JPS5914055B2 - 安定化された合成樹脂組成物 - Google Patents
安定化された合成樹脂組成物Info
- Publication number
- JPS5914055B2 JPS5914055B2 JP51086274A JP8627476A JPS5914055B2 JP S5914055 B2 JPS5914055 B2 JP S5914055B2 JP 51086274 A JP51086274 A JP 51086274A JP 8627476 A JP8627476 A JP 8627476A JP S5914055 B2 JPS5914055 B2 JP S5914055B2
- Authority
- JP
- Japan
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- tert
- butyl
- synthetic resin
- methyl
- copolymer
- Prior art date
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- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
- C08K5/53—Phosphorus bound to oxygen bound to oxygen and to carbon only
- C08K5/5317—Phosphonic compounds, e.g. R—P(:O)(OR')2
- C08K5/5333—Esters of phosphonic acids
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
・５ 本発明は安定化された合成樹脂組成物に関し、さ
らに詳しくは、熱酸化的劣化及び光の作用による劣化に
対して安定化された合成樹脂組成物に関する。
らに詳しくは、熱酸化的劣化及び光の作用による劣化に
対して安定化された合成樹脂組成物に関する。
ポリエチレン、ポリプロピレン、ＡＢＳ）ボリフ０塩化
ビニル等の合成樹脂は熱酸化及び光の作用により劣化し
、該合成樹脂の色の変化、機械的強度の低下等を引き起
こし長期の使用に耐えないことが知られている。
ビニル等の合成樹脂は熱酸化及び光の作用により劣化し
、該合成樹脂の色の変化、機械的強度の低下等を引き起
こし長期の使用に耐えないことが知られている。
これらの害作用を防止する為に従来、種々の安■５定剤
が用いられてきたが、従来用いられてきた安定剤はその
効果が未だ不充分でありまた合成樹脂に対して着色を与
えるものもある等、長期にわたつて合成樹脂を安定化す
ることができなかつた。
が用いられてきたが、従来用いられてきた安定剤はその
効果が未だ不充分でありまた合成樹脂に対して着色を与
えるものもある等、長期にわたつて合成樹脂を安定化す
ることができなかつた。
本発明者等はかかる現状に鑑み鋭意検討を重ね３０た結
果、次の一般式（ハで表わされる多核多価フェノールホ
スホネート化合物の少なくとも一種を合成樹脂に添加す
るならば、熱酸化的劣化及び光の作用による劣化に対し
て長期にわたつて安定化された合成樹脂組成物が得られ
ることをみいだし本３５発明に到達した。（式中、Ｒ１
は第３ブチル基を示し、Ｒ２及びＲ３は水素原子または
アルキル基を示す。
果、次の一般式（ハで表わされる多核多価フェノールホ
スホネート化合物の少なくとも一種を合成樹脂に添加す
るならば、熱酸化的劣化及び光の作用による劣化に対し
て長期にわたつて安定化された合成樹脂組成物が得られ
ることをみいだし本３５発明に到達した。（式中、Ｒ１
は第３ブチル基を示し、Ｒ２及びＲ３は水素原子または
アルキル基を示す。
Ｒ４はアルキル基、アリール基、アルキルアリール基ま
たは多価フエノールの残基を示す。４は２ないし４価の
多核多価フエノールまたはその水素化物の残基を示す。
たは多価フエノールの残基を示す。４は２ないし４価の
多核多価フエノールまたはその水素化物の残基を示す。
ｎは１ないし８を示す。ｍはｌないし５を示す。ｌは０
，１または２を示す。Ｘは水素原子またはを示す。
，１または２を示す。Ｘは水素原子またはを示す。
）本発明で用いられる一般式（１）で示される化合物を
さらに詳しく説明する。
さらに詳しく説明する。
アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル
、第３ブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、デシル
、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、オクタデシル
、などの直鎖または分枝の炭素数１ないし２４のものが
あげられる。
、第３ブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、デシル
、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、オクタデシル
、などの直鎖または分枝の炭素数１ないし２４のものが
あげられる。
アリール基としてはフエニル、ナフチルなどがあげられ
