JPS62297491A - 容器用電解クロムメツキ鋼板の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １　発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は耐食性、溶接性及び接着強度の耐経時劣化性等
にすぐれた容器用電解クロムメッキ鋼板の製造法に関す
るものである。

〔従来の技術〕

近年、食品毎における製缶方式、缶デザインは著しく進
歩かつ多様化し、これらに適応する低価格の容器用表面
処理鋼板の要求が高い。

この要求は、溶接缶或いはＤＲＤ缶による製缶方式で特
に要望されている。

溶接缶は、接合部の強度が高く、接合不良に基づく漏洩
缶発生率が非常に低く、また接合部のラップ代が小さく
外観が美麗である皇、及び製缶設備投資額が少なくてす
む等の利点から、急速に発展している。

また、ＤＲＤ缶についても缶胴部に接合部がなく、従っ
てビード加工が容易であるなどの利点から、その発展は
著しい。

溶接缶用素材には、溶接性にすぐれている事が自然必要
であることから、鋼板表面に金属Ｃｒ層と水利酸化Ｃｒ
層の二層被膜を設けた鋼板、所謂ＴＦ　Ｓ−ＣＴ　（Ｔ
ｉｎ　Ｆｒｅｅ　５ｔｅｅｌ　−Ｃｈｒｏｍｉｕｍ　Ｔ
ｙｐｅ）材の使用が拡大されなかった。

すなわち、ＴＦＳ−ＣＴ材はそのまま溶接缶に適用した
場合、溶接部にスズラッシュ（所鉗散り）溶接欠陥を生
成し易く、適正溶接範囲が殆んど存在しない。従って、
溶接部の該クロメート被膜を研削除去し、遅い溶接スピ
ードで雑缶の一部で使用されている程度にすぎない。

また、ＴＦＳ−ＣＴ材の溶接性改善方法として、特開昭
５５−１８５４２号公報がある。この技術は電解液中の
硫酸根、硝酸根、塩素イオン含有量を少量保持すること
によって、溶接性に悪影響を及ぼす金属Ｃｒ層の量を低
下せしめ、水利酸化Ｃｒ層の質を改善したものである。

この低溶接時の加圧力によって水利酸化Ｃｒ層を破壊さ
れ易くするため、金属Ｃｒ層を粒状に析出せしめる事に
よって、溶接性を改善する方法の文献もある０ これらの方法は、溶接性の改善が見られるものの、耐食
性を向上する金属Ｃｒ層の被膜量が減少せしめられ或い
は金属Ｃｒ層が不均一に生成せしめられる等、必ずしも
満足すべき耐食性と塗装後の耐食性が得られない問題が
あった。

一方、ＤＲＤ缶については、塗料密着性にすぐれている
ＴＦＳが一般に多く使用されている。

近年、特に製缶コスト低減化から使用素材の薄手化に伴
ない缶強度を確保するためマルチビード加工を施した製
缶方式、塗装工程の合理化によるシングルコート化等の
ように耐食性の面から不利な製缶方式が発展しつつある
。したがってＴＦＳ素材の耐食性化或いは塗装後の耐食
性の向上等その要望は著しく高い。

〔発明が解決しようとする問題点〕

かかる状況から、本発明は耐食性向上について種々検討
を行ない、溶接缶用素材或いはＤＲＬ）缶用素材等とし
て要求される耐食性及び塗膜欠陥部等の耐食性と溶接性
能にもすぐれしかも接着強度の経時劣化の少ない電解ク
ロムメッキ鋼板の製造方法を提供するものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は鋼板表面上にＮｉ拡散被覆層を設け、その上層
に金属Ｃｒ層と水和酸化Ｃｒ層からなる電解クロムメッ
キ層を設けた耐食性、塗装性、塗装後針食性にすぐれた
容器用ＴＦＳ鋼板の製造法であシ、その要旨は、鋼板表
面に１片面付着量で３０〜２０００１Ｎｖ′−のＮ１被
覆処理を施して非酸化性雰囲気中で加熱拡散処理を施し
た後、そのまま或いは表面活性化処理後、片面付着量で
金属Ｃｒ層１５〜１５０１１Ｆ／−と金属Ｃｒ量換算で
水利酸化Ｃｒ層５〜３０１１Ｐ／ｒｒ？を設けた容器用
電解クロムメッキ鋼板の製造法である。

