JPH0371426A - 磁気記録媒体の保護潤滑膜形成方法 - Google Patents
磁気記録媒体の保護潤滑膜形成方法Info
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- JPH0371426A JPH0371426A JP20893489A JP20893489A JPH0371426A JP H0371426 A JPH0371426 A JP H0371426A JP 20893489 A JP20893489 A JP 20893489A JP 20893489 A JP20893489 A JP 20893489A JP H0371426 A JPH0371426 A JP H0371426A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、金属薄膜型磁気記録媒体の磁性膜を被覆保護
する潤滑膜の形成方法に関する。
する潤滑膜の形成方法に関する。
非磁性基体にＣｏ系、Ｃｏ−Ｃｒ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｉ
系等の磁性膜が記録層として形成された金属薄膜型磁気
記録媒体の該磁性膜を、記録・再生操作時の磁気ヘッド
との接触による摩耗・損傷から保護し、磁気ヘッドとの
接触を滑らかにするための保護・潤滑膜として、その磁
性膜面に、炭素質膜等の無機質固体潤滑膜を積層製膜す
ることが行われている。また、その固体潤滑膜面に液体
潤滑剤を塗布して磁気ヘッドに対する潤滑性を高めるこ
とも提案されている。
系等の磁性膜が記録層として形成された金属薄膜型磁気
記録媒体の該磁性膜を、記録・再生操作時の磁気ヘッド
との接触による摩耗・損傷から保護し、磁気ヘッドとの
接触を滑らかにするための保護・潤滑膜として、その磁
性膜面に、炭素質膜等の無機質固体潤滑膜を積層製膜す
ることが行われている。また、その固体潤滑膜面に液体
潤滑剤を塗布して磁気ヘッドに対する潤滑性を高めるこ
とも提案されている。
磁性膜面上の固体潤滑膜に液体潤滑剤を塗布し、磁性膜
と磁気ヘッドとの間の摩擦・摩耗を緩和する保護潤滑膜
として安定な機能を維持発揮させるためには、固体潤滑
膜に対して液体潤滑剤塗膜を強固に付着させることが必
要である。その界面の付着力が充分でないと、記録再生
操作の反復過程で、磁気記録媒体の高速度回転に伴う遠
心力の作用により、液体潤滑剤が固体潤滑膜面上を移動
するマイグレーションを生じ、結果として液体潤滑塗膜
の潤滑効果が著しく減殺されてしまうからである。
と磁気ヘッドとの間の摩擦・摩耗を緩和する保護潤滑膜
として安定な機能を維持発揮させるためには、固体潤滑
膜に対して液体潤滑剤塗膜を強固に付着させることが必
要である。その界面の付着力が充分でないと、記録再生
操作の反復過程で、磁気記録媒体の高速度回転に伴う遠
心力の作用により、液体潤滑剤が固体潤滑膜面上を移動
するマイグレーションを生じ、結果として液体潤滑塗膜
の潤滑効果が著しく減殺されてしまうからである。
本発明は、固体潤滑膜面に対する液体潤滑塗膜の付着力
を高め、磁性膜・磁気ヘッド間の保護潤滑膜としての機
能を向上安定化させることを目的としてなされたもので
ある。
を高め、磁性膜・磁気ヘッド間の保護潤滑膜としての機
能を向上安定化させることを目的としてなされたもので
ある。
〔課題を解決するための手段および作用〕本発明に係る
磁気記録媒体の保護潤滑膜の形成方法は、磁性膜面を被
覆する固体潤滑膜の表面に液体潤滑剤を塗布したのち、
その塗膜に紫外線照射を施すことを特徴としている。
磁気記録媒体の保護潤滑膜の形成方法は、磁性膜面を被
覆する固体潤滑膜の表面に液体潤滑剤を塗布したのち、
その塗膜に紫外線照射を施すことを特徴としている。
本発明方法によれば、固体潤滑膜面に塗布された液体潤
滑剤の塗膜は、紫外線照射をうけてその官能基が励起さ
れることにより、固体潤滑膜面に対する強固な付着状態
が形成される。
滑剤の塗膜は、紫外線照射をうけてその官能基が励起さ
れることにより、固体潤滑膜面に対する強固な付着状態
が形成される。
磁性膜面に積層される固体潤滑膜は、代表的にはグラフ
ァイト、アモルファス炭素、アイカーボンと称されるダ
