JPS62291127A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS62291127A JPS62291127A JP61136618A JP13661886A JPS62291127A JP S62291127 A JPS62291127 A JP S62291127A JP 61136618 A JP61136618 A JP 61136618A JP 13661886 A JP13661886 A JP 13661886A JP S62291127 A JPS62291127 A JP S62291127A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- film
- bonding
- cover film
- ball
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000013039 cover film Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 9
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 230000000155 isotopic effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/03—Manufacturing methods
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/0212—Auxiliary members for bonding areas, e.g. spacers
- H01L2224/02122—Auxiliary members for bonding areas, e.g. spacers being formed on the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/02163—Auxiliary members for bonding areas, e.g. spacers being formed on the semiconductor or solid-state body on the bonding area
- H01L2224/02165—Reinforcing structures
- H01L2224/02166—Collar structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/03—Manufacturing methods
- H01L2224/0347—Manufacturing methods using a lift-off mask
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04042—Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4807—Shape of bonding interfaces, e.g. interlocking features
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/4845—Details of ball bonds
- H01L2224/48451—Shape
- H01L2224/48453—Shape of the interface with the bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ポールボンディングを用いて外部に配線を取
り出す電極構造を有する半導体装置に関する。
り出す電極構造を有する半導体装置に関する。
し従来の技術〕
従来、半導体素子(チップ)の電極部の構造は、第2図
の断面図に示すようになっている。すなわち、第2図に
おいて、半導体基板l上に層間絶縁膜2を介して設けら
れた金属配線3の上に、電極部に開孔全般けたカバー膜
4を形成する。この時、開孔部の面積は、ボンディング
に使用するボールの中心断面より大きい。次にボンディ
ングにより金属(アルミ)配l1Fi13とボンディン
グワイヤ8のボール8aとを圧着させて、素子の外部に
配線を取り出す。
の断面図に示すようになっている。すなわち、第2図に
おいて、半導体基板l上に層間絶縁膜2を介して設けら
れた金属配線3の上に、電極部に開孔全般けたカバー膜
4を形成する。この時、開孔部の面積は、ボンディング
に使用するボールの中心断面より大きい。次にボンディ
ングにより金属(アルミ)配l1Fi13とボンディン
グワイヤ8のボール8aとを圧着させて、素子の外部に
配線を取り出す。
上述した従来のt極配線の取出しでは、カバー膜の開孔
部において、金属配線上で、ボンティングボールの接し
ていない部分が、直接外部の雰囲気に触れるため、外部
からの水蒸気不純物イオン等の侵入に対し無防備であり
、金属電極の腐蝕など、素子の耐温性が弱いという欠点
がある。
部において、金属配線上で、ボンティングボールの接し
ていない部分が、直接外部の雰囲気に触れるため、外部
からの水蒸気不純物イオン等の侵入に対し無防備であり
、金属電極の腐蝕など、素子の耐温性が弱いという欠点
がある。
本発明の電極部構造は、−h記の欠点を解決するために
、カバー膜に開けた電極開孔部の電極表面における最大
直径が、ポールボンディング稜のボールと下地との接触
面の直径よpも小さく、かつ、カバー膜の開孔部に、カ
バー膜の膜厚を越えない厚さの金属を形成し、かつカバ
ー膜の開孔部に露出した金属電極すべてをボンティング
のボールでおおう如く構成されている。
、カバー膜に開けた電極開孔部の電極表面における最大
直径が、ポールボンディング稜のボールと下地との接触
面の直径よpも小さく、かつ、カバー膜の開孔部に、カ
バー膜の膜厚を越えない厚さの金属を形成し、かつカバ
ー膜の開孔部に露出した金属電極すべてをボンティング
のボールでおおう如く構成されている。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図(a)〜(clは本発明の一実施例に係る半導体
チップの電極部を、製造工程でもって説明するだめの断
面図である。まず第1図(aJに示すように、半導体基
板1上に層間絶縁膜2を介して金属配線3を形成した稜
に、カバー膜4を形成する。次にフォトリソグラフィ法
により、配線取出口部分のレジスト5を除去し、カバー
膜を等方性エツチング、および異方性エツチングを行う
ことによりテーバーを持った孔をカバー膜4に形成する
。次いで第1図(blに示すように、金属6を蒸着また
はスパッタリングで全面に被着する。つぎに第1図(C
)に示すように、リフトオフ法により、開孔部にのみ金
属6ak形成する。この時、金JFf46 aの金属配
線3上における膜厚が、カバー膜4の膜厚よシも薄くな
るようにする。それからボールボンティングを行い、カ
バー膜4の開孔部に露出した金属電極ヲボンティングの
ボール8aでおおうことにより、本発明の電極部構造が
実現できる。
チップの電極部を、製造工程でもって説明するだめの断
面図である。まず第1図(aJに示すように、半導体基
