JPH071544B2 - 有機複合保護膜の製造方法 - Google Patents
有機複合保護膜の製造方法Info
- Publication number
- JPH071544B2 JPH071544B2 JP5314486A JP5314486A JPH071544B2 JP H071544 B2 JPH071544 B2 JP H071544B2 JP 5314486 A JP5314486 A JP 5314486A JP 5314486 A JP5314486 A JP 5314486A JP H071544 B2 JPH071544 B2 JP H071544B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- recording layer
- magnetic disk
- self
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気ディス
クにおいて、該記録層の表面に保護膜を形成せしめに方
法に関するものであり、特にヘッドの接触に伴う記録層
の耐久性に優れた磁気ディスクを提供せんとするもので
ある。
クにおいて、該記録層の表面に保護膜を形成せしめに方
法に関するものであり、特にヘッドの接触に伴う記録層
の耐久性に優れた磁気ディスクを提供せんとするもので
ある。
（従来の技術） 従来強磁性金属薄膜を記録層とせる磁気ディスクにおい
ては、ステンレス或はアルミニウム等の研磨基板上に、
金属ターゲットを真空蒸着或はスパッタリングするか又
は樹脂マトリックスに磁性材料を分散せしめたエマルジ
ョンをスピンコートせしめる等により薄膜による記録層
を形成せしめているものである。これらの材料は高密度
記録に優れた特性を有するが、その反面ヘッドの接触に
より記録層の摩耗や損傷をうけ易く更に金属による薄膜
は空気中で酸化され易く特性に変化を生ぜしめる等の欠
点を有する。従って金属記録層の表面に種々の保護膜を
設けることにより耐食性、耐久性を改善することが実施
されている。特に金属やプラスチックの薄膜を形成する
ことがしばしば行われている。
ては、ステンレス或はアルミニウム等の研磨基板上に、
金属ターゲットを真空蒸着或はスパッタリングするか又
は樹脂マトリックスに磁性材料を分散せしめたエマルジ
ョンをスピンコートせしめる等により薄膜による記録層
を形成せしめているものである。これらの材料は高密度
記録に優れた特性を有するが、その反面ヘッドの接触に
より記録層の摩耗や損傷をうけ易く更に金属による薄膜
は空気中で酸化され易く特性に変化を生ぜしめる等の欠
点を有する。従って金属記録層の表面に種々の保護膜を
設けることにより耐食性、耐久性を改善することが実施
されている。特に金属やプラスチックの薄膜を形成する
ことがしばしば行われている。
然しながら樹脂皮膜を保護膜とする場合には厚膜化にな
る傾向があると共に均一な皮膜が得られないこと或はヘ
ッドの材質によってはヘッドの摩耗を生じたりするため
CSSテストなどの耐久性評価も劣る。更に保護膜と記録
層との接着強度も弱いものであった。
る傾向があると共に均一な皮膜が得られないこと或はヘ
ッドの材質によってはヘッドの摩耗を生じたりするため
CSSテストなどの耐久性評価も劣る。更に保護膜と記録
層との接着強度も弱いものであった。
又有機化合物モノマーのプラズマ重合法により保護膜を
形成することが種々提案されているが、表面の磨擦係数
が大きいものが多く、磁気ヘッドの接触によって破壊さ
れることがしばしば生じた。
形成することが種々提案されているが、表面の磨擦係数
が大きいものが多く、磁気ヘッドの接触によって破壊さ
れることがしばしば生じた。
（発明が解決しょうとする問題点） 本発明は耐摩耗性、耐食性及び磁気特性に優れれ磁気デ
ィスク用保護膜をうると共にヘッドの摩耗も生ずること
なく且つCSSテストにおいても実用上においても何等支
障を生ぜしめることのない保護膜の製造方法を開発した
ものである。
ィスク用保護膜をうると共にヘッドの摩耗も生ずること
なく且つCSSテストにおいても実用上においても何等支
障を生ぜしめることのない保護膜の製造方法を開発した
ものである。
（問題点を解決するための手段） 本発明方法はアルミニウム板等の基板上にNiPなどの化
学メッキ層を付着せしめこれを研磨仕上などの後処理を
施した後物理的或は化学的手法により強磁性金属薄膜に
よる記録層を形成し、この膜面に有機化合物のモノマー
をプラズマ重合法によりえたポリマー被膜からなる保護
膜を形成せしめるものである。
学メッキ層を付着せしめこれを研磨仕上などの後処理を
施した後物理的或は化学的手法により強磁性金属薄膜に
よる記録層を形成し、この膜面に有機化合物のモノマー
をプラズマ重合法によりえたポリマー被膜からなる保護
膜を形成せしめるものである。
而して上記プラズマ重合法として２枚のステンレス製円
板の表面にMoS2等の自己潤滑性を有する物質からなる微
粉末を均一に塗布したものを所望間隔に設けて対向電極
を形成し、該電極間又は電極上に上記磁気ディスクを設
置し該電極を介して高周波プラズマを発生せしめるとプ
ラズマ中でMoS2粒子がスパッタされるため上記記録層上
で微粒子となり自己潤滑性材料のスパッタ膜を形成す
る。
板の表面にMoS2等の自己潤滑性を有する物質からなる微
