JPS62285903A - 光硬化性組成物 - Google Patents

光硬化性組成物

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JPS62285903A
JPS62285903A JP12988986A JP12988986A JPS62285903A JP S62285903 A JPS62285903 A JP S62285903A JP 12988986 A JP12988986 A JP 12988986A JP 12988986 A JP12988986 A JP 12988986A JP S62285903 A JPS62285903 A JP S62285903A
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JP
Japan
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meth
maleic anhydride
acrylate
ring
acid anhydride
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Pending
Application number
JP12988986A
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English (en)
Inventor
Tsunetomo Nakano
中野 常朝
Toshinori Tsukada
塚田 利徳
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Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS62285903A publication Critical patent/JPS62285903A/ja
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光基数を調節した特定の変性無水マレイン
酸共重合体からなるヘースボリマーに、光重合性モノマ
ー及び光開始剤を添加してなる光硬化性組成物に関する
もので、本発明の光硬化性組成物は、プリント配線板工
業における、ソルダーレジスト、マーキングインキ、ハ
ンダレヘラ用インキ、多層配線板用の層間絶縁材料等と
して好適に用いられる。
〔従来の技術〕
従来、ソルダーレジストとしては、メラミン樹脂系やエ
ポキシ樹脂系の熱硬化型ソルダーレジストが多用されて
いたが、近年、民生用を中心に紫外線により硬化するU
Vソルダーレジストへと移行している。しかし、産業用
としては、依然、エポキシ樹脂系の熱硬化型ソルダーレ
ジストが主に用いられている。
また、最近、フォトリソグラフィーによるパターニング
の可能な光硬化型ソルダーレジストが種々提案されてい
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
プリント配線板の高密度化は年々進み、Icランド間に
3本以上のラインを通すことが要求されてきており、ソ
ルダーレジストも高密度化、高信頼性に応える必要性が
生じている。
しかし、前記の熱硬化型ソルダーレジストは、パターン
形成をシルクスクリーン印刷で行う必要上、シルクのた
わみからくる位置精度のずれのためにファインパターン
を形成することができない問題がある。
また、前記のUVソルダーレジストは、厚膜硬化性に対
する信頼性が低く、且つ耐薬品性及び耐溶剤性等が充分
でない等の問題がある。
また、前記の光硬化型ソルダーレジストは、有機溶剤現
像型が殆どで、取り扱い上の問題或いは装置上の問題が
ある。
更に、ハンダ付時に使用するフラックスとしては、使用
上の筒便さから、ロジン系フラックスより水溶性フラッ
クスを用いることが好ましいが、前記の従来公知のソル
ダーレジストは何れも、水溶性フラックスに対する密着
性を充分に有していない問題がある。
従って、本発明の目的は、フォトリソグラフィーにより
ファインパターンの形成及び位置精度の優れたカバーリ
ングが可能で、且つ現像をアルカリ水溶液により行うこ
とができ、また水溶性フラックスに充分耐える密着性を