、アルキルアリールとしてはメチルフエニル、エチルフ
エニル、第３ブチルフエニル、オクチルフエニル、ノニ
ルフエニルなどがあげられる。多核多価フエノールとし
てはたとえば、４，４′シクロヘキシリデンビスフエノ
ール、４，４′ビス（２，６−ジ一第３ブチルフエノー
ノ（ハ）、４，４しメチレンビス（２−メチル−６−第
３ブチルフエノーノ（ハ）、４，４′−メチレンビス（
３−メチル−６一第３ブチルフエノーノ（ハ）、ビスフ
エノールＡ，４，４′−イソプロピリデンビス（２−フ
エニルエチルフエノーノ（ハ）、４，４′−ｎ−ブチリ
デンビス（３−メチル−６一第３ブチルフエノーノ（ハ
）、４，４′−シクロヘキシリデンビスフエノール、４
，４′−シクロヘキシリデンビス（２一第３ブチルフエ
ノーノ（ハ）、４，４′−シクロヘキシリデンビス（２
シクロヘキシルフエノーノ（ハ）、４，４′−ベンジリ
デンビス（２一第３ブチル−５−メチルフエノール）、
４，４′−オキソビス（３−メチル−６イソプロピルフ
エノール入４，４′−チオビス（３メ幻レ一６一第３ブ
チルフエノーノ（ハ）、４，４′−スルホビス（３−メ
チル−６−第３ブチルフエノールロビス（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５一第３ブチルベンジル）スルフイド
、４，４′−スルホビスフエノール、４，４′−チオビ
ス（２−メチル−６一第３ブチルフエノール）、４，４
′−メチレンビスフエノール、４，４′−オキソビスフ
エノール、４，４′−イソプロピリデンビス（２一第３
ブチルフエノール）、１，１，３−トリス（２′一メチ
ル一４′−ヒドロキシ−５′一第３ブチルフエニノ（ハ
）ブタン、１−（３′，５′−ジ一第３ブチル−４′ヒ
ドロキシフエニノ（ハ）−３，３−ビス（３Ｉ一第３ブ
チル−４′５−ヒドロキシフエニル）ブタンなどがあげ
られる。
、アルキルアリールとしてはメチルフエニル、エチルフ
エニル、第３ブチルフエニル、オクチルフエニル、ノニ
ルフエニルなどがあげられる。多核多価フエノールとし
てはたとえば、４，４′シクロヘキシリデンビスフエノ
ール、４，４′ビス（２，６−ジ一第３ブチルフエノー
ノ（ハ）、４，４しメチレンビス（２−メチル−６−第
３ブチルフエノーノ（ハ）、４，４′−メチレンビス（
３−メチル−６一第３ブチルフエノーノ（ハ）、ビスフ
エノールＡ，４，４′−イソプロピリデンビス（２−フ
エニルエチルフエノーノ（ハ）、４，４′−ｎ−ブチリ
デンビス（３−メチル−６一第３ブチルフエノーノ（ハ
）、４，４′−シクロヘキシリデンビスフエノール、４
，４′−シクロヘキシリデンビス（２一第３ブチルフエ
ノーノ（ハ）、４，４′−シクロヘキシリデンビス（２
シクロヘキシルフエノーノ（ハ）、４，４′−ベンジリ
デンビス（２一第３ブチル−５−メチルフエノール）、
４，４′−オキソビス（３−メチル−６イソプロピルフ
エノール入４，４′−チオビス（３メ幻レ一６一第３ブ
チルフエノーノ（ハ）、４，４′−スルホビス（３−メ
チル−６−第３ブチルフエノールロビス（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５一第３ブチルベンジル）スルフイド
、４，４′−スルホビスフエノール、４，４′−チオビ
ス（２−メチル−６一第３ブチルフエノール）、４，４
′−メチレンビスフエノール、４，４′−オキソビスフ
エノール、４，４′−イソプロピリデンビス（２一第３
ブチルフエノール）、１，１，３−トリス（２′一メチ
ル一４′−ヒドロキシ−５′一第３ブチルフエニノ（ハ
）ブタン、１−（３′，５′−ジ一第３ブチル−４′ヒ
ドロキシフエニノ（ハ）−３，３−ビス（３Ｉ一第３ブ
チル−４′５−ヒドロキシフエニル）ブタンなどがあげ
られる。
本発明に係る前記一般式（１）で表わされる化合物の代
表例を次の表−１に示す。
表例を次の表−１に示す。
×は第３ブチル基を示す。前記表−１に示した化合物の
簡単な製法を記すと、次の合成例のごとくである。
簡単な製法を記すと、次の合成例のごとくである。
これらの製法は単なる一例であり、本発明はこれらの製
法によつて制限を受けるものではない。合成例 １ （／１６．３化合物の合成） ジフエニル一３，，５−ジ一第３ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート４５．２９（０．１ｍ０１）、
４，４′ブチリデンビス（３−メチル−６一第３ブチル
フエノール）１９．１９（０．０５ｍ０１）及びＮａＯ
ＣＨ３ｌ．２８９をとり、窒素ガス吹き込み下１７０〜
１７５℃で１時間反応させ、次に最高２ｍｗ！Ｈｇの減
圧下で１７５〜１８０℃で脱フエノールした。
法によつて制限を受けるものではない。合成例 １ （／１６．３化合物の合成） ジフエニル一３，，５−ジ一第３ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート４５．２９（０．１ｍ０１）、
４，４′ブチリデンビス（３−メチル−６一第３ブチル
フエノール）１９．１９（０．０５ｍ０１）及びＮａＯ
ＣＨ３ｌ．２８９をとり、窒素ガス吹き込み下１７０〜
１７５℃で１時間反応させ、次に最高２ｍｗ！Ｈｇの減
