〔3,3−ビス(4ーヒドロキシ−3
一策3ブチルフェニル)ブチリックアシド〕グリコール
エステル、4,4′−プチリデンビス(6−第3ブチル
−mークレゾ−ル)、1,1,3ートリス(2−メチル
−4−ヒドロキシー5−第3ブチルフエニル)、ブタン
、1,3,5ートリス(3,5−ジー第3ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)一2,4,6ートリメチルベンゼ
ン、テトラキス〔メチレン−3−(3,5−ジー第3ブ
チル−4ーヒドロキシフヱニル)プロピオネート〕メタ
ン、1,3,5−トリス(3,5−ジー第3ブチルー4
−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5
−トリス〔(3,5ージー第3プチル−4−ヒドロキシ
フエニル)プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレー
ト、2−オクチルチオ−4,6ージ(4ーヒドロキシー
3,5ージ−第3ブチル)フェノキシ−1,3,5−ト
リアジン、4,4′チオピス(6一第3ブチル−m−ク
レゾール)などがあげられる。本発明の組成物に硫黄系
抗酸化剤を含有させることもできる。
第3ブチル−p−クレゾール、ステアリルー(3,5ー
ジーメチル−4ーヒドロキシベンジル)チオグリコーレ
ート、ステアリル−8−(4ーヒドロキシー3,5−ジ
一第3ブチルフェニル)プロピオネート、ジステアリル
(4−ヒドロキシ−3−メチル−5−第3プチル)ペン
ジルマロネート、2,2′ーメチレンビス(4ーメチル
ー6一第3ブチルフェノール)、4,4′−メチレンビ
ス(2,6ージ−第3ブチルフエノール)、2,2−メ
チレンビス〔6一(1一メチルシクロヘキシル)p−ク
レゾール〕、ビス〔3,3−ビス(4ーヒドロキシ−3
一策3ブチルフェニル)ブチリックアシド〕グリコール
エステル、4,4′−プチリデンビス(6−第3ブチル
−mークレゾ−ル)、1,1,3ートリス(2−メチル
−4−ヒドロキシー5−第3ブチルフエニル)、ブタン
、1,3,5ートリス(3,5−ジー第3ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)一2,4,6ートリメチルベンゼ
ン、テトラキス〔メチレン−3−(3,5−ジー第3ブ
チル−4ーヒドロキシフヱニル)プロピオネート〕メタ
ン、1,3,5−トリス(3,5−ジー第3ブチルー4
−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5
−トリス〔(3,5ージー第3プチル−4−ヒドロキシ
フエニル)プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレー
ト、2−オクチルチオ−4,6ージ(4ーヒドロキシー
3,5ージ−第3ブチル)フェノキシ−1,3,5−ト
リアジン、4,4′チオピス(6一第3ブチル−m−ク
レゾール)などがあげられる。本発明の組成物に硫黄系
抗酸化剤を含有させることもできる。
硫黄系抗酸化剤としては、たとえば、ジステアリルチオ
ジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネート、
ベンタヱリスリトールテトララウリルチオプロピオネー
トなどがあげられる。本発明の組成物に、さらに他のホ
スフアィト系の化合物を添加することができる。
ジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネート、
ベンタヱリスリトールテトララウリルチオプロピオネー
トなどがあげられる。本発明の組成物に、さらに他のホ
スフアィト系の化合物を添加することができる。
このホスフアィト系の化合物としては例えば、トリオク
チルホスフアイト、トリラウリルホスフアイト、トリデ
シルホスフアイト、オクチルージフエニルホスフアイト
、トリフヱニルホスフアイト、トリス(ブトキシエチル
)ホスフアイト、トリス(ノニルフエニル)‐ホスフア
イト、ジステアリルベンタエリスリトールジホスフアイ
ト、テトラ(トリデシル)−1,1,3ートリス(2ー
メチルー5一第3ブチルー4−ヒドロキシフヱニル)ブ
タンジホスフアイト、テトラ(C,2〜,5浪合アルキ
ル)−4,4′−イソプロピリデンジフヱニルジホスフ