粉末を均一に塗布したものを所望間隔に設けて対向電極
を形成し、該電極間又は電極上に上記磁気ディスクを設
置し該電極を介して高周波プラズマを発生せしめるとプ
ラズマ中でMoS2粒子がスパッタされるため上記記録層上
で微粒子となり自己潤滑性材料のスパッタ膜を形成す
る。
これと同時に有機化合物のモノマーを導入せしめること
により上記自己潤滑性材料の微粒子が分散されてそのス
パッタ層を含有するプラズマ重合膜からなる本発明複合
保護膜をうるものである。
により上記自己潤滑性材料の微粒子が分散されてそのス
パッタ層を含有するプラズマ重合膜からなる本発明複合
保護膜をうるものである。
本発明方法において自己潤滑性材料のパウダー平均粒径
は0.3〜５μｍの範囲のものが好ましく、このパウダー
は熱硬化性樹脂及び石油溶剤により均一に分散せしめた
エマルジョンを使用する。このエマルジョンをステンレ
ス製円板面に塗布した後揮発性溶剤を蒸発除去し、乾燥
せしめて厚さ100μ以下の自己潤滑性材料のパウダーの
充填された薄膜でコーティングされた電極を形成する。
然る後アルゴン、ヘリウム、窒素などの不活性気にて置
換せる真空容器中に上記記録層が最上層になった磁気デ
ィスクを設置し、高周波（通常13.56MHz）の発振を加
え、0.3〜0.8W/cm2の電極エネルギーで10-1〜10-3Torr
真空中において前記自己潤滑材料の薄膜をスパッタして
該反応容器中においた磁気ディスクの記録層上に自己潤
滑材料層を形成せしめるものである。この層は通常50Å
〜100Å程度が好ましい。
は0.3〜５μｍの範囲のものが好ましく、このパウダー
は熱硬化性樹脂及び石油溶剤により均一に分散せしめた
エマルジョンを使用する。このエマルジョンをステンレ
ス製円板面に塗布した後揮発性溶剤を蒸発除去し、乾燥
せしめて厚さ100μ以下の自己潤滑性材料のパウダーの
充填された薄膜でコーティングされた電極を形成する。
然る後アルゴン、ヘリウム、窒素などの不活性気にて置
換せる真空容器中に上記記録層が最上層になった磁気デ
ィスクを設置し、高周波（通常13.56MHz）の発振を加
え、0.3〜0.8W/cm2の電極エネルギーで10-1〜10-3Torr
真空中において前記自己潤滑材料の薄膜をスパッタして
該反応容器中においた磁気ディスクの記録層上に自己潤
滑材料層を形成せしめるものである。この層は通常50Å
〜100Å程度が好ましい。
次に上記容器内に所望の有機化合物のモノマー蒸気を導
入し0.01〜1.0Torrの雰囲気で蒸気自己潤滑材料のスパ
ッタ層上にプラズマ重合層を形成せしめ、自己潤滑材料
のスパッタ層を固定せしめる。
入し0.01〜1.0Torrの雰囲気で蒸気自己潤滑材料のスパ
ッタ層上にプラズマ重合層を形成せしめ、自己潤滑材料
のスパッタ層を固定せしめる。
なお自己潤滑材料を塗布した電極は冷却水を電極支持部
に流通せしめ加熱を防ぐことが通常行なわれる。
に流通せしめ加熱を防ぐことが通常行なわれる。
本発明方法において自己潤滑性パウダーを塗布すること
の要点は電極の実効表面積を大きくすることにより低い
エネルギーの出力でスパッタ効果がえられることであ
る。
の要点は電極の実効表面積を大きくすることにより低い
エネルギーの出力でスパッタ効果がえられることであ
る。
なお、自己潤滑性を有する微粉末とは、例えば二硫化モ
リブデン、二硫化タングステン、グラファイト、テトロ
フロロエチレンである。
リブデン、二硫化タングステン、グラファイト、テトロ
フロロエチレンである。
（実施例） 厚さ1.5mm、直径130mmのステンレス製円板の表面に二硫
化モリブデンのペースト（日本モリブデン株式会社製、
DNコート）をコーティング棒にて均一に塗布した後、約
20cm離れたところから150Wの赤外ランプにて、これを10
分間加熱乾燥して平均厚15μｍのMoS2の薄膜層をえた。
これを水冷電極上において、これより約25mm離れたとこ
ろに保護膜を形成するための直径５インチの磁気ディス
クを電気的に絶縁して設置した。
化モリブデンのペースト（日本モリブデン株式会社製、
DNコート）をコーティング棒にて均一に塗布した後、約
20cm離れたところから150Wの赤外ランプにて、これを10
分間加熱乾燥して平均厚15μｍのMoS2の薄膜層をえた。
これを水冷電極上において、これより約25mm離れたとこ
ろに保護膜を形成するための直径５インチの磁気ディス
クを電気的に絶縁して設置した。
この磁気ディスクはアルミニウム基板上にNiPをメッキ
した後研磨して強磁性金属薄膜からなる記録層を形成せ
しめたものである。
した後研磨して強磁性金属薄膜からなる記録層を形成せ
しめたものである。
このように電極に磁気ディスクを配置したものを直径約
300mmのベルジャー内に収納し、真空ポンプにより10-4m
mHgの真空に到達せしめた後、該ベルジャー内に高純度
アルゴンを10cc/分の割合で導入した。10-2mmHgになる
ようにバルブとガス流量を調製しながら13.56MHzの高周
波プラズマ（80W）でアルゴンプラズマを２分間発生せ
しめた。次に3,3,3トリフロロプロピルトリメトキシシ
ランを65℃で蒸発させながら60ml/分の流量で導入せし
めアルゴンプラズマの存在下で50秒間プラズマ重合せし
め、磁気ディスクの記録層の表面に約350Åの本発明複
合保護膜を形成した。