イヤモンド状炭素、またはそれらが混合ないしは積層さ
れた炭素質膜である。また、酸化ジルコニウム、部分安
定化酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、窒化チタン、炭化
ホウ素、その他の各種セラ元ツク膜であってよい。これ
らの固体潤滑膜の形成は、真空蒸着法、イオンブレーテ
ィング法、スパッタリング法等の公知の製膜法により行
われる。また、その膜面に突起を生じている場合は、そ
の膜面に所要の平坦性をもたせるために、膜面上に磁気
ヘッドを近接浮上させ回転摺接下に突起を除去するバー
ニンシュが適宜施される。なお、その固体潤滑膜の膜厚
は例えば５０〜４００λである。
ァイト、アモルファス炭素、アイカーボンと称されるダ
イヤモンド状炭素、またはそれらが混合ないしは積層さ
れた炭素質膜である。また、酸化ジルコニウム、部分安
定化酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、窒化チタン、炭化
ホウ素、その他の各種セラ元ツク膜であってよい。これ
らの固体潤滑膜の形成は、真空蒸着法、イオンブレーテ
ィング法、スパッタリング法等の公知の製膜法により行
われる。また、その膜面に突起を生じている場合は、そ
の膜面に所要の平坦性をもたせるために、膜面上に磁気
ヘッドを近接浮上させ回転摺接下に突起を除去するバー
ニンシュが適宜施される。なお、その固体潤滑膜の膜厚
は例えば５０〜４００λである。
上記固体潤滑膜の表面に塗布される液体潤滑剤は、各種
の石油系潤滑剤、合成潤滑剤のなかから適宜選択される
。その好適な一例としで、パーフロロポリエーテル（例
えば、モンテジソン社製「Ａ Ｍ２Ｏ０１Ｊ等）が挙げ
られる。液体潤滑剤の塗布は、浸漬塗布、スピンコード
、真空蒸着等の方法により行えばよい。また、その膜厚
は、例えば１０〜１００人としてよい。
の石油系潤滑剤、合成潤滑剤のなかから適宜選択される
。その好適な一例としで、パーフロロポリエーテル（例
えば、モンテジソン社製「Ａ Ｍ２Ｏ０１Ｊ等）が挙げ
られる。液体潤滑剤の塗布は、浸漬塗布、スピンコード
、真空蒸着等の方法により行えばよい。また、その膜厚
は、例えば１０〜１００人としてよい。
紫外線照射は、液体潤滑剤や固体潤滑膜の材質等に応じ
て適宜選択設定される波長と照射時間に基づいて行われ
る。例えば、固体潤滑膜が炭素質膜（グラファイト膜、
ダイヤモンド状炭素膜、アモルファス炭素膜、またはそ
れらの混合体ないし積層体）であって、その膜面に液体
潤滑剤として、ｒＡＭ２００１」（商品名）を塗布した
場合の紫り（線照射は、波長２４０〜４００ｎｒａ、照
射時間３０〜９０分として好適に達成され、その照射処
理により、固体潤滑膜と液体潤滑塗膜との界面に強固な
密着結合関係が形成される。
て適宜選択設定される波長と照射時間に基づいて行われ
る。例えば、固体潤滑膜が炭素質膜（グラファイト膜、
ダイヤモンド状炭素膜、アモルファス炭素膜、またはそ
れらの混合体ないし積層体）であって、その膜面に液体
潤滑剤として、ｒＡＭ２００１」（商品名）を塗布した
場合の紫り（線照射は、波長２４０〜４００ｎｒａ、照
射時間３０〜９０分として好適に達成され、その照射処
理により、固体潤滑膜と液体潤滑塗膜との界面に強固な
密着結合関係が形成される。
なお、本発明の対象とする磁気記録媒体は、磁気ディス
クをはじめ、各種磁気ドラム、磁気テープ、磁気シート
等が包含される。
クをはじめ、各種磁気ドラム、磁気テープ、磁気シート
等が包含される。
（Ｉ）供試磁気ディスクの製作
アルもニウム合金基板の表面に、 Ｎ ｉ−Ｐ無電解め
っき膜（膜厚２０μｍ）を形成し、表面をポリッシュし
た後、テキスチャ処理し、ついで直流マグネトロンスパ
ッタリング（雰囲気： ０．７ Ｘ １０− ”Ｔｏｒ
ｒＡｒ）により、下地層としてＣｒ膜（膜厚： １５０
０Ａ ）および記録層としてＣｏＮｉ系磁性膜（膜厚：
７００久）をこの順に形成した。
っき膜（膜厚２０μｍ）を形成し、表面をポリッシュし
た後、テキスチャ処理し、ついで直流マグネトロンスパ
ッタリング（雰囲気： ０．７ Ｘ １０− ”Ｔｏｒ
ｒＡｒ）により、下地層としてＣｒ膜（膜厚： １５０
