JPS6397601A - 光硬化性組成物 - Google Patents

光硬化性組成物

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JPS6397601A
JPS6397601A JP61244944A JP24494486A JPS6397601A JP S6397601 A JPS6397601 A JP S6397601A JP 61244944 A JP61244944 A JP 61244944A JP 24494486 A JP24494486 A JP 24494486A JP S6397601 A JPS6397601 A JP S6397601A
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acid anhydride
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Tsunetomo Nakano
中野 常朝
Toshikazu Hayashi
敏和 林
Toshinori Tsukada
塚田 利徳
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/08Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
    • C08F290/12Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光基数を調節した特定の変性無水マレイン
酸共重合体からなるベースポリマーに、光重合性モノマ
ー及び光開始剤を添加してなる光硬化性組成物に関する
もので、本発明の光硬化性組成物は、プリント配線板工
業における、ソルダーレジスト、マーキングインキ、ハ
ンダレベラ用インキ、多層配線板用の層間絶縁材料等と
して好適に用いられる。
〔従来の技術〕
従来、ソルダーレジストとしては、メラミン樹脂系やエ
ポキシ樹脂系の熱硬化型ソルダーレジストが多用されて
いたが、近年、民生用を中心に紫外線により硬化するU
Vソルダーレジストへと移行している。しかし、産業用
としては、依然、エポキシ樹脂系の熱硬化型ソルダーレ
ジストが主に用いられている。
また、最近、フォトリソグラフィーによるバターニング
の可能な光硬化型ソルダーレジストが種々提室されてい
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
プリント配線板の高密度化は年々進み、ICランド間に
3本以上のラインを通すことが要求されてきており、ソ
ルダーレジストも高密度化、高信頼性に応える必要性が
生じている。
しかし、前記の熱硬化型ソルダーレジストは、パターン
形成をシルクスクリーン印刷で行う必要上、シルクのた
わみからくる位置精度のずれのためにファインパターン
を形成することができない問題がある。
また、前記のUVソルダーレジストは、厚膜硬化性に対
する信頼性が低く、且つ耐薬品性及び耐溶剤性等が充分
でない等の問題がある。
また、前記の光硬化型ソルダーレジストは、有機溶剤現
像型が殆どで、取り扱い上の問題或いは装置上の問題が
ある。
更に、ハンダ付時に使用するフラックスとしては、使用
上の筒便さから、ロジン系フラックスより水溶性フラッ
クスを用いることが好ましいが、前記の従来公知のソル
ダーレジストは何れも、水溶性フラックスに対する密着
性を充分に有していない問題がある。
従って、本発明の目的は、フォトリソグラフィーにより
ファインパターンの形成及び位置精度の優れたカバーリ
ングが可能で、且つ現像をアルカリ水溶液により行うこ
とができ、また水溶性フラックスに充分耐える密着性を
有すると共に耐熱性、機械的性質及び化学的性質にも優
れた、光硬化性組成物を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者等は、鋭意研究した結果、ベースポリマーとし
て特定の感光性変性無水マレイン酸共重合体を用い、こ
れに光重合性七ツマ−及び光開始剤をそれぞれ特定量添
