JPS62294477A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
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- JPS62294477A JPS62294477A JP13707986A JP13707986A JPS62294477A JP S62294477 A JPS62294477 A JP S62294477A JP 13707986 A JP13707986 A JP 13707986A JP 13707986 A JP13707986 A JP 13707986A JP S62294477 A JPS62294477 A JP S62294477A
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- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 20
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
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- WKVZMKDXJFCMMD-UVWUDEKDSA-L (5ar,8ar,9r)-5-[[(2r,4ar,6r,7r,8r,8as)-7,8-dihydroxy-2-methyl-4,4a,6,7,8,8a-hexahydropyrano[3,2-d][1,3]dioxin-6-yl]oxy]-9-(4-hydroxy-3,5-dimethoxyphenyl)-5a,6,8a,9-tetrahydro-5h-[2]benzofuro[6,5-f][1,3]benzodioxol-8-one;azanide;n,3-bis(2-chloroethyl)-2-ox Chemical group [NH2-].[NH2-].Cl[Pt+2]Cl.ClCCNP1(=O)OCCCN1CCCl.COC1=C(O)C(OC)=CC([C@@H]2C3=CC=4OCOC=4C=C3C(O[C@H]3[C@@H]([C@@H](O)[C@@H]4O[C@H](C)OC[C@H]4O3)O)[C@@H]3[C@@H]2C(OC3)=O)=C1 WKVZMKDXJFCMMD-UVWUDEKDSA-L 0.000 description 1
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
産、1lJUIJJIJ=氷1
本発明は超音波洗浄装置に関し、詳しくは、電子機器等
の製造における?1浄工程に使用される超音波振動を利
用した装置に関するものである。
の製造における?1浄工程に使用される超音波振動を利
用した装置に関するものである。
従−来Ω丑血
従来、精密機械や電子機器等の製造工程には、超音波振
動をかけた溶剤中に部品類を浸して、これら表面から破
片や削り屑を除去する洗浄工程があり、この洗浄工程は
、溶剤予備洗浄、冷浴洗浄、蒸気洗浄等の複数の工程か
ら成り立つ°ζいる。
動をかけた溶剤中に部品類を浸して、これら表面から破
片や削り屑を除去する洗浄工程があり、この洗浄工程は
、溶剤予備洗浄、冷浴洗浄、蒸気洗浄等の複数の工程か
ら成り立つ°ζいる。
、 <”′ しよ゛と る1)点
ところで、−ヒ述するように洗浄工程は複数の工程から
成り、しかも通常、洗浄槽には人体で直接触れると危険
な有機溶剤を満たすので、複数の工程を単一で、人手を
介さずに実現できる装置の開発が要望されていた。しか
し、安全性、生産性及び耐久性等の面で要望を充分に満
足する装置が提供されていないのが現状であった。
成り、しかも通常、洗浄槽には人体で直接触れると危険
な有機溶剤を満たすので、複数の工程を単一で、人手を
介さずに実現できる装置の開発が要望されていた。しか
し、安全性、生産性及び耐久性等の面で要望を充分に満
足する装置が提供されていないのが現状であった。
同1漉濠独象るためqf段
本発明は被洗浄物が挾持された水平状態の治具を吊り上
げて垂下保持する昇降機構を具備したローダ部と、上記
治具を収納する昇降ケース及び固定ケースが配設された
複数の洗浄槽を並置した洗浄処理部と、洗浄処理された
垂下状態の治具を方向転換させて水平保持する移送機構
を具備したアンローダ部と、上記洗浄槽と対向する箇所
に垂下支持された爪部材を有し、且つ、洗浄処理部の上
方に昇降自在に配設された昇降フレームと、横送り機構
を介して上記昇降フレームを水平方向に間欠動させる送
りフレームと、上記アンロ−ダ部から搬出された治具を
ローダ部へ搬入する搬送機構とから成る超音波装置を提
供することにより上記問題点を解決するものである。