０Ａ ）および記録層としてＣｏＮｉ系磁性膜（膜厚：
７００久）をこの順に形成した。
ついで、下記の製膜条件により、炭素質固体潤滑膜（ア
モルファス炭素膜）と、その膜面を被覆する液体潤滑塗
膜を形成して供試磁気ディスク穴を得た。
モルファス炭素膜）と、その膜面を被覆する液体潤滑塗
膜を形成して供試磁気ディスク穴を得た。
（１）炭素質膜の形Ｉｆｉ、：
前記スパッタ室内で、黒鉛をターゲットとし、Ａｒガス
雰囲気（Ｉ Ｘｌ０−”Ｔｏｒｒ）下にアモルファス炭
素膜を磁性膜面に積層形成した。
雰囲気（Ｉ Ｘｌ０−”Ｔｏｒｒ）下にアモルファス炭
素膜を磁性膜面に積層形成した。
（２）液体潤滑塗膜の形成：
上記スパッタにより製膜された炭素質膜の膜面にバーニ
ンシュを施した後、液体潤滑剤として、ｒＡＭ２００１
Ｊ（モンテジソン社製）を浸漬塗布法により塗布（塗膜
厚さ：３０人）したうえ、紫外線照射を行った。
ンシュを施した後、液体潤滑剤として、ｒＡＭ２００１
Ｊ（モンテジソン社製）を浸漬塗布法により塗布（塗膜
厚さ：３０人）したうえ、紫外線照射を行った。
照射波長： ２４０〜４００ｎｍ
照射時間二６０分
照射距離：１５０鴫
なお、比較例として、液体潤滑塗膜の紫外線照射処理を
省略した点を除いて上記と同一の工程と条件とにより供
試磁気ディスクＢを得た。
省略した点を除いて上記と同一の工程と条件とにより供
試磁気ディスクＢを得た。
〔■〕〕体潤滑塗膜の付着力の評価
上記各供試磁気ディスク穴およびＢについて、フロン洗
浄処理（処理液：フレオン−１１３（商品名）、浸漬時
間二６０分）を施すと共に、洗浄処理の前後における各
ディスク盤面に対する有機溶剤へキサデカンの接触角（
θ）を測定し、接触角（θ）の変化の度合から、それぞ
れの液体潤滑塗膜の付着残存量、すなわちその付着力の
強さを評価した。その測定結果を第１表に示す。
浄処理（処理液：フレオン−１１３（商品名）、浸漬時
間二６０分）を施すと共に、洗浄処理の前後における各
ディスク盤面に対する有機溶剤へキサデカンの接触角（
θ）を測定し、接触角（θ）の変化の度合から、それぞ
れの液体潤滑塗膜の付着残存量、すなわちその付着力の
強さを評価した。その測定結果を第１表に示す。
第 １ 表
接触角（θ）
供試磁気ディスク 洗浄前 洗浄後Ａ（発明例
’） ５７．３’ ４８゜３″Ｂ
（比較例） ５９．９° １７．１゜
上記のように、発明例の供試ディスク穴（紫外線照射実
施）と従来材に相当する供試ディスクＢ（紫外線照射な
し）のフロン洗浄前の接触角（θ）は略等しく、両者の
ディスク盤面に形成された液体潤滑塗膜の膜面性状に実
質的な相違はないが、供試ディスクＢでは、洗浄処理後
の接触角が著しく小さくなっている。その接触角（θ）
（１７，１つはアモルファス炭素表面に対する接触角
（θ”＝１５〜１８つに相当する。このことは、供試デ
ィスクＢの盤面から液体潤滑塗膜の大半が失われたこと
を意味している。これに対し、発明例の供試ディスク穴
における接触角の変化はわずかであり、液体潤滑膜の損
傷は少なく、充分な付着力で下層の固体潤滑膜に付着残
存していることがわかる。
’） ５７．３’ ４８゜３″Ｂ
（比較例） ５９．９° １７．１゜
上記のように、発明例の供試ディスク穴（紫外線照射実
施）と従来材に相当する供試ディスクＢ（紫外線照射な
し）のフロン洗浄前の接触角（θ）は略等しく、両者の
ディスク盤面に形成された液体潤滑塗膜の膜面性状に実
質的な相違はないが、供試ディスクＢでは、洗浄処理後
の接触角が著しく小さくなっている。その接触角（θ）
（１７，１つはアモルファス炭素表面に対する接触角
（θ”＝１５〜１８つに相当する。このことは、供試デ
ィスクＢの盤面から液体潤滑塗膜の大半が失われたこと
を意味している。これに対し、発明例の供試ディスク穴
における接触角の変化はわずかであり、液体潤滑膜の損
傷は少なく、充分な付着力で下層の固体潤滑膜に付着残
存していることがわかる。
〔発明の効果］
本発明方法によれば、磁性膜面上の固体潤滑膜に塗布さ
れる液体潤滑塗膜をその固体潤滑膜面に強い付着力で付
着させることができ、従って液体潤滑塗膜のマイグレー
ションが減少し、記録再生操作の反復過程において液体
潤滑塗膜の均一な膜厚分布が維持される。これにより、
固体潤滑膜と液体潤滑塗膜との相乗効果として磁性膜面