アイト、テトラ(トリデシル)4,4′ーブチリデンビ
ス(3−メチル一6−第3ブチルフェノール)ジホスフ
アィト、トリス(3,5−ジー第3ブチルー4−ヒドロ
キシフエニル)ホスフアイト、トリス(モノ・ジ混合ノ
ニルフェニル)ホスフアイト、水素化一4,4′ーィソ
プロピリデンジフェノールポリホスフアイト、ピス(オ
クチルフエニル)・ピス〔4,4′ーブチリデンビス(
3−メチル−6一第3ブチルフェノール)・1,6ーヘ
キサンジオールジホスフアイト、フエニル・4,4′ー
イソプロピリデンジフェノール・ベンタエリスリトール
ジホスフアイト、トリス〔4,4一イソプロピリデンビ
ス(2−第3ブチルフェノ−ル)〕ホスフアイト、フエ
ニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ(ノニルフヱニル
)ペンタエリスリトールジホスフアイト、トリス(1,
3ージ−ステアロイルオキシイソプロピル)ホスフアイ
ト、4,4′−ィソプロピリデンビス(2−第3ブチル
フエノール)・ジ(ノニルフエニル)ホスフアイトなど
があげられる。本発明の組成物にさらに光安定剤を添加
することによってその耐光性を改善することができる。
チルホスフアイト、トリラウリルホスフアイト、トリデ
シルホスフアイト、オクチルージフエニルホスフアイト
、トリフヱニルホスフアイト、トリス(ブトキシエチル
)ホスフアイト、トリス(ノニルフエニル)‐ホスフア
イト、ジステアリルベンタエリスリトールジホスフアイ
ト、テトラ(トリデシル)−1,1,3ートリス(2ー
メチルー5一第3ブチルー4−ヒドロキシフヱニル)ブ
タンジホスフアイト、テトラ(C,2〜,5浪合アルキ
ル)−4,4′−イソプロピリデンジフヱニルジホスフ
アイト、テトラ(トリデシル)4,4′ーブチリデンビ
ス(3−メチル一6−第3ブチルフェノール)ジホスフ
アィト、トリス(3,5−ジー第3ブチルー4−ヒドロ
キシフエニル)ホスフアイト、トリス(モノ・ジ混合ノ
ニルフェニル)ホスフアイト、水素化一4,4′ーィソ
プロピリデンジフェノールポリホスフアイト、ピス(オ
クチルフエニル)・ピス〔4,4′ーブチリデンビス(
3−メチル−6一第3ブチルフェノール)・1,6ーヘ
キサンジオールジホスフアイト、フエニル・4,4′ー
イソプロピリデンジフェノール・ベンタエリスリトール
ジホスフアイト、トリス〔4,4一イソプロピリデンビ
ス(2−第3ブチルフェノ−ル)〕ホスフアイト、フエ
ニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ(ノニルフヱニル
)ペンタエリスリトールジホスフアイト、トリス(1,
3ージ−ステアロイルオキシイソプロピル)ホスフアイ
ト、4,4′−ィソプロピリデンビス(2−第3ブチル
フエノール)・ジ(ノニルフエニル)ホスフアイトなど
があげられる。本発明の組成物にさらに光安定剤を添加
することによってその耐光性を改善することができる。
これらの光安定剤としてはたとえば、2−ヒドロキシー
4−〆トキシベンゾフエノン、2−ヒドロキシー4一n
ーオクトキシベンゾフエノン、2,2−ジーヒドロキシ
ー4ーメトキシベンゾフエノン、2,4−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン等のヒドロキシベンゾフェノン類、2−
(2′ーヒドロキシ−3′ーtーブチルー5′ーメチル
フエニル)−5ークロロベンゾトリアゾール、2一(2
′−ヒドロキシー3′,5′ージーtーブチルフエニル
)一5ークロ。ペンゾトリアゾール、2一(2′ーヒド
ロキシー5′ーメチルフエニル)ペンゾトリアゾール、
2一(2′ーヒドロキシー3′,5′ージーtーアミル
フェニル)ペンゾトリアゾール等のペンゾトリアゾール
類、フェニルサリシレート、p−t−プチルフエニルサ
リシレート、2,4・‐ジーtーブチルフエニル−3,
5,ジーt−プチル−4−ヒドロキシベンゾェート等の
ペンゾェート類、2,2ーチオビス(4−t−オクチル
フエノール)Ni塩、〔2,2′−チオピス(4−t−
オクチルフェノラート)〕−nーブチルアミンNi塩、
(3,5−ジーt−ブチル−4ーヒドロキシベンジル)
ホスホン酸モノェチルェステルNi塩等のニッケル化合
物類、置換アクリロニトリル類及び2,2,6,6ーテ
トラメチル−4−ピベリジニルベンゾエート、ビス(2