加することにより、前記目的を達成する光硬化性組成物
が得られることを知見した。
本発明は、上記知見に基づきなされたもので、Tar無
水マレイン酸と不飽和炭化水素化合物との共重合体(以
下、未変性無水マレイン酸共重合体という)の無水マレ
イン酸構成単位の酸無水環を、下記一般式(1)及び(
II)で表される化合物で開環した後、一般式(1)で
表される化合物で開環した部分をイミド閉環し、次いで
、上記共重合体中に開環により形成されたカルボキシル
基の一部及び上記共重合体の酸無水環の一部に、下記−
般式(IIりで表される化合物の(メタ)アクリロイル
基を付加させてなり、下記−瓜式(1)、(n)及び(
III)で表される化合物による上記酸無水環の開環率
が40%以上で、且つ上記共重合体中の下記一般式(I
II)で表される化合物の(メタ)アクリロイル基の付
加率〔付加した((メタ)アクリロイル基の数/上記酸
無水環の数)×100〕が1%以上である変性無水マレ
イン酸共重合体からなるベースポリマー100重量部に
、(bl光重合性モノマー5〜500重量部、及びTC
I光開始剤1〜50重量部 を添加してなる光硬化性組成物を提供するものである。
一般式(1) %式% (上式中、R1は炭素数1〜12のアルキル基又は芳香
族基を示す、) 一般式(II) HO−R1 (上式中、R2は炭素数1〜12の飽和化合物残基を示
す、) 一般式(III) (上式中、R1は炭素数1〜12のアルキル基又は芳香
族基を示し、R4は水素又はメチル基を示す、) 以下に本発明の光硬化性組成物について詳述する。
本発明でベースポリマーとして用いられる変性無水マレ
イン酸共重合体は、上述の如き特定の構造からなるもの
で、前記一般式(り、(II)及び(nl)で表される
化合物による酸無水環の開環率が40%未満であると、
弱アルカリ水溶液に対する溶解性が低下するため、レジ
ストパターン作製時の現像性が悪化し、また、上記開環
率が過大であると、形成されたレジスト皮膜の耐湿特性
が悪くなる。そのため、上記変性無水マレイン酸共重合
体としては、上記開環率が50〜90%であるものを用
いるのが好ましい。
また、上記変性無水マレイン酸共重合体は、前記一般式
(1)及び(II)で表される化合物による前記酸無水
環の開環率における割合が1:9〜8:2であることが
好ましく、また、耐熱性及びタンク性等の観点から、一
般式(1)で表される化合物で開環した部分の80%以
上がイミド閉環されていることが好ましい。
また、上記変性無水マレイン酸共重合体において、前記
一般式(III)で表される化合物の(メタ)アクリロ
イル基の付加率が1%未満であると、光硬化性が不充分
となり、!!!膜性及び硬化皮膜の物性が悪化する。ま
た、上記付加率が過大であると、組成物中の怒光基濃度
が高くなり過ぎてプリベイク時に熱重合を起こしたり、
保存安定性が悪くなったり、更にカルボキシル基濃度の
低下により現像性の低下を招く、そのため、上記変性無
水マレイン酸共重合体としては、上記付加率が2〜50
%であるものを用いるのが好ましい。
また、上記変性無水マレイン酸共重合体は、前記一般式
口)及び(U)で表される化合物による酸無水環の開環
により形成されたカルボキシル基に付加した前記一般式
(I[1)で表される化合物の(メタ)アクリロイル基
と、酸無水環に付加した前記一般式(l[I)で表され
る化合物の(メタ)アクリロイル基との割合が、2:1
〜10:1であることが好ましい。
尚、本発明における上記酸無水環の開環率は、反応物の
IRを測定することにより算出した。即ち、上記開環率
は、650co+−’ (ジメチルホルムアミド(DM
F)、アミドに裁づくピーク〕をベースにし、l 77
0CN−’及び1850cm−’ (酸無水環のC−0
に基づくピーク)の変化量から算出した。また、本発明
における(メタ)アクリロイル基の付加率は、反応物の
NMRを測定することにより算出した。即ち、上記付加
率は、オクタメチルシクロテトラシロキサン(OMCT
)を内部基準物質としてヒドロキシアルキレン(メタ)
アクリレートの二重結合プロトンとの検量線を作成し、