および磁気ヘッドに対する保護潤滑機能が安定化し、結
果として磁気記録媒体および磁気ヘッドの機能の安定化
・耐用寿命間上等の効果が得られる。
れる液体潤滑塗膜をその固体潤滑膜面に強い付着力で付
着させることができ、従って液体潤滑塗膜のマイグレー
ションが減少し、記録再生操作の反復過程において液体
潤滑塗膜の均一な膜厚分布が維持される。これにより、
固体潤滑膜と液体潤滑塗膜との相乗効果として磁性膜面
および磁気ヘッドに対する保護潤滑機能が安定化し、結
果として磁気記録媒体および磁気ヘッドの機能の安定化
・耐用寿命間上等の効果が得られる。
Claims (1)
- １、非磁性基体上の金属系磁性膜面を被覆する固体潤滑
膜の表面に液体潤滑剤を塗布したのち、その塗膜に紫外
線照射を施すことを特徴とする磁気記録媒体の保護潤滑
膜形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20893489A JPH0371426A (ja) | 1989-08-11 | 1989-08-11 | 磁気記録媒体の保護潤滑膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20893489A JPH0371426A (ja) | 1989-08-11 | 1989-08-11 | 磁気記録媒体の保護潤滑膜形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0371426A true JPH0371426A (ja) | 1991-03-27 |
Family
ID=16564553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20893489A Pending JPH0371426A (ja) | 1989-08-11 | 1989-08-11 | 磁気記録媒体の保護潤滑膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0371426A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6346309B1 (en) | 1998-08-11 | 2002-02-12 | Hitachi Maxell, Ltd. | Optical recording medium and process for producing same |
| JP2010176755A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Hitachi Ltd | 熱アシスト磁気記録装置 |
| US7824497B2 (en) | 2000-02-01 | 2010-11-02 | Canon Anelva Corporation | Apparatus for manufacturing magnetic recording disk, and in-line type substrate processing apparatus |
Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPS6342029A (ja) * | 1986-08-05 | 1988-02-23 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスクの製造方法 |
| JPS6470921A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-16 | Nippon Telegraph & Telephone | Extremely highly clean magnetic disk medium and its production |
-
1989
- 1989-08-11 JP JP20893489A patent/JPH0371426A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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