JPS62285224A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 （産業上の利用分野） 本発明は、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録
媒体の製造方法に係るものであり、特に磁気記録層上に
耐久性に優れた保護膜を形成する方法に関するものであ
る。

（従来の技術及びその問題点） 強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録体は、金属
ディスク基体あるいはテープ基体上に、強磁性金属材料
を真空蒸着するとか、樹脂マトリックスに強磁性金属材
料を分散させたエマルジョンをスピンコードすることに
より製造される。強磁性金属薄膜は高密度記録にすぐれ
た特性を有するが、ヘッドの接触によって摩耗や損傷を
受けやすく、また空気中で酸化され、特性変化がおこる
等の欠点がある。

そこで強磁性金属薄膜上に種々の保護膜を形成すること
により、耐久性、耐食性を改善することが実施されてお
り、そのひとつとして上記保護膜をプラズマ重合により
形成することが近年注目を集めている。プラズマ重合法
を用いれば、薄膜化が容易でありしかも得られた薄膜は
均一性に優れているなど種々の特性を有しているからで
ある。

しかしながら従来の製造方法で得られた保護膜では、摩
擦係数が大きくまた磁気ディスクの場合Ｃ８Ｓテストの
結果によれば、磁気ヘッドとの接触を多数回繰り返した
時に、膜の表面に損傷が見られるようになるなど耐久性
、耐摩耗性に劣るものであった。

（問題点を解決する為の手段及び作用）本発明の目的は
、摩擦係数が小さく、磁気ヘッドとの接触を多頻度行っ
ても表面に何ら損傷を受げることのない強固な保護膜を
形成し、走行性に優れた磁気記録媒体を製造する方法を
提供することにある。

本発明に係る磁気記録媒体の製造方法は、基体上に強磁
性金属薄膜を形成してなる磁気記録媒体において、前記
強磁性薄膜の表面にプラズマ重合により保護膜を形成し
た後、上記保護膜に対して熱処理を施すことを特徴とす
るものであり、プラズマ重合により得た保護膜を更に熱
処理することによって膜構造をより強固にし、また膜表
面をより平滑にし、摩擦係数の小さい走行性に優れた磁
気記録媒体を得ることができる。

これまでにも、結晶性高分子や非晶質耐熱性ポリマー等
に対して、密度の向上などの物性改良をねらって種々の
熱処理を施すことが行われている。

しかしこれらが、バルク試料を対象としたものであるの
に対して、発明者らは薄膜熱処理時に見られる薄膜特有
の表面効果、即ち接着性、摩擦係数、平滑性などの表面
物性変化に着目し、顕著な改良効果のあることを見い出
し本発明の完成に至った。

本発明を例えば磁気ディスクの製造に適用すると１次の
ようなプロセスとなる。まず基体となるアルミニウム基
板上に、Ｎ１−Ｐなどの化学メッキ層を密着せしめ、研
摩仕上げなどの後処理を施したのち、その表面に物理的
または化学的手法により強磁性金属薄膜を形成する。つ
ぎに、これを第１図に示す如き対極型プラズマ重合装置
にセントする。

即ち第１図において、１は基体表面に強磁性金属薄膜を
形成した磁気ディスク本体、２Ａ・２Ｂは対向する電極
、３はペルジャー、４はテーブル、５はペルジャー３内
を真空にする真空ポンプ、６は絶対真空計、７は電極２
Ａ・２８に接続された高周波電源、８は常温常圧で固体
状態であるモノマー、９は固体モノマー間の抵抗加熱体
、１０は抵抗加熱体用の電源、１１はキャリアーガス源
、１２はモノマー源、１３はペルジャー３内にキャリア
ーガス及びモノマーを導入するためのノズルである。こ
こで用いるプラズマ発生装置はこれに限定されるもので
はな（、誘導コイル型、導波管型、コンデンサ型等の高
周波発振装置を備えた何れの反応系であっても良い。

本発明で用いるキャリアーガスとしては、アルゴン、ヘ
リウム、窒素などの活性ガスであり、七ツマ−としては
メタン、エタン、プロパン、エチレン、プロピレン、　
ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６．　Ｃ５Ｆｓ、Ｃ２Ｆ４、Ｃ３Ｆ、　
　などの気体状モノマー、ベンゼン、ヘキサン、メタア
クリル酸メチル、　ＣＭ３Ｓｔ（０ＣＲ１）３などの液
体状モノマー、ナフタレン、アントラセン、ジフェニー
ル、ジベンジル、ジフェニールアセチレンなどの固体状
モノマーなと、プラズマ重合法によって重合膜を形成す
ることができるいずれのモノマーであってもよい。

高周波によりプラズマ重合を行う場合、高周波出力と電
極面積の大きさから、エネルギー密度を０．２〜４Ｗ／
ｃｒＩ、望ましくは０．５〜３Ｗ／ｉの範囲に入るよう
にし、高周波電源の出力を３０〜５００Ｗ、望ましくは
１００〜４５０Ｗに保持し。

出来得る限り高出力下で行うことにより硬質の保護膜を
得ることが出来る。なお高周波電源は通常１３、５６　
ＭＨ２の発振周波数であるが、特にこの周波数に限定さ
れることなく、直流からマイクロ波までのいかなる周波
数であってもよい。

またペルジャー内の圧力は０．００５〜３Ｔｏｒｒ。

望ましくは０．０１〜１．５　Ｔｏｒｒ　の間にて行う
ことが良く、反応時間はモノマーの種類、電極配置等に
よって影響を及ぼすものであるが、通常５秒〜ｌＯ分、
望ましくは１０秒〜３分にて所望の膜厚のものを得るこ
とが出来ろ。