圧下で１７５〜１８０℃で脱フエノールした。
反応後、ガラス状の生成物をベンゼンに溶解し、水洗、
乾燥後脱溶媒して、融点１０５〜１１０℃の淡黄色ガラ
ス状固体を得た。合成例 ２（／Ｆ６ｌＯ化合物の合成
） ジフエニル一３，５−ジ一第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート８１．４９（０．１８ｍ０１）、
１，１，３−トリス（２′−メチル−４′ヒドロキシ−
５′−第３ブチルフエニル）ブタン３２．６９（０．０
６ｍ０１）及びＮａＯＣＨ３２．２９をとり窒素ガス気
流下、１７０〜１７５゜Ｃで１時間反応させた後、最高
２ｍｍＨ９の減圧下に１８０〜１８５゜Ｃで脱フエノー
ルを行なつた。
乾燥後脱溶媒して、融点１０５〜１１０℃の淡黄色ガラ
ス状固体を得た。合成例 ２（／Ｆ６ｌＯ化合物の合成
） ジフエニル一３，５−ジ一第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート８１．４９（０．１８ｍ０１）、
１，１，３−トリス（２′−メチル−４′ヒドロキシ−
５′−第３ブチルフエニル）ブタン３２．６９（０．０
６ｍ０１）及びＮａＯＣＨ３２．２９をとり窒素ガス気
流下、１７０〜１７５゜Ｃで１時間反応させた後、最高
２ｍｍＨ９の減圧下に１８０〜１８５゜Ｃで脱フエノー
ルを行なつた。
反応後、ガラス状の生成物をベンゼンに爵解し水洗、乾
燥後脱浴媒して融点１１７〜１２『Ｃの無色ガラス状固
体を得た。合成例 ３ （滝１４化合物の合成） ジフエニル一３，５−ジ一第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート６７．８９（０．１５ｍ０１）、
４，４′−イソプロピリデンジフエノール２２．８９（
０．１ｍ０１）及びＮａＯＣＨ３ｌ．８ｌｇをとり、窒
素ガス気流下１６５〜１７０℃でｌ時間反応後、最高２
ｍｍＨｇの減圧下で１７５〜１８０℃で脱フエノールを
行なつた。
燥後脱浴媒して融点１１７〜１２『Ｃの無色ガラス状固
体を得た。合成例 ３ （滝１４化合物の合成） ジフエニル一３，５−ジ一第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート６７．８９（０．１５ｍ０１）、
４，４′−イソプロピリデンジフエノール２２．８９（
０．１ｍ０１）及びＮａＯＣＨ３ｌ．８ｌｇをとり、窒
素ガス気流下１６５〜１７０℃でｌ時間反応後、最高２
ｍｍＨｇの減圧下で１７５〜１８０℃で脱フエノールを
行なつた。
冷却後得られたガラス状固体をベンゼンに溶解し、水洗
、乾燥後脱溶媒して融点８５〜９１℃の淡黄色ガラス状
固体を得た。本発明は合成樹脂に対し前記一般式（１）
で表わされる化合物を添加することによつて安定化させ
るものであり、その添加量は合成樹脂１００重量部に対
し０．０１〜５重量部、特に０．０５〜３重量部が好ま
しい。
、乾燥後脱溶媒して融点８５〜９１℃の淡黄色ガラス状
固体を得た。本発明は合成樹脂に対し前記一般式（１）
で表わされる化合物を添加することによつて安定化させ
るものであり、その添加量は合成樹脂１００重量部に対
し０．０１〜５重量部、特に０．０５〜３重量部が好ま
しい。
本発明によつて安定化される合成樹脂としては、たとえ
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリ−
３−メチルブテン、架橋ポリエチレンなどのα−オレフ
イン重合体またはエチレン一酢酸ビニル共重合体、エチ
レン−プロピレン共重合体などのポリオレフインおよび
これらの共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、
ポリフツ化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエ
チレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフツソ化ビニリデ
ン、臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル一酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化
ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共
重合体、塩化ビニルーイソブチレン共重合体、塩化ビニ
ルー塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニルースチレンー
無水マレイン酸三元共重合体、塩化ビニルースチレンー
アクリロニトリル共重合体、塩化ビニルーブタジエン共
重合体、塩化ビニルーイソプレン共重合体、塩化ビニル
ー塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニルー塩化ビニリ
デンー酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニルーアクリル
酸エステル共重合体、塩化ビニルーマレイン酸エステル
共重合体、塩化ビニルーメタクリル酸エステル共重合体
、塩化ビニルーアクリロニトリル共重合体、内部可塑化