げて垂下保持する昇降機構を具備したローダ部と、上記
治具を収納する昇降ケース及び固定ケースが配設された
複数の洗浄槽を並置した洗浄処理部と、洗浄処理された
垂下状態の治具を方向転換させて水平保持する移送機構
を具備したアンローダ部と、上記洗浄槽と対向する箇所
に垂下支持された爪部材を有し、且つ、洗浄処理部の上
方に昇降自在に配設された昇降フレームと、横送り機構
を介して上記昇降フレームを水平方向に間欠動させる送
りフレームと、上記アンロ−ダ部から搬出された治具を
ローダ部へ搬入する搬送機構とから成る超音波装置を提
供することにより上記問題点を解決するものである。
作朋
本発明の超音波洗浄装置では、側壁内に一連に並置され
た複数の洗浄槽に、被洗浄物が挾持された治具を順次に
転送することができ、複数の工程からなる洗浄工程の自
動化が可能となる。更に、治具の搬送機構により一定数
の治具のみで連続して大量の被洗浄物の処理が可能とな
る。
た複数の洗浄槽に、被洗浄物が挾持された治具を順次に
転送することができ、複数の工程からなる洗浄工程の自
動化が可能となる。更に、治具の搬送機構により一定数
の治具のみで連続して大量の被洗浄物の処理が可能とな
る。
実JLf舛
本発明に係る超音波洗浄装置の一実施例を第1図乃至第
22図を参照しながら説明する。同図に於いて、(1)
は洗浄室(2)の搬入側に配設されたローダ部、(3)
は被洗浄物、例えば電子部品が搭載されたプリント配線
体(4)を挾持した治具で、端部に2対の四部(3a)
(3a)(3b) (3b)が形成される。(5
)は上記治具(3)を水平状態で搬入する搬入用コンベ
ヤ、(6)は水平状態の治具(3)を吊り上げて垂下保
持する昇降機構で、垂設した1対のチェーン(6a)
(6a)と、このチェーン(6a) (6a)の一
部に取り付けられた1対の型材(6b) (6b)と
、チェーン(6a) (6a)を駆動させる駆動源(
6C)とで構成される。上記型材(6b) (6b)
は治具(3)の外側1対の凹部(3b) (3b)を
引掛けて、治具(3)を垂直状態に吊下保持する。(7
)は複数(図では6槽)の洗浄槽(7a)〜(7f)が
一連に並置された洗浄処理部で、上記洗浄槽(’/a)
〜(’if)は、例えば(78)は噴流洗浄槽、(7
b)は蒸気洗浄槽、(7c)は噴射洗浄槽、(7d)は
噴流洗浄槽、(7e)は噴射洗浄槽、(7f)は蒸気洗
浄槽である。これら6槽式の洗浄槽(7n)〜 (7f
)の周囲は側壁(8)により囲われ、側壁(8)内の気
化した有機溶剤が洗浄室(2)の他の空間に漏れ出ない
ようにしている。 (9) (’l)は両端の洗浄
槽(7a)(7f) 、即ち噴流洗浄槽(7a)と蒸気
洗浄槽(7f)とに昇降自在に配設された昇降ケースで
、垂設された一対のチェーン(9a) (9aL−の
一部にケース本体(9b) (9b)の上端部が取り
付けられている。 (10) (10)−は両端以
外の洗浄槽(7b)〜(7e)内に固定保持された固定
ケースである。(1))は洗浄室(2)の搬出側に配設
されたアンローダ部、(12)は洗浄処理された垂直状
態の治具(3)を方向転換させて水平保持する移送機構
で、一端部が回動自在に取り付けられたプレー)(12
a)と、このプレート(12a)の上面に配置された第
1のシリンダ(12b)と、このシリンダ(12b)の
ロッド先端に取り付けられたケース本体(12c)と、
プレー) (12a )の下面略中央にロッド先端が取
り付けられた第2のシリンダ(12d)とから構成され
る。 (13) (13)は水平保持された治具(
3)を送り出す送りローラである。(14)は上記洗浄
処理部(7)の上方に昇降自在に配設された昇降フレー
ム、(15) (15) −はこの昇降フレーム(
14)の上記洗浄槽(7a)〜(7f)と対向する箇所
に垂下支持された爪部材で、両端の爪部材(15)
(15)は直接昇降フレーム(14)に取り付けられる
が、両端以外の爪部材(15) (15)−は突出フ
レーム(14a)を介して昇降フレーム(14)に取り
付けられる。6槽式の場合、上記爪部材(15) (
15)−は7箇所に取り付けられる。また、上記爪部材
(15)(15)の四部(15)は第2図の拡大図で示
すように、所定角度θ°佃斜させて形成され、この傾斜
により治具(3)が略垂直に吊下保持される。(16)
は横送り機構(17)を介して上記昇降フレーム(14
)を水平方向に間欠動させる送りフレームで、昇降フレ
ーム(14)はこの送りフレーム(16)に垂設された
口7ド(16a)(16a ) −m−を介して昇降自
在に一体的に配設される。また、上記横送り機構(17
)は、一端が送りフレーム(16)の一部に回動自在に
取り付けられた第1のレバー(17a)と、このレバー
(17a)の他端に一端が回動自在に連結された第2の
レバー(17b )と、このレバー(17b)の他端に