重合膜の厚さは、通常１０〜１０００オングストローム
であり、好ましくは８０〜６００オングストロームに分
布することが望ましい。この膜厚が薄すぎると耐久性、
耐摩耗性が劣り、逆に膜厚が厚すぎるとスペーシングロ
スが大きくなり、記録の読み出し特性に悪影響を及ぼす
ものである。

このようにして、高分子フィルム、高分子シート、アル
ミニウムなどの金属の基板上に被着形成された強磁性金
属薄膜表面にプラズマ重合膜が保護膜として形成される
。

本発明においては、上記プラズマ重合により保護膜を形
成した後、更に熱を加えることにより膜構造をより強固
に、また保護膜の表面をより平滑にし、耐久性、耐摩耗
性の向上を図るものである。

熱を加える平板としては抵抗加熱、高周波加熱。

レーザー加熱、赤外線加熱、オープン中での加熱など保
護膜に熱を供与できるものであればどんな方法でもよく
、また加熱時の雰囲気は真空中、不活性ガス中、大気中
といずれでも差し支えない。

加熱の温度範囲としては５０〜３００℃であり、望まし
くは８０〜２５０℃である。加熱温度が低過ぎると膜構
造及び膜表面の改質を図ることが出来ず、また加熱温度
が高過ぎると保護膜及び強磁性金属薄膜への悪影響が生
じてしまう。

また熱を加えることによって通常保護膜には膜構造の変
化に伴ない膜厚の変化が見られる。この膜厚の変化率が
±２０％以内になるよう熱処理を施すことが膜の表面構
造の改質を図る上で望ましい０ 尚プラズマ重合保護膜の加熱温度の範囲は前述の如く５
０〜３００　’Ｃであるが、加熱時間は温度が高い場合
は短時間でよく、温度が低い場合は長時間行うことにな
るが大体１０秒〜１２０分程度である。時間が短かすぎ
ても所定の性能が得られな（、又長すぎる場合は所定の
性能が得られないか、不経済である。

（実施例） 次に本発明の具体的実施例について説明する。

（実施例１） 第１図に示す対極型プラズマ重合装置を使用し、モノマ
ー源として融点５２℃のジベンジル（別名ジフェニルエ
タン、　Ｃｅ　Ｈｓ　ＣＨ２ＣＨ２Ｃａ　Ｈｓ　）　　
を用いて。

直径５インチの磁気ディスク本体の表面にプラズマ重合
法により保護膜を形成した後、抵抗加熱装置により熱処
理を行った。熱処理の条件としては１３０℃で１０分間
であり、加熱時の雰囲気は空気中であった。

尚プラズマ重合膜の重合条件は、直径１３０龍のステン
レス製電極を使用し、該電極間の距離を２５龍に保持し
、高周波電源の周波数を１３．５６ＭＨ２、供給電力を
２００Ｗとし、キャリアーガスとして純アルゴンガスを
用い、ペルジャー内の圧力は０．１’ｌ’ｏｒｒ　とし
た。

（実施例２） 実施例１において熱処理の条件を１３０℃で２０分間と
した。

（実施例３） 実施例１において熱処理の条件を２３０℃で１０分間と
した。

（実施例４） 実施例１においてモノマー源として４弗化エチレン（Ｃ
２Ｆ４）を用い、熱処理の条件を１８０°Ｃで１０分間
とした。

（実施例５） 実施例４において熱処理の条件を２３０　’Ｃで１０分
間とした。これらの磁気ディスクについて温度２５°Ｃ
１湿度８０％の条件下においてＣ８Ｓ試験機によりＣ８
Ｓサイクルを測定し、Ｃ８Ｓサイクルが１万回になった
時点で、保護膜に損傷が見られるかどうかを観察した。

また１　００　ｒｐｍにおける摩擦係数も測定した。

結果は第１表に示す通りである。また本発明磁気ディス
クと比較するため、熱処理を施していない、磁気ディス
クについても、Ｃ８Ｓ試験並びにＣＳＳ試験中の保護膜
の損傷、及び摩擦係数の測定を行った。

第１表の結果から明らかな如く、プラズマ重合法により
形成した保護膜に熱処理を施すと、摩擦係数が大幅に減
少し、Ｃ８Ｓ耐久性も格段に向上し、磁気ヘッドとの多
頻度の接触によっても何ら損傷を受けなくなることが分
かる。これは熱処理を施すことによって保護膜の膜構造
がより強固になり、かつ膜表面が平滑になるためと思わ
れる。

（効　果） 上記の結果から明らかなごとく、プラズマ重合法により
形成した保護膜に更に熱処理を施すことによって、耐久
性、耐摩耗性、潤滑性に優れた磁気記録媒体を得ること
が出来る。本発明で対象となる磁気記録媒体には、磁気
ディスクはもちろんのこと、磁気テープ、フロッピーデ
ィスク、磁気カードなどの各種記録媒体も含まれる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明磁気記録媒体を得るための装置の一例を
示す説明図。 ｌ・・磁気ディスク本体、２人・２Ｂ・・・対向する電
極、３・・・ペルジャー、４・・・テーブル、５・・・
真空ポンプ系、６・・絶対真空計、７・・・高周波電源
、８・・・固体有機化合物、９・・・抵抗加熱体、１０
・・・電源、１１・・・キャリアーガス源、１２・・・
液体または気体有機化合物、１３・・・キャリアーガス
及び液体又は気体有機化合物導入ノズル。 特許出願人　古河電気工業株式会社 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基体上に強磁性金属薄膜を形成してなる磁気記録媒体に
   おいて、該強磁性金属薄膜の表面にプラズマ重合により
   保護膜を形成した後、前記保護膜に対して熱処理を施す
   ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。