本発明のように電解クロムメッキ層の下層ＫＮｉ拡散処
理層を設けた容器用鋼板は、従来のように鋼板表面に直
接電解クロムメッキ層を設は板等の鋼表面に比較して、
電位的に貴であυ耐食性にすぐれている。その結果とし
て、クロムメッキ層が鋼表面に対し電位的に貴であるた
め原板が穿孔腐食タイプであるのく比較して、Ｎｉ拡散
処理層を有する鋼表面はクロムメッキ層に対して電位的
に責であるため、電解クロムメッキ層の欠陥部（ピンホ
ール等）が生成されても、原板の穿孔腐食の防止効果が
極めて大きい。

すなわち、金属Ｃｒ層を薄メツキ処理した鋼板や粒状の
不均一金属Ｃｒ層を有する鋼板のように、ピンホール等
のメッキ欠陥を生成し易いＴＦＳ鋼板にＮｉ拡散処理層
を施した場合、穿孔腐食が防止され、その耐食性の向上
効果、耐食寿命の延長効果停缶性能が改善される。

また、ＤＲＤ缶のビード加工部や缶蓋材等の巻き締め部
等の加工を受ける部分において、塗膜のクラック或いは
クロムメッキ層のクラック生成が生じた部分等の塗膜欠
陥部や被覆層の欠陥部においても同様にメッキ原板から
の穿孔腐食が防止される等塗装後の耐食性、耐食寿命停
缶性能が改善される。

仲）本発明のごときＮｉ拡散処理層を有するＴＦ’Ｓを
溶接缶に使用した場合、溶接部の耐食性が従来材以上に
すぐれている。一般に溶接部の表面は、ワイヤーシーム
抵抗溶接の場合、電解クロムメッキ層がワイヤー電極に
付着して除去されるため、鉄或いは鉄の酸化物で構成さ
れている。したがって実際の使用に際してこのような溶
接部は、塩ビゾル系の補修塗装を施して実際の使用に供
されるが、この補修塗料が缶内容物に長期開眼された場
合経時塗料密着性或いは塗膜欠陥部の耐食性が必ずしも
充分でなかった。

一方、本発明のようにＮｉ拡散処理層をＴＦＳの原板と
して使用した場合は、溶接部がＮｉを含有するＮｉ　−
Ｆｅ合金層或いはこれらの表面が酸化したＮｉ　−Ｆｅ
合金層で構成されている。したがってＦｅ層のみで構成
され３給。

に比して、前記の補修塗料の経時塗料密着性及び耐食性
が極めて良い。

また、Ｎｉ拡散層はＦｅに比して融点が低いため、溶接
ナゲツト形成に有利であり、その溶接範囲拡大の点から
も極めて有利である。

以下に本発明の詳細について説明する。

本発明において原板には、現在鉄鋼業界で広く一般に使
用されているブリキ、ＴＦＳ（ティンフリースチール）
等の表面処理用原板として製造されている冷間圧延鋼板
又は焼鈍調質圧延を行なったフルフィニツシユ仕上げの
冷延鋼板が使用される。

すなわち、冷間圧延ま−１（Ａｓ　Ｃｏ１ｄ材）の鋼板
に、脱脂処理による表面清浄化を行なった後、或いは脱
脂処理後酸洗による活性化処理を行なった後、Ｎｉ被覆
処理を施す。又、場合によっては焼鈍、調質圧延等を行
なったフルフィニツシユ材を前記の如く、表面清浄化或
いは表面清浄化、活性化処理した後ＫＮｉ被覆処理が施
される０このようなＮｉ被覆処理方法については、特に
規定されるものではなく、電気メツキ方法、Ｎｉ含有水
溶液の塗布方法等を採用してもよい。中でも電気メツキ
方法は、硫酸ニッケルー塩化ニッケルーホウ酸系電解浴
を用いて、電流密度５〜５０　Ａ／Ｃ１ｒｒ？　、常温
〜７０℃の条件で行なうとよい。

