JPS62209729A - 有機複合保護膜の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気ディス
クにおいて、該記録層の表面に保護膜を形成せしめる方
法に関するものであり、特にヘッドの接触に伴う記録層
の耐久付に優れた磁気ディスクを提供せんとするもので
ある。

（従来の技術） 従来強磁性金属薄膜を記録層とせる磁気ディスクにおい
ては、ステンレス或はアルミニウム等の研磨基板上に、
金属ターグットを真空蒸着或はスパッタリングするか又
は樹脂マトリックスに磁性材料を分散せしめたエマルジ
ヨンをスピンコードせしめる等により薄膜による記録層
を形成せしめているものである。これらの材料は高密度
記録に優れた特性を有するが、その反面ヘッドの接触に
より記録層の摩耗や損傷をうけ易く更に金属による薄膜
は空気中で酸化され易く特性に変化を生ぜしめる等の欠
点を有する。

従って金属記録層の表面に種々の保ｎ膜を設けることに
より耐食性、耐久性を改善することが実施されている。

特に金属やグラスチックの薄膜を形成することがしばし
ば行われている。

然しなから樹脂皮膜を保護膜とする場合には厚膜化にな
る傾向があると共に均一な皮膜が得られないこと或はヘ
ッドの材質によってはヘッドの維耗芝生じたりするため
ｃｓＳテストなどの面ｊ久性評価も劣る。史に作詩ｎ・
Ｊとｉｉ＋Ｅ　鉢層との接着繊度も弱いものであった。

又有機化合物モノマーのプラズマｆ’ｉ−合法により保
護膜を形成することが神々Ｈ５案されているが、表面の
磨擦係数が大きいものが多く、磁気ヘッドの接触によっ
て破壊されることがしばしば生じた。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明は耐摩耗性、耐食性及び磁気特性に優れれ磁気デ
ィスク用保騰膜をつると共にヘッドの摩耗も生ずること
なく且つＣ８Ｓテストにおいても実用上においても側管
支障を生せしめることのない保膿膜の製造方法を開発し
たものである。

（問題点を解決するための手段） 本発明方法はアルミニウム板等の基板上にＮＩＰなどの
化学メッキ層を付着せしめこれを研磨仕上などの稜処理
を施した稜物理的或は化学約手法により強磁性金属薄膜
による記録層を形成し、このＢＱ面に有機化合物のモノ
マーをプラズマ小合法によりえたＪリマー被膜からなる
保護膜を形成せしめるものである３、 からなる微粉末を均一に塗布したものを所望間隔に設け
て対向電接を形成し、該電極間又は電極上に上記磁気デ
ィスクを設置し該電極を介して高周波プラズマを発生せ
しめるとプラズマ中でＭＯ８２粒子カζ゛ス・ナツタさ
れるため上記記録層上で微粒子となり自己潤滑性材料の
ス・ｆツタ膜を形成する。

これ七同時に有機化合物のモノマーを導入せしめること
により上記自己潤滑性材料の微粒子が分散されてそのス
・ｆツタ層を含有するプラズマ重合膜からなる本発明抜
合保護膜をうるものである。

本発明方法において自己潤滑性材料の・母つダー平均＃
ｉ径は０．３〜５μｍの範囲のものが好ましく、このパ
ウダーは熱硬化性樹脂及び石油溶剤−４〜 により均一に分散せしめたエマルジョンを使用する。こ
のエマルジョンをステンレス製置Ｗ面に塗布した後揮発
性溶剤を蒸発除去１ツ、乾燥せしめて岸さ１００μＪフ
下の自己潤滑材料のパウダーの充填された薄膜でコーテ
ィングされた電極を形成する。然る後アルゴン、ヘリウ
ム、窒素などの不活性気にて１ｇ換せる真空容器中に上
記記録層が最上層になった磁気ディスクを設置し、高周
波（通常１３．５６　ＭＨｚ　）の発振を加え、０．３
〜０．８Ｗ／ｃ引の電極エネルギーで１０−１〜１０−
３″ｒｏｒｒ真空中において前記自己潤滑材料の薄膜を
スＡ！ツタして該反応容器中においた磁気ディスクの記
録層上に自己潤滑材料層を形成せしめるものである。こ
の層は通常５０Ｘ〜１００Ｘ程度が好ましい。