プロトン数の変化1から算出した。
上記変性無水マレイン酸共重合体の出発原料である未変
性無水マレイン酸共重合体を構成するための不飽和炭化
水素化合物としては、例えば、イソブチレン、スチレン
、α−メチルスチレン、p−ビニルフェノール等を挙げ
ることができ、特にイソブチレンが好ましい。
また、前記一般式(1)で表される化合物としては、例
えば、グリシン、β−アラニン、0−lm−、p−アミ
ノ安、α香酸等を挙げることができる。
また、前記一般式(U)で表される化合物としては、例
えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類を挙
げることができ、特にセロソルブ類が好ましい。
また、前記一般式(III)で表される化合物としては
、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジ
ルプロビル(メタ)アクリレート等を挙げることができ
る。
従って、本発明でベースポリマーとして用いられる代表
的な変性無水マレイン酸共重合体としては、下記式(r
V)で示される構成単位からなる未変性無水マレイン酸
共重合体を、その酸無水環を前記一般式(r)及び([
[)で表される化合物で開環率40%以上で、且つ下記
式(V)で示される構成単位〔酸無水環が前記一般式(
1)で表される化合物で開環された構成単位〕と下記式
(■)で示される構成単位〔酸無水環が前記一般式(n
)で表される化合物で開環された構成単位〕との割合が
好ましくは1:9〜8:2、より好ましくは2:8〜7
:3となるように開環した後、下記式(V)で示される
構成単位の好ましくは80%以上、より好ましくは90
%以上を、下記式(■)で示される構成単位にイミド閉
環し、次いで、下記式(Vl、)及び(■)で示される
構成単位中のカルボキシル基の一部及び上記共重合体の
酸無水環の一部に前記一般式(II+)で表される化合
物の(メタ)アクリロイル基を1%以上、好ましくは2
〜50%付加したものを挙げることができる(上式中、
R5及びR&は、それぞれ、水素、炭素原子数1〜3の
アルキル基又は芳香族基を示す。
〔上式中、R+及びR2は、前記一般式(I)及び(I
I)の場合と同じである。〕 本発明で用いられる変性無水マレイン酸共重合体は、無
水マレイン酸構成成分〔酸無水環が前記一般式(+)、
(Il)及び([[)で表される化合物により開環され
ている構成成分を含む〕と不飽和炭化水素化合物構成成
分との組成比が1=1〜1:10、数平均分子1(Wn
)が1.0X10’〜2.0X10b程度のものを用い
るのが好ましい。
本発明で用いられる変性無水マレイン酸共重合体は、例
えば次のようにして得られる。
先ず、前記未変性無水マレイン酸共重合体と前記一般式
(1)及び(II)で表される化合物とを有a溶媒中で
好ましくは70〜140℃、特に好ましくは80〜10
0℃の温度下に2〜6時間程度反応させた後、これにト
ルエン、キシレン等の共沸溶媒を添加し、好ましくは8
0〜200℃、特に好ましくは100〜150℃の温度
下に3〜20時間程時間窓(環化脱水反応)させて、一
般式(1)で表される化合物で開環した部分をイミド閉
環し、次いで、この反応生成物と前記一般式(III)
で表される化合物とを有機溶媒中で好ましくは70〜1
40℃、特に好ましくは80〜100℃の温度下に2〜
5時間程度反応させることにより得られる。
また、本発明の光硬化性組成物を構成する(bl成分で
ある光重合性モノマーとしては、例えば、2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、エチルアルコールジ(メタ)
アクリレート、プロピルアルコールジ(メタ)アクリレ
ート、トルメチロールプロパントリ (メタ)アクリレ
ート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレ
ート、N、N’−メチレンビス(メタ)アクリレート、
ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、1.3.