300mmのベルジャー内に収納し、真空ポンプにより10-4m
mHgの真空に到達せしめた後、該ベルジャー内に高純度
アルゴンを10cc/分の割合で導入した。10-2mmHgになる
ようにバルブとガス流量を調製しながら13.56MHzの高周
波プラズマ（80W）でアルゴンプラズマを２分間発生せ
しめた。次に3,3,3トリフロロプロピルトリメトキシシ
ランを65℃で蒸発させながら60ml/分の流量で導入せし
めアルゴンプラズマの存在下で50秒間プラズマ重合せし
め、磁気ディスクの記録層の表面に約350Åの本発明複
合保護膜を形成した。
斯くして得た本発明複合保護膜の性能を調べるために耐
久性及び耐食性を測定した。その結果は第１表に示す通
りである。
久性及び耐食性を測定した。その結果は第１表に示す通
りである。
なお本発明方法による複合保護膜と比較するために従来
方法のプラズマ重合方法により上記の磁気ディスクの記
録層上に約350Åのトリフロロプロピルトリメトキシシ
ランの保護膜（比較例保護膜）を形成し、上記の如く耐
久性及び耐食性を測定し、その結果を第１表に併記し
た。
方法のプラズマ重合方法により上記の磁気ディスクの記
録層上に約350Åのトリフロロプロピルトリメトキシシ
ランの保護膜（比較例保護膜）を形成し、上記の如く耐
久性及び耐食性を測定し、その結果を第１表に併記し
た。
（効果） 以上詳述した如く本発明方法によりえた複合保護膜によ
ればプラズマ重合薄膜に自己潤滑性を有する物質のスパ
ッター層を含有せしめることによりプラズマ重合による
硬い皮膜と自己潤滑性を有する物質との相乗効果により
耐久性並に潤滑性に優れた磁気ディスク用保護膜をうる
等工業上極めて有用のものである。
ればプラズマ重合薄膜に自己潤滑性を有する物質のスパ
ッター層を含有せしめることによりプラズマ重合による
硬い皮膜と自己潤滑性を有する物質との相乗効果により
耐久性並に潤滑性に優れた磁気ディスク用保護膜をうる
等工業上極めて有用のものである。
Claims (1)
- 【請求項１】磁気ディスク記録層の表面に、有機化合物
モノマーをプラズマ重合法によりえた有機化合物ポリマ
ー皮膜による保護膜を形成せしめる方法において、自己
潤滑性を有する物質の微粉末を表面に固定した２枚の金
属製平板を所望間隔に設けて電極を形成し、該電極上又
は電極間に上記の記録層を有する磁気ディスクを設置
し、該電極間に高周波によるグロー放電を発生しなが
ら、該記録層の表面にプラズマ重合による保護膜を形成
せしめることを特徴とする有機複合保護膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5314486A JPH071544B2 (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | 有機複合保護膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5314486A JPH071544B2 (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | 有機複合保護膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62209729A JPS62209729A (ja) | 1987-09-14 |
| JPH071544B2 true JPH071544B2 (ja) | 1995-01-11 |
Family
ID=12934631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5314486A Expired - Lifetime JPH071544B2 (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | 有機複合保護膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH071544B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030078254A (ko) * | 2002-03-28 | 2003-10-08 | 에스피테크(주) | 스테인레스 스틸 박판의 표면을 개질하는 방법 및 이를이용한 스테인레스 스틸 벽지소재 |
| CN104774296A (zh) * | 2015-03-25 | 2015-07-15 | 天长市开林化工有限公司 | 高性能超疏水石墨烯改性氟硅树脂材料及其制备方法 |
| CN115347318B (zh) * | 2022-08-29 | 2023-08-04 | 中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司 | 一种海水电解制氢复合隔膜及其制备方法、应用 |
-
1986
- 1986-03-11 JP JP5314486A patent/JPH071544B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62209729A (ja) | 1987-09-14 |
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