JPH01100732A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH01100732A JPH01100732A JP25624987A JP25624987A JPH01100732A JP H01100732 A JPH01100732 A JP H01100732A JP 25624987 A JP25624987 A JP 25624987A JP 25624987 A JP25624987 A JP 25624987A JP H01100732 A JPH01100732 A JP H01100732A
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Landscapes
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒
体の製造方法に係り、特に磁気記録層上に耐久性に優れ
た保護膜を形成する方法に関するものである。
体の製造方法に係り、特に磁気記録層上に耐久性に優れ
た保護膜を形成する方法に関するものである。
(従来の技術)
従来強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録体は非
磁性の金属ディスク基体或はテープ基体上に、強磁性金
属材料を真空蒸着するとか、樹脂マトリックスに強磁性
金属材料を分散させたエマルジ1ンをスピンコードする
ことにより製造しているものである。
磁性の金属ディスク基体或はテープ基体上に、強磁性金
属材料を真空蒸着するとか、樹脂マトリックスに強磁性
金属材料を分散させたエマルジ1ンをスピンコードする
ことにより製造しているものである。
然しなから強磁性金属薄膜は高密度記録に優れた特性を
有するが、ヘッドの接触によって摩耗や損傷を受けやす
く又空気中で酸化又は腐食され、特性変化がおこる等の
欠点がある。
有するが、ヘッドの接触によって摩耗や損傷を受けやす
く又空気中で酸化又は腐食され、特性変化がおこる等の
欠点がある。
従って強磁性金属薄膜上に種々の保護膜を形成すること
により耐久性、耐食性を改善することが実施されており
、その1例として上記保護膜をプラズマ重合により形成
することが近年注目されている。このプラズマ重合法を
用いることにより薄膜化が容易であり且つ得られた薄膜
は均一性に優れている等積々の特性を有するものである
。
により耐久性、耐食性を改善することが実施されており
、その1例として上記保護膜をプラズマ重合により形成
することが近年注目されている。このプラズマ重合法を
用いることにより薄膜化が容易であり且つ得られた薄膜
は均一性に優れている等積々の特性を有するものである
。
然しなから従来のプラズマ重合法により得られた保護膜
は、摩擦係数が大きく又磁気ディスクの場合、C8Sテ
ストの結果によれば磁気ヘッドとの接触を多数回繰り返
したときに、膜の表面に損傷が見られるなど耐久性、耐
摩耗性に劣るものであった。
は、摩擦係数が大きく又磁気ディスクの場合、C8Sテ
ストの結果によれば磁気ヘッドとの接触を多数回繰り返
したときに、膜の表面に損傷が見られるなど耐久性、耐
摩耗性に劣るものであった。
本発明者等はかかる欠点を改善せんとして先に強磁性金
属薄膜の表面にプラズマ重合による保護膜を設けた後、
熱処理を行って磁気記録媒体を製造する方法(特願昭6
1−127644号〕を提案し父上記保護膜を熱処理す
るにおいて酸素などの反応性がス雰囲気中で行う方法(
特願昭61−217216号)を提案した。
属薄膜の表面にプラズマ重合による保護膜を設けた後、
熱処理を行って磁気記録媒体を製造する方法(特願昭6
1−127644号〕を提案し父上記保護膜を熱処理す
るにおいて酸素などの反応性がス雰囲気中で行う方法(
特願昭61−217216号)を提案した。
又プラズマ重合により保護膜を基板に被着せしめるに際
し該基板を加熱しながら行うことにより膜の平滑性と接
着性とを大巾に改良しうる方法(特願昭61−2344
59号)も提案した。
し該基板を加熱しながら行うことにより膜の平滑性と接
着性とを大巾に改良しうる方法(特願昭61−2344
59号)も提案した。
然しなからかかる方法を個別に行っても、機械的特性に
おいて十分な保役膜をうろことが出来ないものであった
。
おいて十分な保役膜をうろことが出来ないものであった
。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明はかかる現状に鑑み鋭意研究を行りた結果、摩擦