ポリ塩化ビニルなどの含ハロゲン合成樹脂、ポリスチレ
ン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレンと他の単
量体（例えば無水マレイン酸、ブタジエン、アクリロニ
トリルなど）との共重合体、アクリロニトリルーブタジ
エンースチレン共重合体、アクリル酸エステルーブタジ
エンースチレン共重合体、メタクリル酸エステルブタジ
エンースチレン共重合体、ポリメチルメタクリレートな
どのメタクリレート樹脂、ポリビニルアルコール、ボリ
ビニルホルマール、ポリビニルブチラール、直鎖ポリエ
ステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセター
ル、ポリウレタン、繊維素系樹脂、あるいはフエノ一ル
樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂などを挙げること
ができる。
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリ−
３−メチルブテン、架橋ポリエチレンなどのα−オレフ
イン重合体またはエチレン一酢酸ビニル共重合体、エチ
レン−プロピレン共重合体などのポリオレフインおよび
これらの共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、
ポリフツ化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエ
チレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフツソ化ビニリデ
ン、臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル一酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化
ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共
重合体、塩化ビニルーイソブチレン共重合体、塩化ビニ
ルー塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニルースチレンー
無水マレイン酸三元共重合体、塩化ビニルースチレンー
アクリロニトリル共重合体、塩化ビニルーブタジエン共
重合体、塩化ビニルーイソプレン共重合体、塩化ビニル
ー塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニルー塩化ビニリ
デンー酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニルーアクリル
酸エステル共重合体、塩化ビニルーマレイン酸エステル
共重合体、塩化ビニルーメタクリル酸エステル共重合体
、塩化ビニルーアクリロニトリル共重合体、内部可塑化
ポリ塩化ビニルなどの含ハロゲン合成樹脂、ポリスチレ
ン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレンと他の単
量体（例えば無水マレイン酸、ブタジエン、アクリロニ
トリルなど）との共重合体、アクリロニトリルーブタジ
エンースチレン共重合体、アクリル酸エステルーブタジ
エンースチレン共重合体、メタクリル酸エステルブタジ
エンースチレン共重合体、ポリメチルメタクリレートな
どのメタクリレート樹脂、ポリビニルアルコール、ボリ
ビニルホルマール、ポリビニルブチラール、直鎖ポリエ
ステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセター
ル、ポリウレタン、繊維素系樹脂、あるいはフエノ一ル
樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂などを挙げること
ができる。
更に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニト
リルーブタジエン共重合ゴム、スチレンーブタジエン共
重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹脂のブレンド品であ
つてもよい。また、過酸化物あるいは放射線等によつて
架橋させた架橋ポリエチレン等の架橋合成樹脂及び発泡
剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡合成樹
脂も包含される。本発明の組成物に、さらにフエノ一ル
系の抗酸化剤を添加することによつて酸化安定性を改善
することができる。
リルーブタジエン共重合ゴム、スチレンーブタジエン共
重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹脂のブレンド品であ
つてもよい。また、過酸化物あるいは放射線等によつて
架橋させた架橋ポリエチレン等の架橋合成樹脂及び発泡
剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡合成樹
脂も包含される。本発明の組成物に、さらにフエノ一ル
系の抗酸化剤を添加することによつて酸化安定性を改善
することができる。