をすると共に耐熱性、機械的性質及び化学的性質にも優
れた、光硬化性組成物を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段] 本発明者等は、鋭意研究した結果、ベースポリマーとし
て特定の怒光性変性無水マレイン酸共重合体を用い、こ
れに光重合性モノマー及び光開始剤をそれぞれ特定量添
加することにより、前記目的を達成する光硬化性組成物
が得られることを知見した。
本発明は、上記知見に基づきなされたもので、ta+無
水マレイン酸と不飽和炭化水素化合物との共重合体(以
下、未変性無水マレイン酸共重合体という)の無水マレ
イン酸構成単位の酸無水環を、ヒドロキシアルキレン(
メタ)アクリレートを用いて開環してなり、上記酸無水
環の開環率が35%以上で、且つ上記酸無水環への(メ
タ)アクリロイル基の付加率〔付加した((メタ)アク
リロイル基の数/上記酸無水環の数)xioO)が1%
以上である変性無水マレイン酸共重合体からなるベース
ポリマー100重量部に、 [bl光重合性モノマー5〜500重量部、及びtel
光開始剤1〜50重量部 を添加してなる光硬化性組成物を提供するものである。
以下に本発明の光硬化性組成物について詳述する。
本発明でベースポリマーとして用いられる変性無水マレ
イン酸共重合体は、上述の如き特定の構造からなるもの
で、ヒドロキシアルキレン(メタ)アクリレートによる
酸無水環の開環率が35%未満であると、また酸無水環
への(メタ)アクリロイル基の付加率が1%未満である
と、光硬化性が不充分となり、製膜性及び硬化皮膜の物
性が悪化する。また、上記開環率が大き過ぎると、組成
物中の感光基濃度が高くなり過ぎてブリへイタ時に熱重
合を起こしたり、保存安定性が悪くなったりする。その
ため、上記変性無水マレイン酸共重合体としては、上記
開環率が40〜90%で、且つ上記付加率が2%以上の
ものを用いるのが好ましい。
尚、本発明における上記酸無水環の開環率は、反応物の
TRを測定することにより算出した。即ち、上記開環率
は、650cm−’ Cジメチルホルムアミド(DMF
>、アミドに基づくピーク〕をべ−スにし、1770c
m−’及び1850cm−’ (酸無水環のC=Oに基
づくピーク)の変化量から算出した。また、本発明にお
ける上記酸無水環への(メタ)アクリロイル基の付加率
は、反応物のNMRを測定することにより算出した。即
ち、上記付加率は、オクタメチルシクロテトラシロキサ
ン(OM CT)を内部基準物質としてヒドロキシアル
キレン(メタ)アクリレートの二重結合プロトンとの検
量線を作成し、プロトン数の変化量から算出した。
また、上記未変性無水マレイン酸共重合体を構成するた
めの不飽和炭化水素化合物としては、例えば、イソブチ
レン、スチレン、α−メチルスチレン、p−ビニルフェ
ノール等を挙げることができ、特にイソブチレンが好ま
しい。
また、未変性無水マレイン酸共重合体の酸無水環の開環
に用いられるヒドロキシアルキレン(メタ)アクリレー
トとしては、例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等を
挙げることができる。
従って、本発明でヘースボリマーとして用いられる代表
的な変性無水マレイン酸共重合体としては、下記式(+
)で示される構成単位からなる未変性無水マレイン酸共
重合体を、その酸無水環を上記ヒドロキシアルキレン(
メタ)アクリレートで開環率35%以上に開環したもの
で、下記式(II)で示される構成単位を1%以上、好
ましくは2%以上有するものを挙げることができる。
(上式中、R3及びR2は、それぞれ、水素、炭素原子
数1〜3のアルキル基又は芳香族基を示す。)(上式中
、R1及びR2は、上記式(1)の場合と同じであり、
R1は、アルキレン基を示し、R4は、水素又はメチル
基を示す。) また、上記変性無水マレイン酸共重合体としては、未変
性無水マレイン酸共重合体の酸無水環を、上記ヒドロキ
シアルキレン(メタ)アクリレートにヒドロキシル基含
有飽和化合物を併用して開環してなるものを用いても良
く、この場合、ヒドロキシアルキレン(メタ)アクリレ
ートにより開環された構成単位(m)とヒドロキシル基
含有飽和化合物により開環された構成単位(n)との割
合((m) / (n) )が0.1〜10.特に0.