取り付けられた駆動源(17C)とで構成される。(1
8)は上記アンローダ部(1))から搬出された治具(
3)をローダ部(1)へ搬入する搬送機構で、搬入及び
搬出側にチェーン(19) (19)を介して移動可
能に配設された搬送台(18a)(18b)と、これら
搬送台(18a)(18b )同士を連絡して治具(3
)を搬送するコンベヤ(18c)とで構成される。
22図を参照しながら説明する。同図に於いて、(1)
は洗浄室(2)の搬入側に配設されたローダ部、(3)
は被洗浄物、例えば電子部品が搭載されたプリント配線
体(4)を挾持した治具で、端部に2対の四部(3a)
(3a)(3b) (3b)が形成される。(5
)は上記治具(3)を水平状態で搬入する搬入用コンベ
ヤ、(6)は水平状態の治具(3)を吊り上げて垂下保
持する昇降機構で、垂設した1対のチェーン(6a)
(6a)と、このチェーン(6a) (6a)の一
部に取り付けられた1対の型材(6b) (6b)と
、チェーン(6a) (6a)を駆動させる駆動源(
6C)とで構成される。上記型材(6b) (6b)
は治具(3)の外側1対の凹部(3b) (3b)を
引掛けて、治具(3)を垂直状態に吊下保持する。(7
)は複数(図では6槽)の洗浄槽(7a)〜(7f)が
一連に並置された洗浄処理部で、上記洗浄槽(’/a)
〜(’if)は、例えば(78)は噴流洗浄槽、(7
b)は蒸気洗浄槽、(7c)は噴射洗浄槽、(7d)は
噴流洗浄槽、(7e)は噴射洗浄槽、(7f)は蒸気洗
浄槽である。これら6槽式の洗浄槽(7n)〜 (7f
)の周囲は側壁(8)により囲われ、側壁(8)内の気
化した有機溶剤が洗浄室(2)の他の空間に漏れ出ない
ようにしている。 (9) (’l)は両端の洗浄
槽(7a)(7f) 、即ち噴流洗浄槽(7a)と蒸気
洗浄槽(7f)とに昇降自在に配設された昇降ケースで
、垂設された一対のチェーン(9a) (9aL−の
一部にケース本体(9b) (9b)の上端部が取り
付けられている。 (10) (10)−は両端以
外の洗浄槽(7b)〜(7e)内に固定保持された固定
ケースである。(1))は洗浄室(2)の搬出側に配設
されたアンローダ部、(12)は洗浄処理された垂直状
態の治具(3)を方向転換させて水平保持する移送機構
で、一端部が回動自在に取り付けられたプレー)(12
a)と、このプレート(12a)の上面に配置された第
1のシリンダ(12b)と、このシリンダ(12b)の
ロッド先端に取り付けられたケース本体(12c)と、
プレー) (12a )の下面略中央にロッド先端が取
り付けられた第2のシリンダ(12d)とから構成され
る。 (13) (13)は水平保持された治具(
3)を送り出す送りローラである。(14)は上記洗浄
処理部(7)の上方に昇降自在に配設された昇降フレー
ム、(15) (15) −はこの昇降フレーム(
14)の上記洗浄槽(7a)〜(7f)と対向する箇所
に垂下支持された爪部材で、両端の爪部材(15)
(15)は直接昇降フレーム(14)に取り付けられる
が、両端以外の爪部材(15) (15)−は突出フ
レーム(14a)を介して昇降フレーム(14)に取り
付けられる。6槽式の場合、上記爪部材(15) (
15)−は7箇所に取り付けられる。また、上記爪部材
(15)(15)の四部(15)は第2図の拡大図で示
すように、所定角度θ°佃斜させて形成され、この傾斜
により治具(3)が略垂直に吊下保持される。(16)
は横送り機構(17)を介して上記昇降フレーム(14
)を水平方向に間欠動させる送りフレームで、昇降フレ
ーム(14)はこの送りフレーム(16)に垂設された
口7ド(16a)(16a ) −m−を介して昇降自
在に一体的に配設される。また、上記横送り機構(17
)は、一端が送りフレーム(16)の一部に回動自在に
取り付けられた第1のレバー(17a)と、このレバー
(17a)の他端に一端が回動自在に連結された第2の
レバー(17b )と、このレバー(17b)の他端に
取り付けられた駆動源(17C)とで構成される。(1
8)は上記アンローダ部(1))から搬出された治具(
3)をローダ部(1)へ搬入する搬送機構で、搬入及び
搬出側にチェーン(19) (19)を介して移動可
能に配設された搬送台(18a)(18b)と、これら
搬送台(18a)(18b )同士を連絡して治具(3
)を搬送するコンベヤ(18c)とで構成される。
次に、上記構成の6槽式超音波洗浄装置(20)の動作
例を第4図乃至第22図を参照しながら説明する。先ず
、第4図に示すようにプリント配線体(4)を挾持した
水平状態の治具(3)が搬入用コンベヤ(5)により定
位置まで搬入される。次に、第5図に示すように治具(
3)の外側1対の凹!a (3b) (3b)に型材
(6b) (6b)を引掛け、この状態で型材(6b