また、さく酸ニッケルー界面活性剤系水溶液をスプレィ
処理或いは静電霧化処理によって塗布後、ロールワイピ
ング或いは流体ワイピング等によシ付着量を制御し、乾
燥する。Ｎｉ被覆処理が施される。

これらいずれの方法を使用してもよいが、Ｎｌ被覆処理
層の均一性、高速処理性及び付着量の任意な選択性、特
に付着量を多くしうる点等の利点から電気メツキ法が有
利である。

而して、本発明の目的とする効果を得るためにはＮ１被
覆層の付着量重要であシ、片面当シの付着量で３０〜２
０００η／−が必要である。Ｎｉ被覆層が３０η／−未
満では、拡散処理層のＮｉ濃度が低く、生成されるＮｉ
　−Ｆｅ拡散層と電解クロムメッキ層との複合効果によ
る耐食性、塗装後耐食性及び溶接性或いは溶接部の性能
向上が得られない。

また、Ｎｉ被膜の付着量が２０００　ｙｑ／−をこえる
場合は前記の性能向上効果が飽和し、経済的でなくなる
とともに、Ｎｉ金属は水素を吸蔵し易い性質から拡散被
覆層が硬質化し、ビード加工、巻き締め加工等でクラッ
クを発生し、耐食性を劣化する。従って拡散処理層を設
けるためのＮｉ被覆層の付着量は片面当９３０〜２００
０〜／ｒｒ？、好ましくは１００〜１０００キ／Ｒであ
る。

尚、このＮｉ被覆層を設ける過程において、薬剤、電極
等から不可避的不純物として含有されるＳ等は何ら本発
明の支障となるものではない。

このようにしてＮｉ″ｆｉ覆層を施した後、拡散処理が
施される。

拡散処理は、この処理において酸化を防止するため非酸
化性雰囲気、例えばＮ、ガス、Ａｒガス、Ｈ，ガス混合
−Ｎ、ガス（例えばＭｉＸガス、ＮＨｓ分解ガス等）中
で行なわれる。特に、Ｈ，ガスを含有する雰囲気が、Ｎ
ｉ被覆処理後の表面酸化物の還元も行ないうる点で有利
である。

また、拡散処理条件は、材質制御のための加熱温度、Ｎ
１被覆層の付着量、狙いとする拡散処理層のＮ１濃度等
に対応して各々加熱拡散時間は任意に決められる。

例えば、連続焼鈍方式の場合には、使用される缶用途の
テンパ一度によって各々６００〜８００℃の範囲で、焼
鈍時間は１０〜１８０秒が選ばれる。

また、バッチ焼鈍（箱焼鈍）の場合には、６００〜７０
０℃で１０〜２０数時間の加熱処理が行なわれる。

尚、本発明において拡散処理を焼鈍と同時に行なう方法
が工程上有利である。すなわち、冷間圧延のままの鋼板
表面ｉＣ，Ｎｉ被覆層を施した後焼鈍と拡散処理を同時
に行なう方式が製造工程上有利であシ、また冷間圧延材
は加工歪を有するため、Ｎｉ被覆層と原板の相互拡散が
容易に生じるため、短時間の拡散処理ができるので望ま
しい。

尚、電解クロムメッキ前のメッキ原板の処理層としてＮ
ｉ被覆処理を主体として記述したが、本発明においては
以下の合金被覆層を設けてもよい。

すなわち、■Ｎｉとほぼ同様の性能を有するＣＯ金金属
含有するＮｉ　−Ｃｏ合金、■加熱拡散処理を施された
場合には、Ｎｉ−Ｆｅ合金拡散層が生成されるので、予
めＮｉ被覆処理の代シにＮｉ　−Ｆｅ合金被覆処理を施
しておいても同様の効果が得られる。