2〜5であるものを用いるのが好ましい。
上記ヒドロキシル基含有飽和化合物としては、例えば、
メタノール、エタノール等のアルコール類、エチルセロ
ソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類を挙げるこ
とができ、特にセロソルブ類が好ましい。
従って、開環に際し上記ヒドロキシアルキレン(メタ)
アクリレートに上記ヒドロキシル基含有飽和化合物を併
用して得られる代表的な変性無水マレイン酸共重合体と
しては、上記式(ff>で示される構成単位及び下記式
(I[l)で示される構成単位を有し、且つ上記式(I
I)で示される構成単位を1%以上、好ましくは2%以
上存し、上記式(II)で示される構成単位(m)と下
記式([)で示される構成単位(n)との割合((m)
/(n)〕が0.1〜10、好ましくは0.2〜5であ
るものを挙げることができる。
(上式中、R1及びR2は、上記式(+)の場合と同じ
であり、R,は、ヒドロキシル基含有飽和化合物の残基
を示す。) 本発明で用いられる変性無水マレイン酸共重合体は、無
水マレイン酸構成成分〔酸無水環がヒドロキシアルキレ
ン(メタ)アクリレート及びヒドロキシル基含有飽和化
合物により開環されている構成成分を含む〕と不飽和炭
化水素化合物構成成分との組成比が1:1〜1:10、
数平均分子量(「τ)が1.0X10’〜2.0xlO
”程度のものを用いるのが好ましい。
本発明で用いられる変性無水マレイン酸共重合体は、前
記ヒドロキシアルキレン(メタ)アクリレートに前記ヒ
ドロキシル基含有飽和化合物を併用して得られる前記変
性無水マレイン酸共重合体の場合、例えば次のようにし
て得られる。
先ず、前記未変性無水マレイン酸共重合体と前記ヒドロ
キシル基含有飽和化合物とを有a溶媒中で好ましくは7
0〜140℃、特に好ましくは80〜100℃の温度下
に2〜6時間程度反応させ、次いで、この反応生成物と
前記ヒドロキシアルキレン(メタ)アクリレートとをを
機溶媒中で好ましくは70〜140°C1特に好ましく
は80〜100℃の温度下に4〜6時間程度反応させる
ことにより得られる。また、前記未変性無水マレイン酸
共重合体に、前記ヒドロキンアルキレン、(メタ)アク
リレート及び前記ヒドロキシル基含を飽和化合物を同時
混合し、をa溶媒中で好ましくは70〜140℃、特に
好ましくは80〜100℃の温度下に4〜12時間程時
間待反応させることによっても得られる。
また、前記ヒドロキシアルキレン(メタ)アクリレート
のみを使用して得られる前記変性無水マレイン酸共重合
体の場合は、前記未変性無水マレイン酸共重合体と前記
ヒドロキシアルキレン(メタ)アクリレートとを上述の
場合と同様な条件下で反応させることにより得られる。
また、本発明の光硬化性組成物を構成する(II+)成
分である光重合性モノマーとしては、例えば、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキソプ
ロピル(メタ)アクリレート、エチルアルコールジ(メ
タ)アクリレート、プロピルアルコールジ(メタ)アク
リレート、トルメチロールプロパントリ (メタ)アク
リレート、テトラメチロールメタンテトラ (メタ)ア
クリレート、N、N’  −メチレンビス(メタ)アク
リレート、ジエ゛チルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、1.3.5−)リアクリロイルへキサヒドロ−5−
トリアジン、トリス(ヒドロキシエチルアクリロイル)
イソシアヌレート等を挙げることができる。
上記光重合性モノマーの添加量は、前記ベースポリマー
100重量部に対して5〜500重量部、好ましくは3
0〜300重量部である。5重量部未満であると、光硬
化怒度が低下し、架橋密度も減少するため、現像性、製
膜性及び皮膜物性(特に耐熱性、表面硬度)が充分でな
くなり、また500重量部を超えると、架橋密度が高す
ぎて、溶融ハンダ潜時の熱収縮により皮膜の剥離が起き
る。
また、本発明°の光硬化性組成物を構成する(c)成分
である光開始剤としては、例えば、ミヒラーズケトン、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ヘンジインエ
チルエーテル、ヘンジインイソプロピルエーテル、2−
t−ブチルアントラキノン、1.2−ベンゾ−9,10
−アントラキノン、4゜4° −ビス(ジエチルアミノ
)ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾフエノン、
チオキサントン、ジエチルチオキサントン、1.5−ア
セナフテン、エチル−p−ジメチルアミノベンゾエート
、ベンジル等を挙げることができる。
上記光開始剤の添加量は、前記ベースポリマー100重
量部に対して1〜50重量部、好ましくは5〜40重量
部である。1重1部未満であると、光照射による充分な
架橋を行わせることができず、光硬化怒度も低下し、ま
た50重量部を超えると、光硬化怒度はそれ以上上昇せ
ず、また硬化皮膜中に光開始剤が残存するため、皮膜物
性に悪影響を及ぼす。
本発明の光硬化性組成物は、有a?8媒可溶性であり、
ソルダーレンスト等として使用する場合、をa?8媒に
30〜90重量%、好ましくは50〜90重量%の割合
で溶解した溶液(光硬化性ポリマー7容ン夜)として用
いられる。この有aン容媒としては、特に制限されない
が、メチルアルコール、エチルアルコール、ブチルアル
コール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコ
ール等のアルコール系溶媒、エチルセロソルブ、ブチル
セロソルブ等のセロソルブ系溶媒等が好ましい。
上記光硬化性ポリマー溶液は、常温での回転粘度が0.