) (6b)を最上端まで上昇させることにより、治
具(3)を吊り上げて垂下保持する。そして、第6図に
示すように昇降フレーム(14)を最下端まで降下させ
た後、治具(3)の内側1対の四部(Ja)(3a)
Lこ端部の爪部、r=t (14) (14)を引掛
りる。この状態で、第7図に示すように昇降フレーム(
14)を最」一端まで上昇させる。この時、治具(3)
の下端部は側壁(8)よりも高い位置にある。次に、第
8図に示すように送りフレーム(16)を水平方向に間
欠動さゼて、ローダ部(1)、):の治具(3)が噴流
洗浄槽(7++>の真上まで転送されると、第9図に示
すように昇降ケース(9)が最上端まで上昇する。そし
て、第10図に示すように昇降フレーム(14)を最下
端まで降下させると、爪部材(15) (15)に垂
下保持された治具(3)は昇降ケース(9)内に収納さ
れ、この状態で治具(3)の凹部(3a)(3a)から
爪部材(15) (15)をはずす。次に、第1)図
に示すように昇降フレーム(13)を最上端まで」二昇
させると共に、治具(3)が収納された昇降ケース(9
)を最下端まで降下させると、噴流洗浄槽(7a)内に
昇降ケース(9)を介して治具(3)が収容される。更
に、第12図に示すように送りフレーム(16)を水平
方向に間欠動させて最初の位置まで戻し、この状態で新
たに治JL (3)が定位置まで搬入されると、上述と
同様な動作が繰り返され、第13図に示すように治具(
3)(3)−は各洗浄槽(7a)〜(7f)に順次転送
される。そして、第14図に示すように、最終槽、即ち
蒸気洗浄槽(7f)に転送された治具(3)は、昇降ケ
ース(9)を上昇させると共に昇降フレーム(14)を
降下させることにより端部の爪部材(15) (15
)へ受け渡される。次に、第15図に示すように昇降ケ
ース(9)を降下させると共に昇降フレーム(14)を
上昇させると、昇降フレーム(14)の各爪部材<15
> (15)−には治具(3)(3)−が一連に垂下
保持された状態になる。そして、第16図に示すように
送りフレーム(16)を水平方向に間欠動させることに
より最終の蒸気洗浄槽(7f)の治具(3)はアンロー
ダ部(10)の移送機構(1))上に転送される。この
状態で第1のシリンダ(12b)のケース本体(12C
)を上昇させ、第17図に示すように昇降フレーム(1
4)を降下させると、上記ケース本体(12c)に治具
(3)が収納される。そして、第18図に示すように各
治具(3)(3)−を各爪部材(15) (151−
からはずして、昇降フレーム(14)を上昇させると共
にケース本体(9b)を降下させる。次に、第19図に
示すように第2のシリンダ(12d)のロッドを退入さ
せると、アンローダ部(1))の垂直保持された治具(
3)は水平状態に方向転換されると共に、送出ローラ(
13)に、Lす、搬出側の搬送台(18b )上に搬出
される。この状態で治具(3)からプリント配線体(4
)を堆りはずした後、第20図乃至第22図に示すよう
に搬送台(IFl b )上の治具(3)は、コンベヤ
(IFlc)を介して搬入側の搬送台(18a)J−に
搬入される。上述するような動作を繰り返すことにより
、一定数の治具(3)(3)・−で連続して大量のプリ
ント配線体(4)(4L−を各洗浄槽(7n) 〜(7
f)に転送させることが可能となる。
例を第4図乃至第22図を参照しながら説明する。先ず
、第4図に示すようにプリント配線体(4)を挾持した
水平状態の治具(3)が搬入用コンベヤ(5)により定
位置まで搬入される。次に、第5図に示すように治具(
3)の外側1対の凹!a (3b) (3b)に型材
(6b) (6b)を引掛け、この状態で型材(6b
) (6b)を最上端まで上昇させることにより、治
具(3)を吊り上げて垂下保持する。そして、第6図に
示すように昇降フレーム(14)を最下端まで降下させ
た後、治具(3)の内側1対の四部(Ja)(3a)
Lこ端部の爪部、r=t (14) (14)を引掛
りる。この状態で、第7図に示すように昇降フレーム(
14)を最」一端まで上昇させる。この時、治具(3)
の下端部は側壁(8)よりも高い位置にある。次に、第
8図に示すように送りフレーム(16)を水平方向に間
欠動さゼて、ローダ部(1)、):の治具(3)が噴流
洗浄槽(7++>の真上まで転送されると、第9図に示
すように昇降ケース(9)が最上端まで上昇する。そし
て、第10図に示すように昇降フレーム(14)を最下
端まで降下させると、爪部材(15) (15)に垂
下保持された治具(3)は昇降ケース(9)内に収納さ
れ、この状態で治具(3)の凹部(3a)(3a)から
爪部材(15) (15)をはずす。次に、第1)図
に示すように昇降フレーム(13)を最上端まで」二昇
させると共に、治具(3)が収納された昇降ケース(9