,2,6,6−テトラメチル一4ーピベリジニル)セバ
ケート、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4ー
ピベリジニル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(
2,2,6,6ーテトラメチルー4ーピベリジニル)ブ
タンテトラカルボキシレート等のピベリジン系化合物類
等があげられる。その他必要に応じて本発明組成物は、
重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物
、可塑剤、ェボキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯
電防止剤、難燃剤、溶剤、加工助剤等を包含させること
ができる。
4−〆トキシベンゾフエノン、2−ヒドロキシー4一n
ーオクトキシベンゾフエノン、2,2−ジーヒドロキシ
ー4ーメトキシベンゾフエノン、2,4−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン等のヒドロキシベンゾフェノン類、2−
(2′ーヒドロキシ−3′ーtーブチルー5′ーメチル
フエニル)−5ークロロベンゾトリアゾール、2一(2
′−ヒドロキシー3′,5′ージーtーブチルフエニル
)一5ークロ。ペンゾトリアゾール、2一(2′ーヒド
ロキシー5′ーメチルフエニル)ペンゾトリアゾール、
2一(2′ーヒドロキシー3′,5′ージーtーアミル
フェニル)ペンゾトリアゾール等のペンゾトリアゾール
類、フェニルサリシレート、p−t−プチルフエニルサ
リシレート、2,4・‐ジーtーブチルフエニル−3,
5,ジーt−プチル−4−ヒドロキシベンゾェート等の
ペンゾェート類、2,2ーチオビス(4−t−オクチル
フエノール)Ni塩、〔2,2′−チオピス(4−t−
オクチルフェノラート)〕−nーブチルアミンNi塩、
(3,5−ジーt−ブチル−4ーヒドロキシベンジル)
ホスホン酸モノェチルェステルNi塩等のニッケル化合
物類、置換アクリロニトリル類及び2,2,6,6ーテ
トラメチル−4−ピベリジニルベンゾエート、ビス(2
,2,6,6−テトラメチル一4ーピベリジニル)セバ
ケート、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4ー
ピベリジニル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(
2,2,6,6ーテトラメチルー4ーピベリジニル)ブ
タンテトラカルボキシレート等のピベリジン系化合物類
等があげられる。その他必要に応じて本発明組成物は、
重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物
、可塑剤、ェボキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯
電防止剤、難燃剤、溶剤、加工助剤等を包含させること
ができる。
以下、実施例をもって本発明をさらに詳しく説明するが
、これらはあくまでも例示の目的で示すものであって本
発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。
、これらはあくまでも例示の目的で示すものであって本
発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。
実施例 1
次の配合物をミキサーで5分間混合したあと、押し出し
機でコンパウンドを作成した(シリンダー温度230℃
及び240oo、ヘッドダイス温度250℃、回転数2
仇.p.m.)。
機でコンパウンドを作成した(シリンダー温度230℃
及び240oo、ヘッドダイス温度250℃、回転数2
仇.p.m.)。
このコンパウンドを用いて95×40×1側の試験片を
射出成型機で作成した(シリンダー温度240℃、ノズ
ル温度250qo、射出圧475k9/欲)。
射出成型機で作成した(シリンダー温度240℃、ノズ
ル温度250qo、射出圧475k9/欲)。
得られた試験片を用いて16000のギャーオーブン中
で熱安定性を測定し、またハンター比色計を用いて試験
片の黄色度を測定した。結果を表−3に示す。配合 ポリプロピレン樹脂(Profax6501ハーキュレ