1〜1000ボイズ、特に1〜SOOボイズ程度にする
ことが好ましい。
また、上記光硬化性ポリマー溶液には、無機充填剤を添
加することが好ましく、該無機充填剤を添加すると、線
膨張係数が低下するため、硬化収縮が低下し、溶融ハン
ダ浸ン責後の密着性及び表面硬度を更に向上させ、印刷
適性にも好影響を与える。かかる無機充填剤としては、
マイカ(雲母)、クレー、タルク、アルミナホワイト、
珪藻土、ヘントナイト、ワラストナイト、石英(Sin
g) 、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、珪酸マグネシウム、酸化チ
タン、酸化亜鉛、シリカアルミナ、窒化珪素等を挙げる
ことができる。
上記無機充填剤の添加量は、前記ベースポリマー100
重量部に対して0〜160重量部、特に40〜150重
量部とするのが好ましい。
また、上記光硬化性ポリマー溶液には、必要に応じ、熱
重合防止剤を添加することができる。かかる熱重合防止
剤としては、ハイドロキノン、メチルエーテルハイドロ
キノン、2.6−ジーt−ブチル−4−メチルフェノー
ル(BHT)、ベンゾエート、ヘンゾキノノ、4−ヒド
ロキシメチル−2,6−ジーし一ブチルフェノール等を
挙げることができる。
上記熱重合防止剤の添加量は、前記ベースポリマー10
0重量部に対して0.01〜5重量部、特に0.05〜
1重同部とするのが好ましい。
この他、上記光硬化性ポリマー溶液には、必要に応じ、
フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、シア
ニングリーン、チタンホワイト、チタンイエロー、カー
ボンブランク、黄鉛、ハンザイエロー、レーキレッド、
メチルバイオレット、ブリリアントグリーン、ビクトリ
アブルー等の染料又は顔料、印刷適性を向上させるため
にアエロジル(日本アエロジル■製)等のチキソトロピ
ー性付与剤やジアルキルポリシロキサン等の消泡剤、t
1燃性を付与するために五酸化アンチモン等を添加する
ことができる。
本発明の光硬化性組成物によれば、前記の如く光硬化性
ポリマー溶液を調製することにより、例えば、次のよう
にして絶縁保護膜を形成することができる。
即ち、先ず、上記の光硬化性ポリマー溶液を基板に塗布
し、これを乾燥してを膜溶媒を除去するや基板への塗布
は、例えばカーテンコート、ロールコート、シルクスク
リーン、ディツブコート、ドクターナイフ法等の方法に
より行うことができる。
また、塗膜の乾燥は、熱風乾燥、遠赤外線乾燥等の方法
により、好ましくは100℃以下、より好ましくは80
℃以下で行うとよい。この際減圧はしてもしなくてもよ
い。
乾燥後、塗膜にネガフィルムを置き、例えば高圧水銀灯
、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ等を用1いて光線を照射する。
次いで、これを、現像溶媒をスプレーするか現像溶媒に
浸漬する等の方法により現像し、未露光の部分を洗い流
す。上記現像溶媒としては、濃度1〜5%程度の炭酸ナ
トリウム水溶液等のアルカリ水溶液を用いることができ
る他、前記光硬化性ポリマー溶液の調製に用いられる有
機溶媒として例示したものを用いることもできる。
然る後、熱風乾燥、遠赤外線乾燥等の方法により、好ま
しくは100〜150°C下に30〜60分間熱処理し
、絶縁保1■膜を得る。
以下に、本発明で用いられる変性無水マレイン酸共重合
体の製造例及び本発明の実施例を挙げて本発明を更に詳
細に説明する。
製造例1〜9 下記第1表に示す反応条件により、未変性無水マレイン
酸共重合体と、ヒドロキシアルキレン(メタ)アクリレ
ート及びヒドロキシル基含有飽和化合物とを有機溶媒中
で反応させ、変性無水マレイン酸共重合体をそれぞれ得
た。
これらの変性無水マレイン酸共重合体の収量、酸無水環
の開環率、(メタ)アクリロイル基の付加率及び種々の
物性を下記第1表に示す。