板1上に層間絶縁膜2を介して金属配線3を形成した稜
に、カバー膜4を形成する。次にフォトリソグラフィ法
により、配線取出口部分のレジスト5を除去し、カバー
膜を等方性エツチング、および異方性エツチングを行う
ことによりテーバーを持った孔をカバー膜4に形成する
。次いで第1図(blに示すように、金属6を蒸着また
はスパッタリングで全面に被着する。つぎに第1図(C
)に示すように、リフトオフ法により、開孔部にのみ金
属6ak形成する。この時、金JFf46 aの金属配
線3上における膜厚が、カバー膜4の膜厚よシも薄くな
るようにする。それからボールボンティングを行い、カ
バー膜4の開孔部に露出した金属電極ヲボンティングの
ボール8aでおおうことにより、本発明の電極部構造が
実現できる。
以上説明したように本発明は、カバー膜の開孔部におけ
る金属t&ヲ、ボンティングのボールでおおう事により
、金属電極は外部の雰囲気に直接さらされず、外部から
の水蒸気、不純物イオン等の浸入を防ぐことができるた
め、耐湿性を向上させる効果がある。
る金属t&ヲ、ボンティングのボールでおおう事により
、金属電極は外部の雰囲気に直接さらされず、外部から
の水蒸気、不純物イオン等の浸入を防ぐことができるた
め、耐湿性を向上させる効果がある。
第1図(a)〜tc)は本発明の一実施例に係る半導体
装置の電極部を、製造工程でもって説明するための断面
図、第2図は従来の半導体装置の電極部の断面図である
。 1・半導体基板、2・・・層間絶縁膜、3・・金属配線
、4・・カバー膜、5・・フオトレジスH[,6゜6a
・・開孔部の埋設金属、8−ボンティングワイヤ、8a
・・・ワイヤのボール。
装置の電極部を、製造工程でもって説明するための断面
図、第2図は従来の半導体装置の電極部の断面図である
。 1・半導体基板、2・・・層間絶縁膜、3・・金属配線
、4・・カバー膜、5・・フオトレジスH[,6゜6a
・・開孔部の埋設金属、8−ボンティングワイヤ、8a
・・・ワイヤのボール。
Claims (1)
- 半導体基板上の金属配線を覆うカバー膜に開けられた開
孔部からボールボンディングにより前記金属配線を外部
に取り出した電極構造を有する半導体装置において、前
記開孔部を埋めるように前記開孔部の金属配線の上に前
記カバー膜の膜厚を越えない厚さの金属層が形成され、
さらに、この金属層上に、前記ボールが前記開孔部を完
全に覆うようにボンディングされていることを特徴とす
る半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61136618A JPS62291127A (ja) | 1986-06-11 | 1986-06-11 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61136618A JPS62291127A (ja) | 1986-06-11 | 1986-06-11 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62291127A true JPS62291127A (ja) | 1987-12-17 |
Family
ID=15179512
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61136618A Pending JPS62291127A (ja) | 1986-06-11 | 1986-06-11 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62291127A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5891745A (en) * | 1994-10-28 | 1999-04-06 | Honeywell Inc. | Test and tear-away bond pad design |
-
1986
- 1986-06-11 JP JP61136618A patent/JPS62291127A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5891745A (en) * | 1994-10-28 | 1999-04-06 | Honeywell Inc. | Test and tear-away bond pad design |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5707894A (en) | Bonding pad structure and method thereof | |
JPS6149819B2 (ja) | ||
JPH10199989A (ja) | Mos構造中の金属電極を有するセンサの製造方法 | |
JPS62291127A (ja) | 半導体装置 | |
JP2748530B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH0373535A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH0330986B2 (ja) | ||
JP3413653B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPS6336548A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPH03101233A (ja) | 電極構造及びその製造方法 | |
JP3733077B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH01233741A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH03190240A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH01318240A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH02220440A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS63305533A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS61121348A (ja) | 半導体装置 | |
JPH02231735A (ja) | 半導体装置 | |
JPS63173332A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPH03159125A (ja) | 半導体装置 | |
JPS58110055A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6193629A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH03203321A (ja) | 半導体集積回路の製造方法 | |
JPH05343408A (ja) | Tab用半導体チップ | |
JPH02134847A (ja) | 半導体装置とその製造方法 |