従って、本発明においては、Ｎｉ　−Ｃｏ合金、Ｎｉ　
−Ｆｅ合金の各被覆層を施し、加熱拡散処理を行なって
もよい。

このようにＮｉ拡散処理層を施した後、電解クロムメッ
キが施される。この場合、各々（ａ）拡散処理後直ちに
クロムメッキ、（ｂ）拡散処理後酸洗による活性化処理
を施した後クロムメッキ、（Ｃ）材質、形状矯正の調質
圧延或いは冷間圧延を拡散処理後に施してから、脱脂に
よる表面清浄化、表面清浄化後の活性化処理を行なって
からクロムメッキ等の工程で電解クロムメッキ層が施さ
れる。而して、電解クロムメッキについては、％に規制
するものではないが、通常のＴＦＳ電解クロムメッキ工
程で施される方法が採用される。

例えば、Ｃｒ０１−８０４　　系浴、ＣｒＪ）３−　Ｎ
ａ、Ｓ　１Ｆ−８Ｏ６系浴、或いはＳ０４　が微量しか
含有されない遊離フッ素が含有される。ＣｔＯ，−ＮＨ
，Ｆ　−ＨＢＦ、　−ＳＯ，系浴等、Ｃｒ　Ｏ，に陰イ
オンとしてＳ０４　　、Ｆ　１Ｓ０４　　＋　Ｆ　　が
含有されるメッキ浴が使用される。これらメッキ浴中で
、Ｎ１拡散処理層を設けた鋼板は、電流密度４０〜１５
０Ａ／ｄｍ’、メッキ浴温３０℃〜８０℃の温度で、所
定の被膜量に対応して陰極電解処理が行なわれる。

陰極電解処理において、金属Ｃｒ層と水利酸化Ｃｒ層が
同時に生成されるが、メッキ浴と同一処理浴中にて水和
酸化Ｃｒ層の一部を溶解してその水和酸化Ｃｒ層の量を
調整する、所！１１１ステップ法及び前記と同様に陰極
電解処理によシ金属Ｏｒ層と水利酸化Ｃｒ層を設けてか
ら、水利酸化Ｃｒ層の大部分を溶解して新たに別電解槽
で水利酸化Ｃｒ層の被膜量を調整して設ける２ステツプ
法の両方式の電解クロムメッキ方式も使用される。

この電解処理によるクロムメッキ層の被膜量は本発明に
おいて金属Ｃｒ層が１５〜１５０ｊｌＰ／ｍ”、水利酸
化Ｃｒ層が５〜３０　ｒａｙ／−の範囲に規制する。

すなわち、金属Ｃｒ層が１５Ｗｖ′−未満では、金属Ｃ
ｒ層の均一被覆性が充分でなく、充分な耐食性が得られ
ない。

また、金属Ｃｒｆ＠が１５０η／Ｒをこえる場合には、
加工によシ金属Ｃｒ層にクランク発生等のダメージを受
は易く、耐食性を劣化する傾向にある。

従って、金属Ｃｒ層の被膜量は１５〜１５０令９、好ま
しくは、３０〜１２０〜／−である。

また、水和酸化Ｃｒｒｉｉ！＜ついては、金９４Ｃｒ量
換算で５η／−未満では、水利酸化Ｃｒ層の金属Ｃｒ層
に対する均一被覆性が不充分で充分な塗装性能が得られ
ない。

一方、その被膜量が３０〜／Ｒを越える場合は塗装性能
同上効果が飽和するとともに、外観が黄着色し商品価値
を損ない、しかも水和酸化Ｃｒ層にクラックが生成され
易くなって塗膜に対するクラックの発生源になシ、塗装
性能を劣化せしめる。