*1:未変性無水マレイン酸共重合体の使用量。
未変性無水マレイン酸共重合体として、製造例1〜6は
イソパン−04(クラレイソプレンケミカル社製、無水
マレイン酸とイソブチレンとの共重合体)を用い、製造
例7はイソパン−600(クラレイソブレンケミカル社
製、無水マレイン酸とイソブチレンとの共重合体)を用
い、製造例8はイソパン−06(クラレイソブレンケミ
カル社製、無水マレイン酸とイソブチレンとの共重合体
)を用い、製造例9はイソパン−10(クラレイソプレ
ンケミカル社製、無水マレイン酸とイソブチレンとの共
重合体)を用いた。
*2:ヒドロキシアルキレン(メタ)アクリレートの使
用量。ヒドロキシアルキレン(メタ)アクリレートとし
て、製造例1〜3は及び7〜9は2−ヒドロキシエチル
アクリレートを用い、製造例4〜6は2−ヒドロキシエ
チルメタクリレートを用いた。
*3:ヒドロキシル基含有飽和化合物の使用量。
ヒドロキシル某会存絢和イI7を廁)−)、アL士 プ
壬ルセロソルブを用いた。
*4;ヒドロキシアルキレン(メタ)アクリレートとヒ
ドロキシル基含有飽和化合物との仕込み比。
*5:有a溶媒の使用量。を機溶媒としては、N、N−
ジメチルホルムアミド(DMF)を用いた。
*6:反応物0.125 gをDMF25.00m1に
溶解し、ウベローデ型粘度計OA番を用い30゛Cで測
定した。
*7;ビークが多く、)則定不能であった。
実施例1〜9 製造例1〜9でそれぞれ得られた変性無水マレイン酸共
重合体を用い、それぞれ下記の組成により光硬化性ポリ
マー溶液をそれぞれ8IiI製し、得られた光硬化性ポ
リマー溶液を用いて°、下記の方法により、光硬化性組
成物からなる光硬化保3i11Q(膜厚;下記第2表参
照)をそれぞれ形成し、咳膜の光沢及び下記の物性評価
をそれぞれ行った。
その結果を下記第2表に示す。
〔組 成〕
ブチルセロソルブ      210重量部エポキシア
クリレート) (ジペンタエリスリトール  20重量部へキサアクリ
レート) (メラミンアクリレート)    30重量部(ヒドロ
キジエチルメタク  20重量部リレート) ミノヘンシェード) (ベンジル)         10重量部(硫酸バリ
ウム)       20重量部増粘剤(アエロジル#
200)   10重量部消泡剤(アンチホーム)  
   10重量部顔料(2YK)          
7重量部熱重合禁止剤(ハイドロキノン)  1重量部
〔光硬化保護膜の形成方法〕 ■塗 布: 光硬化性ポリマー溶液を、ガラスエポキシ銅張積層板の
銅板上に、バーコーク−(N13)を用いて塗布する。
■乾燥(ブリベイク): 80℃の熱風乾燥器中で15分間乾燥し、溶媒を除去す
る。
■露光: 2Kw超高圧水銀灯(オーク製作新製)を用い、500
 mJ/ crlで露光を行う。
■現 像: 2%NazCO3水溶液を用い、浸漬撹拌法又はスプレ
ー法(2Kg/ad)により現像を行う。
現像後、水洗する。
■熱処理(ポストベーク): 150℃の熱風乾燥器中で30分間熱処理を行う。
〔物性評価〕
(1)光硬化感度; ブリベイク後の塗膜にコダックステップタブレット(グ
レーススケール患2)を密着し、1゜5J10111で
露光を行い、現像後の残膜状態から完全硬化照射量を求
め感度とした。
(2)解像度: 解像力テストパターンを用いて、適正露光を行い、現像
後のパターンより求めた。
(3)鉛筆硬度: JIS−D−02028−10に準じて測定した。
(4)密8着性: JIS−D−02028−12に準じて基盤目テストを
行った。
(5)ハンダ耐熱性: 溶融したハンダ浴(260℃)中に浸漬後、JIS−D
−02028−12に準じて基盤目テストを行った。フ
ラックスはロジン系のものと水溶性(CI量2.2%)
のものを用いた。
(6)耐溶剤性: イソプロビルアルコール、メチルエチルケトン、クロル
セン、トルエン又はブチルセロソルブ中に30分間浸を