)を最下端まで降下させると、噴流洗浄槽(7a)内に
昇降ケース(9)を介して治具(3)が収容される。更
に、第12図に示すように送りフレーム(16)を水平
方向に間欠動させて最初の位置まで戻し、この状態で新
たに治JL (3)が定位置まで搬入されると、上述と
同様な動作が繰り返され、第13図に示すように治具(
3)(3)−は各洗浄槽(7a)〜(7f)に順次転送
される。そして、第14図に示すように、最終槽、即ち
蒸気洗浄槽(7f)に転送された治具(3)は、昇降ケ
ース(9)を上昇させると共に昇降フレーム(14)を
降下させることにより端部の爪部材(15) (15
)へ受け渡される。次に、第15図に示すように昇降ケ
ース(9)を降下させると共に昇降フレーム(14)を
上昇させると、昇降フレーム(14)の各爪部材<15
> (15)−には治具(3)(3)−が一連に垂下
保持された状態になる。そして、第16図に示すように
送りフレーム(16)を水平方向に間欠動させることに
より最終の蒸気洗浄槽(7f)の治具(3)はアンロー
ダ部(10)の移送機構(1))上に転送される。この
状態で第1のシリンダ(12b)のケース本体(12C
)を上昇させ、第17図に示すように昇降フレーム(1
4)を降下させると、上記ケース本体(12c)に治具
(3)が収納される。そして、第18図に示すように各
治具(3)(3)−を各爪部材(15) (151−
からはずして、昇降フレーム(14)を上昇させると共
にケース本体(9b)を降下させる。次に、第19図に
示すように第2のシリンダ(12d)のロッドを退入さ
せると、アンローダ部(1))の垂直保持された治具(
3)は水平状態に方向転換されると共に、送出ローラ(
13)に、Lす、搬出側の搬送台(18b )上に搬出
される。この状態で治具(3)からプリント配線体(4
)を堆りはずした後、第20図乃至第22図に示すよう
に搬送台(IFl b )上の治具(3)は、コンベヤ
(IFlc)を介して搬入側の搬送台(18a)J−に
搬入される。上述するような動作を繰り返すことにより
、一定数の治具(3)(3)・−で連続して大量のプリ
ント配線体(4)(4L−を各洗浄槽(7n) 〜(7
f)に転送させることが可能となる。
尚、」1記実施例に記載されている構成部品の寸法、材
質、形状、その相対配置等は、特定的な記載がない限り
は、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のもの
ではない。
質、形状、その相対配置等は、特定的な記載がない限り
は、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のもの
ではない。
発泗■劾凍
本発明の超音波洗浄装置によれば、複数の工程から成り
、危険な作業を伴う洗浄工程の自動化を、単一の装置に
より実現できる。しかも、一定数の治具で大量の被洗浄
物を連続して処理できるので、生産性を著しく向上させ
得ると共に、安全性、耐久性に優れた装置を提供できる
。
、危険な作業を伴う洗浄工程の自動化を、単一の装置に
より実現できる。しかも、一定数の治具で大量の被洗浄
物を連続して処理できるので、生産性を著しく向上させ
得ると共に、安全性、耐久性に優れた装置を提供できる
。
第1図は本発明に係る超音波洗浄装置を示す概略平面図
、第2図は第1図の概略正面図、第3図は第2図の概略
側面図、第4図乃至第19図は超音波洗浄装置の動作を
説明するための概略正面図、第20図乃至第22図は超
音波洗浄装置の動作を説明するための概186側面図で
ある。 (1)−ローダ部、 (3)−治具、(4) −被
洗浄物(プリント配線体)、(6)−W降機構、(7)
洗浄処理部、(7a)〜(7f) −洗浄槽、(9)
−昇降ケース、(10)−固定ケース、(1))−アン
ローダ部、(12)−移送機構、(14)−昇降フレー
ム、(15) −−一爪部材、 (16)−送りフ【
/−ム、(17)−一横送り機構、(18)−搬送機構
、(20) −一超音波洗浄装置。 C 駅 ゼ 伸 # 図 Cつ 転
、第2図は第1図の概略正面図、第3図は第2図の概略
側面図、第4図乃至第19図は超音波洗浄装置の動作を
説明するための概略正面図、第20図乃至第22図は超
音波洗浄装置の動作を説明するための概186側面図で
ある。 (1)−ローダ部、 (3)−治具、(4) −被
洗浄物(プリント配線体)、(6)−W降機構、(7)
洗浄処理部、(7a)〜(7f) −洗浄槽、(9)
−昇降ケース、(10)−固定ケース、(1))−アン
ローダ部、(12)−移送機構、(14)−昇降フレー
ム、(15) −−一爪部材、 (16)−送りフ【
/−ム、(17)−一横送り機構、(18)−搬送機構
、(20) −一超音波洗浄装置。 C 駅 ゼ 伸 # 図 Cつ 転
Claims (1)