従って、水利酸化Ｃｒ　ノーの被膜量は、金属Ｃｒ量換
算で片面当９５〜３０■汐、好ましくは７．５〜２０．
岬１ｒｒ？である。

さらに、本発明を溶接缶用に使用する場合は溶接性の点
から、高融点金属である金属Ｃｒ層と接触抵抗値を高め
る水和酸化Ｃｒ層を減少させる方が有利である。しかし
ながら、前記の如く、耐食性と塗装性能を必要とする溶
接缶の用途には、金属Ｃｒ層１５〜８０ｖ／ｍ”、好ま
しくは３０〜５０ｍｇ／ｍ２１水和酸化Ｃｒ層・５〜２
０、好ましくは７．５〜１５　ｑ／ｍ”の範囲で溶接欠
陥の発生減少、溶接範囲の拡大等の点からも有利である
０また、本発明において、溶接性改善のため上記電解ク
ロムメッキの過程において、一部陽極処理を付加して金
属Ｃｒ層に粒状の不均−Ｃｒ層を設ける方法を適用して
も何ら差支えるものではない。

さらに、本発明の利点として、次の様な効果が得られる
。

すなわち、レトルト処理が施されて接着缶に使用される
場合や高温の腐食溶液に長期開眼される場合のように、
接着強度の経時劣化の少ないＴＦＳｇ４板の製造には、
陰イオンのフッ化物を主体とするメッキ浴が使用される
。このメッキ過程において、遊離フッ素の影響によシ、
原板の鋼ストリップからＦｅイオンの溶解を生じ、メッ
キ浴中ＫＦｅイオンが蓄積するとともに５遊離フッ素イ
オン濃度の変化が生じ易い欠点を生じる０ その結果として接着強度の経時劣化を生じ、その性能が
安定しＫくい欠点がある。これに対し、本発明のよう（
／（Ｎｉ拡散被覆層を有する鋼板をメッキ原板として使
用する場合、鋼板表面に比して、フッ素イオンに対する
耐溶解性のすぐれた表面層を有し、上記問題点の解決に
極めて有効である。

すなわち、メッキ浴中の遊離フッ素イオンの変動が生じ
Ｋくいため、長期連続メッキ作業において、長期に安定
して均一被覆性のすぐれた水利酸化Ｃｒ層被膜が得られ
るとともに経時密着性のすぐれた接着強度を有する電解
クロムメッキ鋼板が得られる。

〔実施例〕

以下に本発明の実施例について述べる。

実施例１ 冷間圧延のままの鋼板（Ａｓ　Ｃｏ１ｄ　）材を主体に
、一部にフルフィニツシユ仕上げした冷延鋼板を用いて
、脱脂による表面清浄化処理及び酸洗による活性化処理
を施した後回に示す条件でＮｉ′Ｆｔ気メッキ金メツキ
た。

その被膜量を電気量で調整し、第１表に示す所定量のＮ
ｉ量を設け、拡散処理後、＠に示す条件で各種の電解ク
ロムメッキ処理を施した。このｔ屏りロムメッキ層の金
属Ｃｒ層と水利酸化Ｃｒ層の被膜量は、各々メツΦ時の
電気量の調整及びメッキ浴中での電解後の溶解時間の調
整によシ、第１表に示す所定量の被覆層を設けた０囚　
Ｎ１メッキ条件 電流密度　１０〜３５　Ａ／ｄｍ’ メッキ浴温　６０℃ 壷　一部の実施例について、Ｎｉメッキ層の代ｆｉ　Ｋ
Ｎｉ合金メッキ層の効果も併せ検討するため、硫酸コバ
ルト、硫酸鉄を含有せしめてＮｉ合金メッキしたものに
ついても評価を実施した。

■　電解クロムメッキ ＯＢ　−（１）　　Ｃｒ　０３　　ｂ　”４　　系浴電
流密度　６０〜８０Ａ／ｄｆｆ／ メツキ浴温　６０℃ ０Ｂ−（２）　　Ｃｒｙ、−８ｏ、　　−フッ化物系谷
電流密度　６０〜８０Ａ／ｄｒｒ？ メツキ浴温　６０℃ 上記各処理材について以下に示す■〜◎の項目について
評価テストを実施し、その性能を評価した。