ス社製) 10の重量部ステアリン酸カル
シウム 0.2ジラウリルチオジプロピオ
ネート 0.2ホスフアィト化合物(表一3)
0.05カーボネート化合物(表一3)
0.1表 − 3実施例 2 次の配合物を150℃で5分間ミキシングロールで混線
し、次いで150qo、180k9/地の条件で5分間
圧縮成型を行ない、厚さ1.仇舷のシートを作成した。
で熱安定性を測定し、またハンター比色計を用いて試験
片の黄色度を測定した。結果を表−3に示す。配合 ポリプロピレン樹脂(Profax6501ハーキュレ
ス社製) 10の重量部ステアリン酸カル
シウム 0.2ジラウリルチオジプロピオ
ネート 0.2ホスフアィト化合物(表一3)
0.05カーボネート化合物(表一3)
0.1表 − 3実施例 2 次の配合物を150℃で5分間ミキシングロールで混線
し、次いで150qo、180k9/地の条件で5分間
圧縮成型を行ない、厚さ1.仇舷のシートを作成した。
このシートを10×2仇吻の試験片として、アルミ箔上
、150℃の温度でギヤーオーブン中での熱安定性試験
を行なった。また90つ○の熱水に7幼時間浸潰したシ
ートについても同様に熱安定性を側定した。結果を表−
4に示す。配合 ポリエチレン樹脂(/・ィゼックス 510血 三井石油化学社製) 10唯雲量部 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3ホスフ
アィト化合物(表一4) 0.1カーボネート化
合物(表−4) 0.1表‐4実施例 3 本発明になる安定剤のポリプテン樹脂に対する効果をみ
るために以下の配合で140℃の温度で5分間ミキシン
グロールで混練し、次いで16ぴ0、200k9/抑圧
力の条件で5分間圧縮成型を行って厚さ1脚のシートを
作成した。
、150℃の温度でギヤーオーブン中での熱安定性試験
を行なった。また90つ○の熱水に7幼時間浸潰したシ
ートについても同様に熱安定性を側定した。結果を表−
4に示す。配合 ポリエチレン樹脂(/・ィゼックス 510血 三井石油化学社製) 10唯雲量部 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3ホスフ
アィト化合物(表一4) 0.1カーボネート化
合物(表−4) 0.1表‐4実施例 3 本発明になる安定剤のポリプテン樹脂に対する効果をみ
るために以下の配合で140℃の温度で5分間ミキシン
グロールで混練し、次いで16ぴ0、200k9/抑圧
力の条件で5分間圧縮成型を行って厚さ1脚のシートを
作成した。
得られたシートを40×15仇吻の大きさに切断して夫
々独立したシリンダー中に吊し酸化劣化開始時間を測定
した。
々独立したシリンダー中に吊し酸化劣化開始時間を測定
した。
その結果を表一5に示す。尚、シリンダー内は酸素雰囲
気中1気圧、16ぴ○の温度に設定した。又酸化劣化開
始時間はシリンダー内の圧力が急激に減少し始める時点
を記録計から読み取った。配合 未安定化ポリブテン樹脂 10唯重量部ステアリ
ン酸カルシウム 1.0ジラウリルチオジブロ
ピオネート 0.3ホスフアィト化合物(表−5)
0.1カーボネート化合物(表一5) 0.1
表‐5実施例 4 ABS樹脂 (Blendexlll) 10の重量部亜鉛ステア
レート 0.5ホスフアィト化合物(
表−6) 0.2カーボネート化合物(表−6)
0.1上記配合物をロール練り後プレスして厚さ0
.5柳のシートを作成した。
気中1気圧、16ぴ○の温度に設定した。又酸化劣化開
始時間はシリンダー内の圧力が急激に減少し始める時点
を記録計から読み取った。配合 未安定化ポリブテン樹脂 10唯重量部ステアリ
ン酸カルシウム 1.0ジラウリルチオジブロ
ピオネート 0.3ホスフアィト化合物(表−5)
0.1カーボネート化合物(表一5) 0.1
表‐5実施例 4 ABS樹脂 (Blendexlll) 10の重量部亜鉛ステア
レート 0.5ホスフアィト化合物(
表−6) 0.2カーボネート化合物(表−6)
0.1上記配合物をロール練り後プレスして厚さ0
.5柳のシートを作成した。
このシートを用いて135℃のギャーオーブン中で2岬
時間加熱後のシートの着色の度合をハンター比色計で測
定し白色度で示した。結果を表−6に示す。泰 一 6 実施例 5 ポリ塩化ビニル樹脂 (Wonlo班P 日本ゼオン社製) 10の重量部 ジオクチルフタレート 48ェポ