- (1)被洗浄物が挾持された水平状態の治具を吊り上げ
て垂下保持する昇降機構を具備したローダ部と、上記治
具を収納する昇降ケース及び固定ケースが配設された複
数の洗浄槽を並置した洗浄処理部と、洗浄処理された垂
下状態の治具を方向転換させて水平保持する移送機構を
具備したアンローダ部と、上記洗浄槽と対向する箇所に
垂下支持された爪部材を有し、且つ、洗浄処理部の上方
に昇降自在に配設された昇降フレームと、横送り機構を
介して上記昇降フレームを水平方向に間欠動させる送り
フレームと、上記アンローダ部から搬出された治具をロ
ーダ部へ搬入する搬送機構とから成ることを特徴とする
超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61137079A JPH07106346B2 (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-12 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61137079A JPH07106346B2 (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-12 | 超音波洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62294477A true JPS62294477A (ja) | 1987-12-21 |
JPH07106346B2 JPH07106346B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=15190402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61137079A Expired - Lifetime JPH07106346B2 (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-12 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07106346B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02111489A (ja) * | 1988-10-19 | 1990-04-24 | Hitachi Ltd | 基板洗浄装置 |
JPH0739830A (ja) * | 1993-07-29 | 1995-02-10 | Kitou Kogyo Kk | 洗浄装置 |
JPH0739834A (ja) * | 1993-07-27 | 1995-02-10 | Kitou Kogyo Kk | 洗浄装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5362365A (en) * | 1976-11-17 | 1978-06-03 | Chiyoda Seisakusho | Automatic supersonic wave cleaning apparatus |
JPS6082512A (ja) * | 1983-10-06 | 1985-05-10 | Sonitsuku Fueroo Kk | 自動洗浄装置の板状ワ−ク保持搬送方法及び装置 |
-
1986
- 1986-06-12 JP JP61137079A patent/JPH07106346B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5362365A (en) * | 1976-11-17 | 1978-06-03 | Chiyoda Seisakusho | Automatic supersonic wave cleaning apparatus |
JPS6082512A (ja) * | 1983-10-06 | 1985-05-10 | Sonitsuku Fueroo Kk | 自動洗浄装置の板状ワ−ク保持搬送方法及び装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0739834A (ja) * | 1993-07-27 | 1995-02-10 | Kitou Kogyo Kk | 洗浄装置 |
JPH0739830A (ja) * | 1993-07-29 | 1995-02-10 | Kitou Kogyo Kk | 洗浄装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07106346B2 (ja) | 1995-11-15 |
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