係数が小さく、磁気ヘッドとの接触を多頻度行っても表
面に何等の損傷をうけることのない強固な保護膜を形成
し、走行性に優れた磁気記録媒体を製造する方法を開発
したものである。
係数が小さく、磁気ヘッドとの接触を多頻度行っても表
面に何等の損傷をうけることのない強固な保護膜を形成
し、走行性に優れた磁気記録媒体を製造する方法を開発
したものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明方法は基板上に強磁性金属薄膜を設けた磁気記録
層の表面に保護膜を形成して磁気記録媒体を製造する方
法において、該基板上に強磁性金属薄膜を設けた後膣基
板を50〜300°0に加熱しながら、該強磁性金属薄
膜の表面に常温、常圧にて固体状の昇華性有機化合物を
気化せしめてプラズマ重合を行って保護膜を形成し、次
いで熱処理を施すことを特徴とするものである。
層の表面に保護膜を形成して磁気記録媒体を製造する方
法において、該基板上に強磁性金属薄膜を設けた後膣基
板を50〜300°0に加熱しながら、該強磁性金属薄
膜の表面に常温、常圧にて固体状の昇華性有機化合物を
気化せしめてプラズマ重合を行って保護膜を形成し、次
いで熱処理を施すことを特徴とするものである。
なお従来結晶性高分子や非晶質耐熱性ポリマー等に対し
て密度の向上などの物性改良を図るために微細構造発現
の雰囲気温度やポリマーの重合温度を変えたり又得られ
たポリマーの成形品に種々の熱処理を施すことが行われ
ているが、これらの方法゛はバルク試料を対象にしたも
のである。
て密度の向上などの物性改良を図るために微細構造発現
の雰囲気温度やポリマーの重合温度を変えたり又得られ
たポリマーの成形品に種々の熱処理を施すことが行われ
ているが、これらの方法゛はバルク試料を対象にしたも
のである。
本発明方法はこれらの方法とは全く異にするものであり
、保護膜における薄膜特有の表面効果即ち接着性、摩擦
係数、平滑性などの表面物性変化に着目したものである
。
、保護膜における薄膜特有の表面効果即ち接着性、摩擦
係数、平滑性などの表面物性変化に着目したものである
。
本発明方法において基板を加熱しつつプラズマ重合有機
薄膜を形成するのは、強磁性金属薄膜の酸化、損傷を防
止し又強磁性金属薄膜との接着性を改善し、平滑にして
強固な膜を形成して、摩擦係数の小さい走行性に優れた
磁気記録媒体をうるためである。
薄膜を形成するのは、強磁性金属薄膜の酸化、損傷を防
止し又強磁性金属薄膜との接着性を改善し、平滑にして
強固な膜を形成して、摩擦係数の小さい走行性に優れた
磁気記録媒体をうるためである。
本発明方法ははじめに基体を加熱することであるがその
温度については有機モノマーの種類及び反応条件により
異るものである。通常50〜300℃、好ましくは80
〜250℃が望ましい。この温度が50υ未満の場合に
は強固にして平滑な保F5膜をうることが出来ず又30
0°Cを超えた場合には強磁性金属薄膜の接着性が劣り
且つ保護膜の硬度が低下するものである。
温度については有機モノマーの種類及び反応条件により
異るものである。通常50〜300℃、好ましくは80
〜250℃が望ましい。この温度が50υ未満の場合に
は強固にして平滑な保F5膜をうることが出来ず又30
0°Cを超えた場合には強磁性金属薄膜の接着性が劣り
且つ保護膜の硬度が低下するものである。
なお加熱方法としては抵抗加熱体による加熱、赤外線輻
射による加熱など基体に熱を供与しうる方法であれば何
れの方法でもよい。
射による加熱など基体に熱を供与しうる方法であれば何
れの方法でもよい。
又本発明方法において使用する有機化合物としては、常
温常圧にて固体状を呈するナフタレン、アントラセン、
ジフェニール、ジベンジル、ジフェニールアセチレンな
どの外事性芳香族有機化合物を使用するものである。
温常圧にて固体状を呈するナフタレン、アントラセン、
ジフェニール、ジベンジル、ジフェニールアセチレンな
どの外事性芳香族有機化合物を使用するものである。
本発明は、上記プラズマ重合により保護膜を形成した後
、更に熱を加えることにより膜構造をより強固に、また
保護膜の表面をより平滑にし、耐久性、耐摩耗性の向上
を図るものである。
、更に熱を加えることにより膜構造をより強固に、また
保護膜の表面をより平滑にし、耐久性、耐摩耗性の向上
を図るものである。
熱を加える平板としては抵抗加熱、高周波加熱、レーデ
−加熱、赤外線加熱、オーブン中での加熱など保ii!