■　無処理材の耐食性 ＴＦＳのメッキ欠陥部或いは加工による・被膜欠陥発生
部の耐食性評価を目的として、０．２２■Ｘ５０ｍＸ５
０ｍサイズの評価材に対して表面からスクラッチ疵を入
れた試料について以下の条件で耐食性試験を実施した。

すなわち、市販のリン酸系飲料を用い、当雰囲気中で５
０℃で１２日間の浸漬試験を行ない、そのＦｅ溶出量を
測定して、耐食性評価を行なった。評価基準は以下の方
法によった。

◎・・・・・・Ｆｅ溶出量が４０　ｐｐｍ未満Ｏ・・・
・・・Ｆｅ溶出量が４０　ｐｐｍ以上〜８０　ｐｐｍ未
満Δ・・・・・・Ｆｅ溶出量がｓｏｐｐｍ以上〜１２０
　ｐｐｍ未満×・・・・・・Ｆｅ　＠出量が１２０９Ｐ
ｍ以上又、その穿孔腐食性に関し、１６５％クエン酸水
溶液中で、２７℃、当雰囲気下で１２日浸漬テストを行
ない、スクラッチ部からの穿孔腐食深さを測定して、そ
の穿孔腐食性の評価を以下の評価基準で行なった。

◎・・・・・・最大穿孔腐食深さが０．１０　ｔｅａ未
満○・・・・・・最大穿孔腐食深さが０．１０　ｔａｘ
以上〜０．１５置未満 Δ・・・・・・最大穿孔腐食深さが０．１５　ｗｍ以上
〜０．２０箇未満 Ｘ・・・・・・最大穿孔腐食深さが０．２０　ｍｓ以上
■　加工後の塗装耐食性能 マルチビード加工部の塗膜欠陥部の耐食性評価を目的に
、そのシュミレーション試験法として、評価材に対して
ＤＲＤ用缶用量用塗料ポキシ−フェノール系）を塗装後
、ＤＲＤ加工を施して空缶に対してビード加工を施して
、素材間の耐食性能を明確化するため補修塗装を施さな
いで、その塗装機耐食性能を以下の評価試験法で実施し
た。すなわち、（１，５チクエン酸＋１．５９ｂ　Ｎａ
ＣＡ　）系水溶液中に、Ｎ、雰囲気下で５０℃で１２日
間浸漬テストを行ない、塗膜下の穿孔腐食の状況を調査
して、その加工部の塗装機耐食性能を以下の評価基準で
評価した。

◎・・・塗膜下腐食殆んどなし〜最大穿孔腐食深さ０．
０５ｍ未満 Ｏ・・・最大穿孔腐食深さ０．０５■以上〜０．１０箇
未満 Δ・・・最大穿孔腐食深さ０．１１０５ｅ以上〜０．１
５澗未満 ×・・・最大穿孔腐食深さ０．１５ｍ以上■　溶接性能 ■　溶接性 ＣｕワイヤーＫＯ１３μＳｎメッキを施したワイヤーを
電極として使用して、加圧力４２階、溶接スピード３０
ｍ／―の条件で、評価材の溶接性について評価した。尚
、評価基準は適正溶接範囲での溶接によシ、その溶接欠
陥の発生状況によシ、その溶接性を評価した。

◎・・・外観上スズラッシュの発生が殆んど認められず
、またナゲツト１０個くりに空隙部の発生が２個以下 Ｏ・・・外観上スプラッシュの発生が若干認められ、ま
たナゲツト１０個当υに空隙部４個以下 Δ・・・外観上スプラッシュの発生が可成シ認められ、
またナゲツト１０個当υに空隙部の発生が８個以下 ×・・・外観上スプラッシュの発生極めて著しい。

■　　溶接部の耐食性 ■の条件で溶接した評価材について、溶接部に厚さ５０
μの塩ビゾル系補修塗料を塗装して、塗装欠陥部の性能
評価を対象とした評価テストを行なった。