フエノ一ル系抗酸化剤としてはたとえば、２，６−ジー
第３ブチル−ｐ−クレゾール、ステアリルー（３，５−
ジーメチル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコーレ
ート、ステアリルーβ一（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
ー第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジステアリル
（４−ヒドロキシ−３−メチル−５一第３ブチノ（ハ）
べンジルマロネート、２，２′−メチレンビス（４−メ
チル−６一第３ブチルフエノ一ノ（ハ）、４，４′−メ
チレンビス（２，６−ジー第３ブチルフエノ一ル）、２
，２′−メチレンビス〔６−（１−メチルシクロヘキシ
ノ（ハ）ｐ−クレゾール〕、ビス〔３，３−ビス（４−
ヒドロキシ−３一第３ブチルフエニル）ブチリツクアシ
ド〕グリコールエステル、４，４′−ブチリデンビス（
６一第３ブチル一ｍ−クレゾール）、１，ｌ，３−トリ
ス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５一第３ブチルフエ
ニノリブタン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第３ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、テトラキス〔メチレンー−３−（３，５
−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシフエニノ（ハ）プロ
ピオネート〕メタン、ｌ，３，５−トリス（３，５−ジ
ー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレ
ート、１，３，５トリス〔（３，５−ジー第３ブチル−
４−ヒドロキシフエニル）プロピオニルオキシエチル〕
イソシアヌレート、２−オクチルチオ−４，６−ジ（４
−ヒドロキシ−３，５−ジー第３ブチル）フエノキシ−
１，３，５−トリアジン、４，４′−チオビス（６一第
３ブチル−ｍ−クレゾール）などがあげられる。本発明
の組成物に侃黄系抗酸化剤を含有させることもできる。
第３ブチル−ｐ−クレゾール、ステアリルー（３，５−
ジーメチル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコーレ
ート、ステアリルーβ一（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
ー第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジステアリル
（４−ヒドロキシ−３−メチル−５一第３ブチノ（ハ）
べンジルマロネート、２，２′−メチレンビス（４−メ
チル−６一第３ブチルフエノ一ノ（ハ）、４，４′−メ
チレンビス（２，６−ジー第３ブチルフエノ一ル）、２
，２′−メチレンビス〔６−（１−メチルシクロヘキシ
ノ（ハ）ｐ−クレゾール〕、ビス〔３，３−ビス（４−
ヒドロキシ−３一第３ブチルフエニル）ブチリツクアシ
ド〕グリコールエステル、４，４′−ブチリデンビス（
６一第３ブチル一ｍ−クレゾール）、１，ｌ，３−トリ
ス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５一第３ブチルフエ
ニノリブタン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第３ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、テトラキス〔メチレンー−３−（３，５
−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシフエニノ（ハ）プロ
ピオネート〕メタン、ｌ，３，５−トリス（３，５−ジ
ー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレ
ート、１，３，５トリス〔（３，５−ジー第３ブチル−
４−ヒドロキシフエニル）プロピオニルオキシエチル〕
イソシアヌレート、２−オクチルチオ−４，６−ジ（４
−ヒドロキシ−３，５−ジー第３ブチル）フエノキシ−
１，３，５−トリアジン、４，４′−チオビス（６一第
３ブチル−ｍ−クレゾール）などがあげられる。本発明
の組成物に侃黄系抗酸化剤を含有させることもできる。
硫黄系抗酸化剤としては、たとえば、ジステアリルチオ
ジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネート、
ぺンタエリスリトールテトラ（β−ラウリルチオプロピ
オネー（ヘ）、１，３，５−トリスーβ−ステアリルチ
オプロピオニルオキシエチルイソシアヌレートなどがあ
げられる。本発明の組成物に、さらにホスフアイト系の
化合物を添加することによつて、耐光性及び耐熱性を改
善することができる。
ジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネート、
ぺンタエリスリトールテトラ（β−ラウリルチオプロピ