5−トリアクリロイルへキサヒドロ−3−トリアジン、
トリス(ヒドロキシエチルアクリロイル)イソシアヌレ
ート等を挙げることができる。
上記光重合性モノマーの添加量は、前記ベースポリマー
100重量部に対して5〜500重量部、好ましくは3
0〜300重1部である。5重1部未満であると、光硬
化感度が低下し、架橋密度も減少するため、現像性、製
膜性及び皮膜物性(特に耐熱性、表面硬度)が充分でな
くなり、また500重量部を超えると、架橋密度が高す
ぎて、溶融ハンダ潜時の熱収縮により皮膜の剥離が起き
る。
また、本発明の光硬化性組成物を構成する(c)成分で
ある光開始剤としては、例えば、ミヒラーズケトン、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2−t
−ブチルアントラキノン、1.2−ベンゾ−9,10−
アントラキノン、4゜4° −ビス(ジエチルアミノ)
ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チ
オキサントン、ジエチルチオキサントン、1,5−アセ
ナフテン、エチル−p−ジメチルアミノベンゾエート、
ベンジル等を挙げることができる。
上記光開始剤の添加量は、前記ベースポリマー100重
量部に対して1〜50重皿部、好ましくは5〜40ff
i1部である。1重量部未満であると、光照射による充
分な架橋を行わせることができず、光硬化感度も低下し
、また50重量部を超えると、光硬化感度はそれ以上上
昇せず、また硬化皮膜中に光開始剤が残存するため、皮
膜物性に悪影響を及ぼす。
本発明の光硬化性組成物は、有機溶媒可溶性であり、ソ
ルダーレジスト等として使用する場合、有機溶媒に30
〜90重1%、好ましくは50〜90重量%の割合で前
記fa)成分、前記(b)成分及び前記(c)成分が溶
解したt8液(光硬化性ポリマー溶液)として用いられ
る。この有la溶媒としては、特に制限されないが、メ
チルアルコール、エチルアルコール、ブチルアルコール
、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール等
のアルコール系溶媒、エチルセロソルブ、ブチルセロソ
ルブ等のセロソルブ系溶媒等が好ましい。
上記光硬化性ポリマー溶液は、常温での回転粘度が0.
1〜toooボイズ、特に1〜500ポイズ程度にする
ことが好ましい。
また、上記光硬化性ポリマー溶液には、無機充填剤を添
加することが好ましく、該無機充填剤を添加すると、線
膨張係数が低下するため、硬化収縮が低下し、溶融ハン
ダ浸漬後の密着性及び表面硬度を更に向上させ、印刷適
性にも好影♂を与える。かかる無機充填剤としては、マ
イカ(雲母)、クレー、タルク、アルミナホワイト、珪
藻土、ベントナイト、ワラストナイト、石英(Sing
) 、水酸化アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリ
ウム、珪酸マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、シリ
カアルミナ、窒化珪素等を挙げることができる。
上記無機充填剤の添加量は、前記ペースポリマー100
重量部に対して0〜160重量部、特に40〜150H
1部とするのが好ましい。
また、上記光硬化性ポリマー溶液には、必要に応じ、熱
重合防止剤を添加することができる。かかる熱重合防止
剤としては、ハイドロキノン、メチルエーテルハイドロ
キノン、2,6−ジーt−ブチル−4−メチルフェノー
ル(BIT)、ベンゾエート、ベンゾキノン、4−ヒド
ロキシメチル−2,6−ジーt−ブチルフェノール等を
挙げることができる。
上記熱重合防止剤の添加量は、前記ベースポリマー10
0重量部に対して0.01〜5′重量部、特に0.05
〜1重量部とするのが好ましい。
この他、上記光硬化性ポリマー溶液には、必要に応じ、
フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、シア
ニングリーン、チタンホワイト、チタンイエロー、カー
ボンブランク、黄鉛、ハンザイエロー、レーキレフト、
メチルバイオレット、プリリ了ントグリーン、ビクトリ
アブルー等の染料又は顔料、印刷適性を向上させるため
にアエロジル(日本アエロジル91製)等のチキントロ
ピー性付与剤やジアルキルポリシロキサン等の消泡剤、
′1J1j?!性を付与するために五酸化アンチモン等
を添加することができる。
本発明の光硬化性組成物によれば、前記の如(光硬化性
ポリマー溶液を調製することにより、例えば、次のよう
にしてwA縁保護膜を形成することができる。
即ち、先ず、上記の光硬化性ポリマー溶液を基板に塗布
し、これを乾燥して有機溶媒を除去する。
基板への塗布は、例えばカーテンコート、ロールコート
、シルクスクリーン、ディップコート、ドクターナイフ
法等の方法により行うことができる。