キシ化大豆油 2オクチル酸亜鉛
0.3バリウムノニルフエノ
レート 0.5ステアリン酸
0.3ホスフアィト化合物(表−7)
0.3カーボネート化合物(表−7) 0.
05上記配合物を175qoで5分間ミキシングロール
で混練したあと175℃でプレスし厚さ1側のシートを
作成した。
時間加熱後のシートの着色の度合をハンター比色計で測
定し白色度で示した。結果を表−6に示す。泰 一 6 実施例 5 ポリ塩化ビニル樹脂 (Wonlo班P 日本ゼオン社製) 10の重量部 ジオクチルフタレート 48ェポ
キシ化大豆油 2オクチル酸亜鉛
0.3バリウムノニルフエノ
レート 0.5ステアリン酸
0.3ホスフアィト化合物(表−7)
0.3カーボネート化合物(表−7) 0.
05上記配合物を175qoで5分間ミキシングロール
で混練したあと175℃でプレスし厚さ1側のシートを
作成した。
このシートを用い17500のギヤーオーブン中での熱
安定性を測定した。また、関係湿度100午0、温度1
75qoに保った陣湿槽中での熱安定性も測定した。結
果を表−7に示す。表 ‐ 7 実施例 6 本発明に係る化合物のエチレン酢酸ビニル共重合体に対
する効果をみるために、次の配合で試料を作成し175
℃のギャーオーブン中での熱安定性および初期着色性を
測定した。
安定性を測定した。また、関係湿度100午0、温度1
75qoに保った陣湿槽中での熱安定性も測定した。結
果を表−7に示す。表 ‐ 7 実施例 6 本発明に係る化合物のエチレン酢酸ビニル共重合体に対
する効果をみるために、次の配合で試料を作成し175
℃のギャーオーブン中での熱安定性および初期着色性を
測定した。
なお、初期着色に関してはハンター比色計を用いて黄色
度を求めた。結果を表−8に示した。配合 エチレン一 酢酸ビニル共重合樹脂 10の重量部モンタン
酸系滑剤 0.32,6ージ−第3ブ
チル−pークレゾール 0.1
ホスフアィト化合物(表−8) 0.1カーボネー
ト化合物(表−8) 0.05表 ニー
8実施例 7ポリブチレンテレフタレート
10の重量部ホスフアィト化合物(表一9) 0
.2カーボネート化合物(表−9) 0.1上記配
合物を27000でィンジェクション加工し試験片を作
成した。
度を求めた。結果を表−8に示した。配合 エチレン一 酢酸ビニル共重合樹脂 10の重量部モンタン
酸系滑剤 0.32,6ージ−第3ブ
チル−pークレゾール 0.1
ホスフアィト化合物(表−8) 0.1カーボネー
ト化合物(表−8) 0.05表 ニー
8実施例 7ポリブチレンテレフタレート
10の重量部ホスフアィト化合物(表一9) 0
.2カーボネート化合物(表−9) 0.1上記配
合物を27000でィンジェクション加工し試験片を作
成した。
この試験片を用いて150oo、24餌時間熱老化後の
抗張力残率を測定した。結果を表一9に示す。表 ‐
9 実施例 8 ポリカーボネート樹脂 10の重量部ホスフア
ィト化合物(表−10) 0.05カーボネート化合
物(表−10) 0.05上記配合物を260℃でプ
レスして厚さ1.仇吻の無色の試験片を作成した。
抗張力残率を測定した。結果を表一9に示す。表 ‐
9 実施例 8 ポリカーボネート樹脂 10の重量部ホスフア
ィト化合物(表−10) 0.05カーボネート化合
物(表−10) 0.05上記配合物を260℃でプ
レスして厚さ1.仇吻の無色の試験片を作成した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 合成樹脂100重量部に対して、(a)次の一般式
(I)または(II)で表わされるホスフアイト化合物の
少なくとも一種0.001〜5重量部及び(b)一般式
(III)で表わされる多価フエノールカーボネート化合
物の少なくとも一種0.001〜5重量部を添加してな
る安定化された合成樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は
第3ブチル基、第3アミル基、シクロヘキシル基または
フエニル基を示す。 R_2は水素原子、メチル基、第3ブチル基、第3アミ
ル基、シクロヘキシル基またはフエニル基を示す。R_
3は水素原子、メチル基または第3ブチル基を示す。R
_4は水素原子またはメチル基を示す。Rは水素原子ま