オネー（ヘ）、１，３，５−トリスーβ−ステアリルチ
オプロピオニルオキシエチルイソシアヌレートなどがあ
げられる。本発明の組成物に、さらにホスフアイト系の
化合物を添加することによつて、耐光性及び耐熱性を改
善することができる。
このホスフアイト系の化合物としては例えば、トリオク
チルホスフアイト、トリラウリルホスフアイト、トリデ
シルホスフアイト、オクチルージフエニルホスフアイト
、トリフエニルホスフアイト、トリス（ブトキシエチノ
（ヘ）ホスフアイト、トリス（ノニルフエニル）ホスフ
アイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスフア
イト、テトラ（トリデシノ（ハ）−１，１，３−トリス
（２−メチル−５一第３ブチル４−ヒドロキシフエニノ
（ハ）ブタンジホスフアイト、テトラ（Ｃ１２〜１５混
合アルキル）−４，４′−イソプロピリデンジフエニル
ジホスフアイト、テトラ（トリデシノ（ハ）−４，４′
−ブチリデンビス（３一メチル一６一第３ブチルフエノ
ール）ジホスフアイト、トリス（３，５−ジ一第３ブチ
ル−４−ヒドロキシフエニル）ホスフアイト、トリス（
モノ・ジ混合ノニルフエニル）ホスフアイト、水素化４
，４′−イソプロピリデンジフエノールポリホスフアイ
ト、ビス（オクチルフエニル）・ビス〔４，４′−ブチ
リデンビス（３−メチル−６一第３ブチルフエノール）
〕・１，６−ヘキサンジオールジホスフアイト、フエニ
ル・４，４′−イソプロピリデンジフエノール・ペンタ
エリスリトールジホスフアイト、トリス〔４，４′−イ
ソプロピリデンビス（２一第３ブチルフエノール）〕ホ
スフアイト、フエニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ
（ノニルフエニル）ペンタエリスリトールジホスフアイ
ト、トリス（１，３−ジーステアロイルオキシイソプロ
ピル）ホスフアイト、４，４′−イソプロピリデンビス
（２一第３ブチルフエノーノ（ハ）・ジ（ノニルフエニ
ル）ホスフアイトなどがあげられる。その他必要に応じ
て、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリシ
レート系、ピペリジン系、ニツケル錯塩系の光安定剤、
重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物
、可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯
電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させること
ができる。
チルホスフアイト、トリラウリルホスフアイト、トリデ
シルホスフアイト、オクチルージフエニルホスフアイト
、トリフエニルホスフアイト、トリス（ブトキシエチノ
（ヘ）ホスフアイト、トリス（ノニルフエニル）ホスフ
アイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスフア
イト、テトラ（トリデシノ（ハ）−１，１，３−トリス
（２−メチル−５一第３ブチル４−ヒドロキシフエニノ
（ハ）ブタンジホスフアイト、テトラ（Ｃ１２〜１５混
合アルキル）−４，４′−イソプロピリデンジフエニル
ジホスフアイト、テトラ（トリデシノ（ハ）−４，４′
−ブチリデンビス（３一メチル一６一第３ブチルフエノ
ール）ジホスフアイト、トリス（３，５−ジ一第３ブチ
ル−４−ヒドロキシフエニル）ホスフアイト、トリス（
モノ・ジ混合ノニルフエニル）ホスフアイト、水素化４
，４′−イソプロピリデンジフエノールポリホスフアイ
ト、ビス（オクチルフエニル）・ビス〔４，４′−ブチ
リデンビス（３−メチル−６一第３ブチルフエノール）
〕・１，６−ヘキサンジオールジホスフアイト、フエニ
ル・４，４′−イソプロピリデンジフエノール・ペンタ
エリスリトールジホスフアイト、トリス〔４，４′−イ
ソプロピリデンビス（２一第３ブチルフエノール）〕ホ
スフアイト、フエニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ
（ノニルフエニル）ペンタエリスリトールジホスフアイ
ト、トリス（１，３−ジーステアロイルオキシイソプロ
ピル）ホスフアイト、４，４′−イソプロピリデンビス
（２一第３ブチルフエノーノ（ハ）・ジ（ノニルフエニ
ル）ホスフアイトなどがあげられる。その他必要に応じ
て、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリシ
レート系、ピペリジン系、ニツケル錯塩系の光安定剤、
重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物
、可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯
電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させること
ができる。
次に本発明を実施例によつて具体的に説明する。
しかしなｌ）３ら本発明はこれらの実施例によつて限定
されるものではない。実施例 １ 未安定化ポリプロピレン樹脂（ＰｒＯｆａｘ６５Ｏｌ）