また、塗膜の乾燥は、熱風乾燥、遠赤外線乾燥等の方法
により、好ましくは100℃以下、より好ましくは80
℃以下で行うとよい、この際減圧はしてもしなくてもよ
い。
乾燥後、塗膜にネガフィルムを置き、例えば高圧水銀灯
、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ等を用いて光線を照射する。
次いで、これを、現像溶媒をスプレーするか現像溶媒に
浸漬する等の方法により現像し、未露光の部分を洗い流
す、上記現像溶媒としては、濃度1〜5%程度の炭酸ナ
トリウム水溶液等のアルカリ水溶液を用いることができ
る他、前記光硬化性ポリマー溶液の!li製に用いられ
る有i溶媒として例示したものを用いることもできる。
。 然る後、熱風乾燥、遠赤外線乾燥等の方法により、好ま
しくは100−150℃下に30〜60分間熱処理する
か、80〜120 W/c+s超高圧水銀灯3灯を用い
て1〜4m/winの速度で光照射し、絶縁保護膜を得
る。
(実施例〕 以下に、本発明で用いられる変性無水マレイン酸共重合
体の製造例及び本発明の実施例を挙げて本発明を更に詳
細に説明する。
製造例1〜3及び比較製造例1〜3 未変性無水マレイン酸共重合体としてイソパン−04(
クラレイソブレンケミカル社製、無水マレイン酸とイソ
ブチレンとの共重合体)、前記一般式(1)で表される
化合物としてp−7ミノ安息香酸、前記一般式(n)で
表される化合物としてブチルセロソルブ及び前記一般式
<m>で表される化合物としてグリシジルメタクリレー
トを用い、下記第1表に示す反応条件により、これらを
有a溶媒中で反応させ、変性無水マレイン酸共重合体を
それぞれ得た。これらの変性無水マレイン酸共重合体の
酸無水環の開環率、(メタ)アクリロイル基の付加率、
及び一般式(r)で表される化合物で開環した部分のイ
ミド閉環された割合を下記第1表に示す。
実施例1〜3及び比較例1〜3 製造例1〜3及び比較製造例1〜3でそれぞれ得られた
変性無水マレイン酸共重合体を用い、それぞれ下記の組
成により光硬化性ポリマー溶液をそれぞれ調製し、得ら
れた光硬化性ポリマー溶液を用いて、下記の方法により
、光硬化性組成物からなる光硬化保護膜(膜厚;下記第
2表参照)をそれぞれ形成し、液膜の光沢、現像性及び
下記の物性評価をそれぞれ行った。その結果を下記第2
表に示す。
〔組 成〕
ブチルセロソルブ      200重量部トリアクリ
レート) (ヒドロキシエチルメタク  20重量部リレート) (ベンジル)          10重量部無機充填
剤(石英)       90重量部増粘剤(アエロジ
ル#200)   10ffi量部消泡剤(アンチホー
ム)     10重量部顔料(フタロシアニングリー
ン)  7重量部熱重合禁止剤(ハイドロキノン)  
1重■部〔光硬化保affi膜の形成方法〕 ■塗布: 光硬化性ポリマー溶液を、ガラスエポキシ銅張積NFi
の銅板上に、スクリーン印刷法により塗布する。
■乾燥(ブリベイク): 80℃の熱風乾燥器中で15分間乾燥し、溶媒を除去す
る。
■露光: 2に一超高圧水銀灯(オーク製作所型)を用い、500
mJ/aiの露光を行う。
■現 像; 1%Na、CO2水溶液を用い、浸漬攪拌法又はスプレ
ー法(2Kg/c+j)により現像を行う。
現像後、水洗する。
■後硬化(ボストキエア): 150℃の熱風乾燥品中で30分間熱処理を行うか、又
は80W/cm超高圧水銀灯3灯を用い2m/l1in
の速度で光照射を行う。
〔物性評価〕
fl+光硬化官度: プリベイク後の塗1)2にコダックステップタプレソト
(グレーススケール−2)を密着し、1.5J/−で露
光を行い、現像後の残膜状態から完全硬化照射量を求め
感度とした。
(2)解像度: 解像力テストパターンを用いて、適正露光を行い、現像
後のパターンより求めた。
(3)鉛筆硬度: JIS−D−02028−10に準じて測定した。
(4)密 着 性: JIS−D−02028−12に準じて基盤目テストを
行った。
(5)ハンダ耐熱性: 溶融したハンダ浴(260℃)中に浸漬後、JIS−D
−02028−12に串じて基盤目テストを行った。フ
ラックスはロジン系のものと水溶性(CI量2.2%)
のものを用いた。
(6)耐 湿 性: 2時間煮沸後、JIS−1)−02028−12ニ準じ
て基盤目テストを行った。
〔発明の効果〕
本発明の光硬化性組成物は、フォトリソグラフィーによ
りファインパターンの形成及び位置精度の優れたカバー
リングが可能で、且つ現像をアルカリ水溶液により行う
ことができるため取り扱いが容易であり、また水溶性フ
ラックスに充分耐える密着性を存すると共に耐熱性、機
械的性質及び化学的性質に優れており、更にタック性も
改良されたもので、プリント配線板工業における、ソル
ダーレジスト、マーキングインキ、ハンダレベラ用イン
キ、多層配線板用の眉間絶縁材料等として好適に用いら
れる。
また、本発明の光硬化性組成物は、構成成分のペースポ