すなわち、塗膜表面に対してスクラッチ疵を入れて、市
販のリンゴジュースを腐食溶液として、温度５５℃でＮ
！雰囲気中で１ケ月間の浸漬試験を行ない、その性能を
以下の評価基準で評価した０ ◎・・・スクラッチ部からの最大穿孔腐食深さ０、１０
　ｖｍ未満で、スクラッチ部からの盆料の剥離始んどな
し Ｏ・・・スクラッチ部からの最大穿孔腐食深さ０、１０
　ｅｘａ以上〜０．１５−未満で、スクラッチ部からの
塗料の剥離若干発生 Δ・・・スクラッチ部からの最大穿孔腐食深さ・：α１
５四以上〜０．２０−未満で、スクラッチ部からの塗膜
の剥離部分可成多発生×・・・スクラッチ部からの最大
穿孔腐食深さ０、２０　ｗ以上で、著しく塗膜剥離発生
実施例２ Ａｓ　Ｃｏ１ｄ材を脱脂、酸洗による表面清浄化、活性
化処理を行なってから、Ｎｉメッキ層を１５０η／？Ｆ
／電気メツキ法によシ設けてから、６３０℃で２０秒間
の加熱拡散処理を行なった。

このＮｉ拡散処理層を有する本発明の方法による鋼板に
対して、下記の遊離フッ素を含有する電解クロムメッキ
浴を用いて、長期連続電解処理を行ない、従来の鋼板に
そのまま前処理を行なって長期連続電解処理を行なった
場合と比較して、メッキ浴中のＦｅ溶解量の変動及びそ
の経時劣化後の接着強度に及ぼす影響を調査した。

その結果、第２表に示すように、本発明の方法による場
合はメッキ浴に対するメッキ原板からのＦｅ溶出量が抑
制されるためにメッキ浴中へのＦｅイオン量の蓄積が減
少せしめられ、経時劣化後の接着強度が安定して良好な
性能が得られる事が判った。

尚、電解クロムメッキ浴、電解条件及び接着強度の経時
劣化試験条件を以下に示す。

＾　電解クロムメッキ浴、電解条件 電流装置　８０　Ａ／ａｎ？ メッキ浴温　６０℃ 尚、上記条件で１秒間の電解処理及び電解後の溶解時間
の調整によυ、金属Ｃｒ層約１１０ｑ／ｒｒ？、水和酸
化Ｃｒ層約１５　”Ｐ／ｍ’のＴＦＳ鋼板を得た。

■）接着強就の経時劣化試験法 テストピースを塗装後、５Ｍ巾に剪断し、ナイロン系接
着剤を加熱圧着しテストピース作製。

その後、０．４チクエン酸中で１１０℃Ｘ１８Ｈｒ経時
させ、引張り試験機でＴ字型に引張シ、その接着強度を
測定する。

第２表　本発明の方法と従来法による メツギ浴中Ｆｅ含有量と接着強度 注：上段一本発明の方法によるＮｉ拡故処理層を有する
メッキ原板を用いた場合 下段０内；従来法のメッキ原板を用いた場〔発明の効果
〕 本発明方法は、発明の詳細な説明の項中（イ）、（ロ）
でその利点を詳述した如く、耐食性、溶接性及び接着強
度の耐経時劣化性等に優れた容器用電解クロムメッキ鋼
板が得られるものであり、当技術分野で顕著な効果を示
すものである。

て　。

本多小平 新部興ぎ−゛ □（−ンｌ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 鋼板表面に、片面付着量で３０〜２０００ｍｇ／ｍ＾２
   のＮｉ被覆処理を施して非酸化性雰囲気中で加熱拡散処
   理を施した後、そのまま或いは表面活性化処理後、片面
   付着量で金属Ｃｒ層１５〜１５０ｍｇ／ｍ＾２と金属Ｃ
   ｒ量換算で水和酸化Ｃｒ層５〜３０ｍｇ／ｍ＾２を設け
   る事を特徴とする容器用電解クロムメッキ鋼板の製造法
   。