１００重量部に試料化合物（表−２）０．３重量部を加
え、らいかい機にて１０分間混和した。
されるものではない。実施例 １ 未安定化ポリプロピレン樹脂（ＰｒＯｆａｘ６５Ｏｌ）
１００重量部に試料化合物（表−２）０．３重量部を加
え、らいかい機にて１０分間混和した。
この配合混和物を１８０℃の温度で６分間ミキシングロ
ールで混練し、次いで１８０℃で２００ｋ９／ＣＴｌ．
で５分間圧縮成型し厚さ１．０Ｕ７７！のシートを作成
した。このシートから試験片を作り１６０℃のギヤーオ
ーヴン中での熱安定性を測定した。
ールで混練し、次いで１８０℃で２００ｋ９／ＣＴｌ．
で５分間圧縮成型し厚さ１．０Ｕ７７！のシートを作成
した。このシートから試験片を作り１６０℃のギヤーオ
ーヴン中での熱安定性を測定した。
結果を表２に示す。実施例 ２
次の配合により、実施例１と同様にして厚さ１．０關の
試験片を作成した。
試験片を作成した。
この試験片を用いて１６０℃のギヤーオーブン中での熱
安定性及び水銀ランプ照射による耐光性を測定した。
安定性及び水銀ランプ照射による耐光性を測定した。
結果を表−３に示す。く配合〉
実施例 ３
次の配合により、１５０℃で５分間ミキシング．［ロー
ルで混練し、次いで１５０℃、１８０Ｋｇ／ｍｌで５分
間圧縮成型を行い、厚さ１．２ｍ１Ｌのシートを作成し
た。
ルで混練し、次いで１５０℃、１８０Ｋｇ／ｍｌで５分
間圧縮成型を行い、厚さ１．２ｍ１Ｌのシートを作成し
た。
このシートを１０Ｘ２０１Ｌｍの試験片として、アルミ
箔上、１５０℃でのギヤーオーブン中での熱安定性を測
定し、またウエザオメータ一中での耐光性を測定した。
結果を表−４に示す。実施例 ４ＡＢＳ樹脂（Ｂｌｅｎ
ｄｅｘｌｌｌ） １００重量部Ｚｎ−ステアレート
０．５試料（表−５） ０．３
上記配合物をロール練り後プレスして厚さ０．５鼎のシ
ートを作成した。
箔上、１５０℃でのギヤーオーブン中での熱安定性を測
定し、またウエザオメータ一中での耐光性を測定した。
結果を表−４に示す。実施例 ４ＡＢＳ樹脂（Ｂｌｅｎ
ｄｅｘｌｌｌ） １００重量部Ｚｎ−ステアレート
０．５試料（表−５） ０．３
上記配合物をロール練り後プレスして厚さ０．５鼎のシ
ートを作成した。
このシートを用い、１３５℃のギヤーオーブン中で２０
時間加熱後のシートの着色の度合をハンダ一比色計で測
定し白色度で示した。また、ウエザオメータ一で８００
時間照射後の抗張力残率を測定した。結果を表−５に示
す。
時間加熱後のシートの着色の度合をハンダ一比色計で測
定し白色度で示した。また、ウエザオメータ一で８００
時間照射後の抗張力残率を測定した。結果を表−５に示
す。
実施例 ５
ポリ塩化ビニル樹脂（ＧｅＯｎｌＯ３ＥＰ）１００部、
ジオクチルフタレート４２部、エポキシ化大豆油３部、
亜鉛ステアレート０．３部、バリウムステアレート０．
５部、ステアリン酸０．３部及び試料化合物（表−６）
０．３部をミキシングロール１７５℃の温度で５分間混
練したあと１７５℃〉実施例 ７本発明に係る化合物の
エチレン酢酸ビニル共重合体に対する効果をみるために
、次の配合で試料初温度で圧縮成型し透明なシートを作
成した。
ジオクチルフタレート４２部、エポキシ化大豆油３部、
亜鉛ステアレート０．３部、バリウムステアレート０．
５部、ステアリン酸０．３部及び試料化合物（表−６）
０．３部をミキシングロール１７５℃の温度で５分間混
練したあと１７５℃〉実施例 ７本発明に係る化合物の
エチレン酢酸ビニル共重合体に対する効果をみるために
、次の配合で試料初温度で圧縮成型し透明なシートを作
成した。
次いで１９０℃の温度ギヤーオーヴン中空気雰囲気下で
熱劣化試験を行つた。又劣化時間は着色の度合で判断し
た。またウエザオメータ一中での耐光性試験も行なつた
。その結果を表−６に示す。
熱劣化試験を行つた。又劣化時間は着色の度合で判断し
た。またウエザオメータ一中での耐光性試験も行なつた
。その結果を表−６に示す。
実施例 ６
ポリブチレンテレフタレート １００重量部試
利（表−７） ０．２上記配合物を２７
０℃でインジエクシヨン加工Ｚし試験片を作成した。
利（表−７） ０．２上記配合物を２７
０℃でインジエクシヨン加工Ｚし試験片を作成した。
この試験片を用いてウエザオメータ一中５００時間照射
後の抗張力残率を測定した。また１５０℃、２４０時間
熱老化後の抗張力残率も測定した〇結果を表−７に示す
。
後の抗張力残率を測定した。また１５０℃、２４０時間
熱老化後の抗張力残率も測定した〇結果を表−７に示す
。
た。
また、ウエザオメータ一中で５
の抗張力残率を測定した。
結果を表−８に示した。
〈配合〉
００時間照射後１００部
エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂０．３
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次の一般式（ I ）で表わされる化合物の少なくと
も１種を添加してなる安定化された合成樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中、Ｒ
＿１は第３ブチルを示し、Ｒ＿２及びＲ＿３は水素原子