リマーの製造後、該ポリマーを単乱せずに、そのまま反
応液に他の成分を混合することによっても得ることがで
き、従ってその調製が容易である等の効果も併有する。
手続補正書 昭和62年 1月23日 特許庁長官 黒 1)明 雄 殿 2、発明の名称 光硬化性組成物 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 (020)宇部興産株式会社 4、代理人 東京都港区赤坂九丁目6番29号 自発補正(出願日から1年3月以内の補正)6、補正の
対象 7、補正の内容 (II特許請求の範囲の記載を別紙添付の通り補正。
(2)第8頁6〜10行の式〔一般式(■)〕を下記式
に補正。
以上 2、特許請求の′gLIIllI +1) (1)(a)無水マレイン酸と不飽和炭化水素
化合物との共重合体の1部1号水マレイン酸構成単位の
酸無水環を、下記一般式(1)及び(II)で表される
化合物で開環した後、−1)u式(1)で表される化合
物で開環した部分をイミド閉環し、次いで、上記共重合
体中に開環により形成されたカルボキシル基の一部及び
上記共重合体の酸無水環の一部に、下記一般式(III
)で表される化合物の(メタ)アクリロイル基を付加さ
せてなり、下記一般式(1)、(U)及び(■)で表さ
れる化合物による上記酸無水環の開10率が40%以上
で、且つ上記共重合体中の下記一般式(III)で表さ
れる化合物の(メタ)アクリロイル基の付加率〔付加し
た((メタ)アクリロイル基の数/上記酸無水環の数)
×100〕が1%以上である変性無水マレイン酸共重合
体からなるヘースポリマー100ffl<1部に、(b
l光重合性モノマー5〜500重1部、及び(c)光開
始剤1〜50重量部 を添加してなる光硬化性組成物。
一般式(1) O 1)2N−R,−C−OH (上式中、R+ は炭素数1〜12のアルキル基又は芳
香族基を示す。) 一般式(II) 0−R2 (上式中、R2は炭素数1〜12の飽和化合物残基を示
す。) 一般式(III) (上式中、R3は炭素数1〜12のアルキル基又は芳香
族基を示し、R4は水素又はメチル基を示す)。
(2)上記酸無水環の開環率が50〜90%である、特
許請求の範囲第(II項記載の光硬化性組成物。
(3)上記変性無水マレイン酸共重合体は、上記一般式
(1)及び(II)で表される化合物による上記酸無水
環の開環率における割合が1:9〜8:2であり、一般
式(1)で表される化合物で開環した部分の80%以上
がイミド閉環されている、特許請求の範囲第(1)項記
載の光硬化性組成物。
(4)上記一般式<m>で表される化合物の(メタ)ア
クリロイル基の付加率が2〜50%である、特許請求の
範囲第1))項記載の光硬化性組成物。
(5)上記一般式(If)で表される化合物がセロソル
ブ類である、特許請求の範囲第(1)項記載の光硬化性
組成物。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(a)無水マレイン酸と不飽和炭化水素化合物と
    の共重合体の無水マレイン酸構成単位の酸無水環を、下
    記一般式( I )及び(II)で表される化合物で開環し
    た後、一般式( I )で表される化合物で開環した部分
    をイミド閉環し、次いで、上記共重合体中に開環により
    形成されたカルボキシル基の一部及び上記共重合体の酸
    無水環の一部に、下記一般式(III)で表される化合物
    の(メタ)アクリロイル基を付加させてなり、下記一般
    式( I )、(II)及び(III)で表される化合物による
    上記酸無水環の開環率が40%以上で、且つ上記共重合
    体中の下記一般式(III)で表される化合物の(メタ)
    アクリロイル基の付加率〔付加した((メタ)アクリロ
    イル基の数/上記酸無水環の数)×100〕が1%以上
    である変性無水マレイン酸共重合体からなるベースポリ
    マー100重量部に、(b)光重合性モノマー5〜50
    0重量部、及び(c)光開始剤1〜50重量部 を添加してなる光硬化性組成物。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中、R_1は炭素数1〜12のアルキル基又は芳
    香族基を示す。) 一般式(II) HO−R_2 (上式中、R_2は炭素数1〜12の飽和化合物残基を
    示す。) 一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中、R_3は炭素数1〜12のアルキル基又は芳
    香族基を示し、R_4は水素又はメチル基を示す。)
  2. (2)上記酸無水環の開環率が50〜90%である、特
    許請求の範囲第(1)項記載の光硬化性組成物。
  3. (3)上記変性無水マレイン酸共重合体は、上記一般式
    ( I )及び(II)で表される化合物による上記酸無水