たは▲数式、化学式、表等があります▼ を示す。 mは0または1を示す。 nは0または1を示す。(A)は2価または3価のフエ
ノールあるいはアルコールの残基を示す。R_5は水素
原子または▲数式、化学式、表等があります▼ を 示す。 R_6はアルキル基、アリール基、アルキルアリール基
、アリールアルキル基または▲数式、化学式、表等があ
ります▼ を示す。 pは0または1を示す。qは1ないし20を示す。 (B)はベンゼン核上の水酸基のオルソ位の少なくとも
一方がアルキル基で置換されている2価または3価のフ
エノールの残基を示す。また、同一式中に同一記号があ
る場合は、それらは同一でも異なつていてもよい。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52110829A JPS6021627B2 (ja) | 1977-09-14 | 1977-09-14 | 安定化された合成樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52110829A JPS6021627B2 (ja) | 1977-09-14 | 1977-09-14 | 安定化された合成樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5443952A JPS5443952A (en) | 1979-04-06 |
JPS6021627B2 true JPS6021627B2 (ja) | 1985-05-28 |
Family
ID=14545705
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52110829A Expired JPS6021627B2 (ja) | 1977-09-14 | 1977-09-14 | 安定化された合成樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6021627B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4385145A (en) * | 1981-11-18 | 1983-05-24 | Borg-Warner Chemicals, Inc. | Phosphite stabilizers for polyester resins |
JPH01207341A (ja) * | 1988-12-27 | 1989-08-21 | Adeka Argus Chem Co Ltd | ポリプロピレン組成物 |
JPH01221445A (ja) * | 1988-12-27 | 1989-09-04 | Adeka Argus Chem Co Ltd | ポリエチレン組成物 |
RU2071478C1 (ru) * | 1991-03-26 | 1997-01-10 | Циба Гейги АГ | Несимметричные арилфосфиты, полимерная композиция и способ ее получения |
US6485657B1 (en) * | 1998-06-11 | 2002-11-26 | Teijin, Limited | Gamma-ray stabilizer and thermoplastic polymer compound including the said stabilizer |
US6541549B2 (en) | 1999-11-01 | 2003-04-01 | Crompton Corporation | Non-xenoestrogenic stabilizers for organic materials |
WO2022004506A1 (ja) * | 2020-06-29 | 2022-01-06 | 本州化学工業株式会社 | 新規なトリスフェノール誘導体 |
-
1977
- 1977-09-14 JP JP52110829A patent/JPS6021627B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5443952A (en) | 1979-04-06 |
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