膜に熱を供与できるものであればどんな方法でもよく、
また加熱時の雰囲気は真空中、不活性がス中、大気中と
いずれでも差し支えない。
−加熱、赤外線加熱、オーブン中での加熱など保ii!
膜に熱を供与できるものであればどんな方法でもよく、
また加熱時の雰囲気は真空中、不活性がス中、大気中と
いずれでも差し支えない。
加熱の温度範囲としては50〜300℃であり、望まし
くは80〜250℃である。加熱温度が低過ぎると膜構
造及び膜表面の改質を図ることが出来ず、また加熱温度
が高過ぎると保護膜及び強磁性金属薄膜への悪影響が生
じてしまう。
くは80〜250℃である。加熱温度が低過ぎると膜構
造及び膜表面の改質を図ることが出来ず、また加熱温度
が高過ぎると保護膜及び強磁性金属薄膜への悪影響が生
じてしまう。
また熱を加えることによって通常保護膜には膜構造の変
化に伴ない膜厚の変化が見られる。この膜厚の変化率が
±20チ以内になるよう熱処理を施すことが膜の表面構
造の改質を図る上で望ましい。
化に伴ない膜厚の変化が見られる。この膜厚の変化率が
±20チ以内になるよう熱処理を施すことが膜の表面構
造の改質を図る上で望ましい。
尚プラズマ重合保護膜の加熱温度の範囲は匍述の如(5
0〜300℃であるが、加熱時間は温度が高い場合は短
時間でよく、温度が低い場合は長時間貸りことになるが
大体10秒〜120分程度である。時間が短かすぎても
所定の性能が得られなく、又長すぎる場合は所定の性能
が得られないか、不経済である。
0〜300℃であるが、加熱時間は温度が高い場合は短
時間でよく、温度が低い場合は長時間貸りことになるが
大体10秒〜120分程度である。時間が短かすぎても
所定の性能が得られなく、又長すぎる場合は所定の性能
が得られないか、不経済である。
本発明方法について例えば磁気ディスクの製造に適用す
る場合を示すと次の如くである。
る場合を示すと次の如くである。
まず基体となるアルミニウム基板上にN1−Pなどの化
学メツキ層を密着せしめ研摩仕上げなどの後処理を施し
た後、その表面に物理的または化学的の手法により強磁
性金属薄膜を形成する。
学メツキ層を密着せしめ研摩仕上げなどの後処理を施し
た後、その表面に物理的または化学的の手法により強磁
性金属薄膜を形成する。
次に図面に示す如く対極型プラズマ重合装置内に、磁気
ディスク本体1をセットする、即ち電極2A、2B間に
磁気ディスク本体1を挾持し電極2人内に挿着した加熱
体13により50〜300℃に加熱し、加熱しながらプ
ラズマ重合を行う。
ディスク本体1をセットする、即ち電極2A、2B間に
磁気ディスク本体1を挾持し電極2人内に挿着した加熱
体13により50〜300℃に加熱し、加熱しながらプ
ラズマ重合を行う。
なお3はペルジャー、4はテーブル、5dペルジヤー3
内を真空にする真空ポンプ、6は絶対真空計、2は電極
2に、2Bに接続された高周波電源、8は固体モノマー
用の抵抗加熱体、9は固体有機化合物用の抵抗加熱体、
10は抵抗加熱体用の電源、11はキャリアーが電源、
12はノズル、13は加熱体、14は加熱源である。
内を真空にする真空ポンプ、6は絶対真空計、2は電極
2に、2Bに接続された高周波電源、8は固体モノマー
用の抵抗加熱体、9は固体有機化合物用の抵抗加熱体、
10は抵抗加熱体用の電源、11はキャリアーが電源、
12はノズル、13は加熱体、14は加熱源である。
又プラズマ発生装置°は上記に限定されず誘導コイル型
、導波管型等の高周波発振装置を備えたものであればよ
い。
、導波管型等の高周波発振装置を備えたものであればよ
い。
又高周波によりプラズマ重合を行う場合、高周波出力と
電極面積の大きさとからエネルギー密度は0.2〜4塾
へ2望ましくは0.5〜3 W/c−の範囲になるよう
にし、高周波電源の出力を300〜500W、望ましく
はioo〜450Wに保持し出来うる限り高出力で行う
ことにより硬質化の保護膜をうろことが出来る。なお高
周波電源は通常13.56 MHzの発振周波数である
が、特にこの周波数に限定することなく直流からマイク
ロ波までのいかなる周波数でもよい。