    環の開環率における割合が1:9〜8:2であり、一般
    式( I )で表される化合物で開環した部分の80%以
    上がイミド閉環されている、特許請求の範囲第(1)項
    記載の光硬化性組成物。
  4. (4)上記一般式(III)で表される化合物の(メタ)
    アクリロイル基の付加率が2〜50%である、特許請求
    の範囲第(1)項記載の光硬化性組成物。
  5. (5)上記一般式(II)で表される化合物がセロソルブ
    類である、特許請求の範囲第(1)項記載の光硬化性組
    成物。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03289655A (ja) * 1990-04-06 1991-12-19 Tamura Kaken Kk 感光性樹脂組成物
US5723261A (en) * 1989-11-30 1998-03-03 Tamura Kaken Co., Ltd. Photopolymerizable composition
WO1998012238A1 (fr) * 1996-09-18 1998-03-26 Clariant International Ltd. Polymer absorbant la lumiere, procede de synthese de ce polymere, et composition filmogene et film antireflexion prepares au moye n de ce polymere
JP2008031412A (ja) * 2006-06-27 2008-02-14 Matsushita Electric Works Ltd 変性スチレン−フマル酸共重合体とそれを用いた低収縮材、並びに熱硬化性樹脂の回収・再利用方法および変性スチレン−フマル酸共重合体の製造方法
WO2016103802A1 (ja) * 2014-12-24 2016-06-30 マナック株式会社 新規な含臭素重合体及びその製造方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU618772B2 (en) * 1987-12-30 1992-01-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photocurable ionomer cement systems
US5523383A (en) * 1990-01-30 1996-06-04 Nippon Petrochemicals Co., Ltd. Photocurable resin composition for the preparation of a printed wiring board and process for the preparation of photocurable resin
US5227413A (en) * 1992-02-27 1993-07-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Cements from β-dicarbonyl polymers
JP3329877B2 (ja) * 1993-03-02 2002-09-30 互応化学工業株式会社 プリント回路基板製造用レジストインク組成物、それを用いたレジスト膜及びプリント回路基板
US5514502A (en) * 1993-08-16 1996-05-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition, color filter, and production of color filter
JPH07114183A (ja) * 1993-10-15 1995-05-02 Sony Corp 光重合性組成物及びこれを用いた硬化塗膜パターンの形成方法
TW424172B (en) 1995-04-19 2001-03-01 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
US9469785B2 (en) * 2012-09-19 2016-10-18 Akzo Nobel Coatings International B.V. Aqueous coating compositions including the reaction product of maleic anhydride with an unsaturated compound and an amine

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3539664A (en) * 1968-02-14 1970-11-10 Allied Chem Homogeneous nylon graft copolymers onto ethylene copolymer backbones