またはアル基を示す。 Ｒ＿４はアルキル基、アリール基、アルキルアリール基
または多価フェノールの残基を示す。 ［Ａ］は２ないし４価の多核多価フェノールまたはその
水素化合の残基を示す。ｎは１ないし８を示す。ｍは１
ないし５を示す。ｌは０、１または２を示す。Ｘは水素
原子または▲数式、化学式、表等があります▼ を示す。 ）
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51086274A JPS5914055B2 (ja) | 1976-07-20 | 1976-07-20 | 安定化された合成樹脂組成物 |
| US05/817,499 US4145333A (en) | 1976-07-20 | 1977-07-20 | Stabilized synthetic resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51086274A JPS5914055B2 (ja) | 1976-07-20 | 1976-07-20 | 安定化された合成樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5311944A JPS5311944A (en) | 1978-02-02 |
| JPS5914055B2 true JPS5914055B2 (ja) | 1984-04-03 |
Family
ID=13882234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51086274A Expired JPS5914055B2 (ja) | 1976-07-20 | 1976-07-20 | 安定化された合成樹脂組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4145333A (ja) |
| JP (1) | JPS5914055B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4690964A (en) * | 1983-01-26 | 1987-09-01 | Mobay Corporation | Thermoplastic polyurethane compositions having improved flame resistance |
| JPH0274341A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-14 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 温水循環用パイプ |
| US10526277B2 (en) | 2013-10-17 | 2020-01-07 | Swimc Llc | Food or beverage containers coated with polymers of di(amido(alkyl)phenol) compounds |
| MX2016015219A (es) | 2014-05-19 | 2017-03-23 | Valspar Sourcing Inc | Polieteres que contienen grupos ciclicos no bisfenolicos. |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3510507A (en) * | 1963-01-02 | 1970-05-05 | Humble Oil & Refining Co | Novel polycarbonates |
| US3769372A (en) * | 1971-05-24 | 1973-10-30 | Ciba Geigy Corp | Polyol esters of alkylated-4-hydroxybenzyl phosphinic acids |
| US3839506A (en) * | 1973-04-16 | 1974-10-01 | Borg Warner | Hindered phenol pentaerythritol phosphonate |
| US3962377A (en) * | 1973-09-25 | 1976-06-08 | Ciba-Geigy Corporation | 2,3,5-Trialkyl-4-hydroxybenzylphosphonates and phosphinates |
-
1976
- 1976-07-20 JP JP51086274A patent/JPS5914055B2/ja not_active Expired
-
1977
- 1977-07-20 US US05/817,499 patent/US4145333A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5311944A (en) | 1978-02-02 |
| US4145333A (en) | 1979-03-20 |
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