電極面積の大きさとからエネルギー密度は0.2〜4塾
へ2望ましくは0.5〜3 W/c−の範囲になるよう
にし、高周波電源の出力を300〜500W、望ましく
はioo〜450Wに保持し出来うる限り高出力で行う
ことにより硬質化の保護膜をうろことが出来る。なお高
周波電源は通常13.56 MHzの発振周波数である
が、特にこの周波数に限定することなく直流からマイク
ロ波までのいかなる周波数でもよい。
又ベルツヤ−内は01005〜3 Torr望ましくは
0.01〜1.5 Torrの圧力にすることがよく、
反応時間はモノマーの種類、電極配置等によって影響を
及ぼすものであるが、通常5秒〜10分望ましくは10
秒〜3分にて所望の膜厚のものをうろことが出来る。
0.01〜1.5 Torrの圧力にすることがよく、
反応時間はモノマーの種類、電極配置等によって影響を
及ぼすものであるが、通常5秒〜10分望ましくは10
秒〜3分にて所望の膜厚のものをうろことが出来る。
又プラズマ重合による膜厚は通常10〜1000Xであ
り好ましくは80〜6ooXに分布することが好ましい
、この膜厚が101より薄いと耐久性、耐摩耗性が劣り
、逆に1000Xより厚いとスペーシングロスが大きく
なり記録の読み出し特性に悪影響を及ぼすものである。
り好ましくは80〜6ooXに分布することが好ましい
、この膜厚が101より薄いと耐久性、耐摩耗性が劣り
、逆に1000Xより厚いとスペーシングロスが大きく
なり記録の読み出し特性に悪影響を及ぼすものである。
(実施例)
アルミニウム基板上にN1−Cr−Coa元系強磁性金
属薄膜を設けた3、5インチの磁気ディスクを図面に示
すプラズマ重合装置内にセットし約210℃に加熱し該
ディスク面を均一に加熱しながら上記強磁性金属薄膜面
にプラズマ重合による保護膜を被着し、次いで酸素雰囲
気中にて200℃5分間熱処理を施して本発明方法によ
る磁気記録媒体を得た。
属薄膜を設けた3、5インチの磁気ディスクを図面に示
すプラズマ重合装置内にセットし約210℃に加熱し該
ディスク面を均一に加熱しながら上記強磁性金属薄膜面
にプラズマ重合による保護膜を被着し、次いで酸素雰囲
気中にて200℃5分間熱処理を施して本発明方法によ
る磁気記録媒体を得た。
而してモノマーとしてはジベンジルを使用し、キャリヤ
ーがスとして純アルゴンを使用した。又プラズマ重合を
開始する直前のペルシャ内圧は01Torrであり、得
られた保護膜の厚さはモノマー量により一定値となりた
。又モノマーの気化は蒸着用小型ケートに電流を通して
ポートの温度を約80°Cになるまで加熱した。
ーがスとして純アルゴンを使用した。又プラズマ重合を
開始する直前のペルシャ内圧は01Torrであり、得
られた保護膜の厚さはモノマー量により一定値となりた
。又モノマーの気化は蒸着用小型ケートに電流を通して
ポートの温度を約80°Cになるまで加熱した。
斯くして得た本発明方法による磁気記録媒体についてC
88耐久性、摩擦係数及び耐食性について測定を行った
。その結果は第1表に示す通りである。
88耐久性、摩擦係数及び耐食性について測定を行った
。その結果は第1表に示す通りである。
なお、本発明方法による磁気記録媒体と比較するために
アルミニウム基板面に強磁性金属薄膜を設けた後、プラ
ズマ重合による保護膜を被着するにおいて該基板を加熱
することなく又は熱処理を行うことをせずに磁気記録媒
体(比較例)を製造し、実施例と同様にその性能を測定
して第1表に併記した。
アルミニウム基板面に強磁性金属薄膜を設けた後、プラ
ズマ重合による保護膜を被着するにおいて該基板を加熱
することなく又は熱処理を行うことをせずに磁気記録媒
体(比較例)を製造し、実施例と同様にその性能を測定
して第1表に併記した。
(効果)
以上詳述した如く本発明方法によれば磁気記録媒体の保
獲膜において、耐久性、耐食性及び摩擦係数に優れたも
のがえられるためヘッドの接触によるも損傷をうけるこ
となく且つ長期に亘り使用しうる等工業上極めて有用な
ものである。
獲膜において、耐久性、耐食性及び摩擦係数に優れたも
のがえられるためヘッドの接触によるも損傷をうけるこ