US3644571A (en) * 1970-03-19 1972-02-22 Gulf Research Development Co Process of heating caprolactam graft copolymers to increase melt strength
DE2142968C3 (de) * 1971-08-27 1978-11-30 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Anionische Papierleimungsmittel
US3972961A (en) * 1974-11-13 1976-08-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for the preparation of graft copolymers
US4158730A (en) * 1975-06-18 1979-06-19 Ciba-Geigy Corporation Crosslinkage polymeric compounds
US4012255A (en) * 1976-05-06 1977-03-15 Xerox Corporation Overcoated electrostatographic photoreceptor
US4448876A (en) * 1982-05-24 1984-05-15 Gaf Corporation Electron beam sensitive resist
US4481340A (en) * 1982-12-03 1984-11-06 Lourens Minnema Photosensitive polyamic acid derivative, compound used in manufacture of derivative, method of manufacturing substrate having polyimide layer, and semiconductor device made from said method
US4448875A (en) * 1983-03-31 1984-05-15 Gaf Corporation Electron beam sensitive mixture resist
US4795692A (en) * 1987-02-02 1989-01-03 Eastman Kodak Company Negative-working polymers useful as X-ray or E-beam resists

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5723261A (en) * 1989-11-30 1998-03-03 Tamura Kaken Co., Ltd. Photopolymerizable composition
JPH03289655A (ja) * 1990-04-06 1991-12-19 Tamura Kaken Kk 感光性樹脂組成物
WO1998012238A1 (fr) * 1996-09-18 1998-03-26 Clariant International Ltd. Polymer absorbant la lumiere, procede de synthese de ce polymere, et composition filmogene et film antireflexion prepares au moye n de ce polymere
JP2008031412A (ja) * 2006-06-27 2008-02-14 Matsushita Electric Works Ltd 変性スチレン−フマル酸共重合体とそれを用いた低収縮材、並びに熱硬化性樹脂の回収・再利用方法および変性スチレン−フマル酸共重合体の製造方法
WO2016103802A1 (ja) * 2014-12-24 2016-06-30 マナック株式会社 新規な含臭素重合体及びその製造方法
US10442876B2 (en) 2014-12-24 2019-10-15 Manac Inc. Bromine-containing polymers and methods for producing the same

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Publication number Publication date
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US4855215A (en) 1989-08-08

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