責後、JIS−ロー02028−12に準じて基盤目テ
ストを行った。また、アセトン又は塩化メチレンに浸し
た脱脂綿で10回被覆後、JIS−D−02028−1
2に準じて基盤目テストを行った。
(7)耐薬品性: 10%HCI若しくは10%Hzso4中に2時間浸漬
後又は3%NaOH中に30分間浸漬後、JIS−D−
02028−12に準して基盤目テストを行った。
(8)耐 湿 性: 40℃、95%R)lの雰囲気下に96時間放置後、J
IS−D−02028−12に準じて基盤目テストを行
った。また、2時間煮沸後、JIS−D−02028−
12に準じて基盤目テストを行った。
(9)鳥色縁を氏抗 : 初期値、及び40℃、95%RHの雰囲気下に150時
間放置後の値を測定した。
*1:評価 O・・良好、△・・普通、×・・不良 *2:10秒間浸漬。
*3:20秒間浸漬。
*4:30秒間浸漬。
*5:40秒間浸漬。
*6:50秒間浸漬。
*7:10秒間浸漬。
*8:20秒間浸漬。
*9:イソプロピルアルコールに浸ン責。
*10:メチルエチルケトンに浸漬。
*11;クロルセンに漫?L *12:トルエンに浸漬。
*13ニブチルセロソルブに浸漬。
*14:アセトンに浸した脱脂綿で被覆。
*15;塩化メチレンに浸した脱脂綿で被覆。
*16:10%HCIに浸漬。
*17:lO%H,SO,に浸漬 *18:3%NaOHに浸漬。
*19: 40゛c、  95%I?)lの雰囲気下に
96時間放置。
*20;2時間党沸。
$21:40°C195%RHの雰囲気下に150時間
放置。
〔発明の効果〕
本発明の光硬化性組成物は、フォトリソグラフィーによ
りファインパターンの形成及び位置精度の優れたカバー
リングが可能で、且つ現像をアルカリ水溶液により行う
ことができるため取り扱いが容易であり、また水溶性フ
ラ・ノクスに充分耐える密着性を存すると共に耐熱性、
機械的性質及び化学的性質にも優れており、プリント配
線板工業における、ソルダーレジスト、マーキングイン
キ、ハンダレベラ用インキ、多層配線板用の眉間絶縁材
料等として好適なものである。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(a)無水マレイン酸と不飽和炭化水素化合物と
    の共重合体の無水マレイン酸構成単位の酸無水環を、ヒ
    ドロキシアルキレン(メタ)アクリレートを用いて開環
    してなり、上記酸無水環の開環率が35%以上で、且つ
    上記酸無水環への(メタ)アクリロイル基の付加率〔付
    加した((メタ)アクリロイル基の数/上記酸無水環の
    数)×100〕が1%以上である変性無水マレイン酸共
    重合体からなるベースポリマー100重量部に、 (b)光重合性モノマー5〜500重量部、及び(c)
    光開始剤1〜50重量部 を添加してなる光硬化性組成物。
  2. (2)上記酸無水環の開環率が40〜90%である、特
    許請求の範囲第(1)項記載の光硬化性組成物。
  3. (3)上記酸無水環への(メタ)アクリロイル基の付加
    率が2%以上である、特許請求の範囲第(1)項記載の
    光硬化性組成物。
  4. (4)ヒドロキシアルキレン(メタ)アクリレートにヒ
    ドロキシル基含有飽和化合物を併用して得られる、特許
    請求の範囲第(1)項記載の光硬化性組成物。
  5. (5)上記ヒドロキシル基含有飽和化合物がセロソルブ
    類である、特許請求の範囲第(4)項記載の光硬化性組
    成物。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6311930A (ja) * 1986-07-03 1988-01-19 Mitsui Toatsu Chem Inc 感光性樹脂組成物
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