となく且つ長期に亘り使用しうる等工業上極めて有用な
ものである。
図面は本発明磁気記録媒体の製造方法において基板上に
プラズマ重合による保獲膜を被着するための装置の1例
を示す概略説明図である。 1・・・磁気ディスク本体、2に、2B・・・対向する
電極、3・・・ペルジャー、4・・・テーブル、5・・
・真空−ンデ、6・・・絶対真空計、7・・・高周波電
源、8・・・抵抗加熱体、9・・・抵抗加熱体、10・
・・電源、11・・・キャリアーゴス源、12・・・ノ
ズル、13・・・加熱体。
プラズマ重合による保獲膜を被着するための装置の1例
を示す概略説明図である。 1・・・磁気ディスク本体、2に、2B・・・対向する
電極、3・・・ペルジャー、4・・・テーブル、5・・
・真空−ンデ、6・・・絶対真空計、7・・・高周波電
源、8・・・抵抗加熱体、9・・・抵抗加熱体、10・
・・電源、11・・・キャリアーゴス源、12・・・ノ
ズル、13・・・加熱体。
Claims (1)
- 基板上に強磁性金属薄膜を設けた磁気記録層の表面に保
護膜を形成して磁気記録媒体を製造する方法において、
該基板上に強磁性金属薄膜を設けた後基板を50°〜3
00℃に加熱しながら、該強磁性金属薄膜の表面に、常
温常圧にて固体状の昇華性有機化合物を気化せしめてプ
ラズマ重合を行って保護膜を形成し、次いで熱処理を施
すことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62256249A JPH0833992B2 (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP62256249A JPH0833992B2 (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH01100732A true JPH01100732A (ja) | 1989-04-19 |
JPH0833992B2 JPH0833992B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=17290011
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP62256249A Expired - Lifetime JPH0833992B2 (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
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JP (1) | JPH0833992B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS615435A (ja) * | 1984-06-20 | 1986-01-11 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製法 |
JPS6122433A (ja) * | 1984-07-10 | 1986-01-31 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1987
- 1987-10-13 JP JP62256249A patent/JPH0833992B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS615435A (ja) * | 1984-06-20 | 1986-01-11 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製法 |
JPS6122433A (ja) * | 1984-07-10 | 1986-01-31 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0833992B2 (ja) | 1996-03-29 |
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