次に上記容器内に所望の有機化合物のモノマー蒸気を導
入し０，０１〜１．　Ｑ　Ｔｏｒｒの雰囲気で上記自己
潤滑材料のスパッタ層上にプラズマ重合層を形成せしめ
、自己潤滑材料の７７９２２層を固定せしめる。

なお自己潤滑材料を塗布した゛電極は冷却水を電極支持
部に流通せしめ加熱を防ぐことが通常行なわれる。

本発明方法において自己潤滑性ノｆラダーを塗布するこ
との要点は電極の実効表面積を大きくすることにより低
いエネルギーの出力でスパッタ効果がえられることであ
る。

なお、自己潤滑性を有する微粉末とは、例えば二硫化モ
リブデン、二硫化タングステン、グラファイト、テトロ
フロロエチレンである。

（実施例） 厚さ１．５　ｗｍ　、直径１３０■のステンレス製円板
の表面に二硫化モリブデンのペースト（日本モリブデン
株式会社製、ＤＭコート）をコーティング棒にて均一に
塗布した後、約２０ｃｒｎ離れたところから１５０Ｗの
赤外ランプにて、これを１０分間加熱乾燥して平均厚１
５μｍのＭｏＢ２の薄膜層をえた。これを水冷電極上に
おいて、これより約２５ｍ離れたところに保護膜を形成
するための直径５インチの磁気ディスクを電気６一 的に絶縁して設置Ｗシた１゜ この磁気ディスクＹＪアルミニウム基板上にＮｉＰをメ
ッキした後研磨して強磁Ｖ１金属珂膜からなる記録層を
形成せしめたものである。

このように電接に磁気ディスクを配置したものを直径約
３００ｆＢのペルジャー内に収納し、真空ポンプにより
１０”’　ｍ＋　Ｈｇの真空に到達せしめた後、該ペル
ジャー内に高純度アルゴンを１ＯＣＣ７分の割合で導入
した。Ｉ　Ｏ−２釧Ｈｇになるようパルプとガス流量を
調製しながら１３５６ＭＨｚの高周波プラズマ（８０Ｗ
）でアルゴンプラズマを２分間発生せしめた。次に３，
３１３　）　！Ｊフロロプロピルトリメトキシシランを
６５℃で蒸発させながら６０ｍ／／分の流量で導入せし
めアルゴンプラズマの存在下で５０秒間フプラズマ合せ
しめ、磁気ディスクの記録層の表面に約３５０Ｘの本発
明複合保護膜を形成した。

斯くして得た本発明複合保護膜の性能を調べるために耐
久性及び耐食性を測定した。その結果は第１表に示す通
りである。

なお本発明方法による複合保穫膜と比較するために従来
方法のプラズマ重合方法により上記の磁気ディスクの記
録層上に約３５０ｘのトリフロロプロピルトリメトキシ
シランの保頗膜（比較例保護膜）を形成し、上記の如く
耐久性及び耐食性を測定し、その結果を第１表に併記し
た。

第　　　　１　　　　表 註　（１）耐久性は磁気ディスクをその捷まＣ８Ｓテス
ト（Ｃｏｎｔｏｃｔ　５ｔａｒｔ　ａｎｄ　５ｔｅｐ）
　ｋ行って出力信号の低下を測定した。則ち磁気ディス
クが止ったり回転を始めたりするときに磁気ヘッドがデ
ィスク表面と接触することにより表面摩擦係数を測定す
る。

（２）耐食性は磁気ディスクを７０チの湿度中に２００
時間放置後、ＣＳＳテストを行って出力信号の低下を測
定した。

（効果） 以上詳述した如く本発明方法によりえた捨金保護膜によ
ればプラズマ重合薄膜に自己潤滑性を有する物質のス・
母ツタ一層を含有せしめることによりプラズマ重合によ
る硬い皮膜と自己潤滑性を有する物質との相乗効果によ
り耐久性差に潤滑性に優れた磁気ディスク用保護膜をう
る等工業上極めて有用のものである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 磁気ディスク記録層の表面に、有機化合物モノマーをプ
   ラズマ重合法によりえた有機化合物ポリマー皮膜による
   保護膜を形成せしめる方法において、自己潤滑性を有す
   る物質の微粉末を表面に固定した２枚の金属製平板を所
   望間隔に設けて電極を形成し、該電極上又は電極間に上
   記の記録層を有する磁気ディスクを設置し、該電極間に
   高周波によるグロー放電を発生しながら、該記録層の表
   面にプラズマ重合による保護膜を形成せしめることを特
   徴とする有機複合保護膜の製造方法。