JPS637517A - 磁気デイスク用保護膜の製造装置及び保護膜の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、強磁性金属薄膜による磁気記録層上に形成す
る保護膜の製造装置及び保護膜の製造方法の改良に関す
るものである。

（従来の技術及びその問題点） 従来、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体
は金属ディスク基板或はテープ基体上に強磁性金属材料
を真空蒸着して設けるか、或は樹脂マトリックスに強磁
性金属材料を分散させたエマルジョンをスピンコードす
ることにより製造されている。この強磁性金属薄膜は、
高密度記録に優れた特性を有するが、ヘッドの接触によ
って摩耗や損傷を受けやすく、また空気中で酸化され特
性変化を起こし易いという欠点を有するものであった。

従って、強磁性金属薄膜上に種々の保護膜を設けること
により耐久性、耐食性を改善することが実施されている
。特に最近、プラズマ重合を利用して樹脂の保護膜を形
成することが行われている。

しかし、プラズマ重合法により、磁気ディスク上に保護
膜を形成する際、磁気ディスクの外周部（縁部）が厚く
、内周部が薄く形成され、ディスクを回転させるとき、
ヘッド面とディスク表面との安定した間隙が得られない
という問題点があった。

本発明は、磁気ディスク外周部、内周部全面にわたって
均一な保護膜を形成させ安定な記録、再生特性が得られ
るような製造装置及び製造方法を提供しようとするもの
である。

（問題点を解決する為の手段及び作用）本発明は、プラ
ズマ重合法により、磁気ディスク表面に保護膜を形成す
る装置において、第１図及び第２図の如く磁気ディスク
の外径より大きな外径を持つ電極に、磁石ディスクの外
径と等しい内径を持ち且つ磁気ディスクの厚さと等しい
深さを持つ円形のくぼみを設けた電極を用いることを特
徴とする磁気ディスク用保護膜の製造装置及び該製造装
置を用いて保護膜を形成する製造方法に関するものであ
る。

ここで第１図は、電極２Ａの斜視図、第２図は電極２人
の断面図である。第２図中の縁の部分の長さａ（電極の
直径−くぼみの直径ｂ）／２は、２Ｍ以上あることが望
ましく、さらに望ましくは５ｆｉ〜２５訓の範囲にある
ことが良い。又くぼみの内径すは、磁気ディスクが入る
程度にディスクの外径と等しくし、くぼみの厚さＣは、
磁気ディスクの厚さと等しくする。本発明を磁気ディス
クの製造に適用すると、次のようなプロセスとなる。

まず基体となるアルミニウム基板上に、Ｎ１−Ｐ　など
の化学メツキ層を密着せしめ、研摩仕上げなどの後処理
を施した後、その表面に物理的または化学的手法により
強磁性金属薄膜を形成する。次に第３図に示すような、
対甑型プラズマ重合装置に上述の電極のくぼみに磁気デ
ィスクを嵌合させ、プラズマ重合法によって保護膜を形
成するものである。第５図において１は基体表面に強磁
性金属薄膜を形成した磁気ディスク本体、２人・２Ｂは
対向する電極で電極２Ａは、上述の如く、磁気ディスク
１がちょうど嵌合するようなくぼみを設けである。うは
ペルジャー、４は真空装置の基板、５はペルジャー５内
を真空にする真空ポンプ系、６は絶対真空計、７は電極
２Ａ・２Ｂに接続された高周波電源、８はキャリアーガ
ス源、９はモノマー源、１０はペルジャーう内にキャリ
アーガス及びモノマーを導入するだめのノズルである。

本発明で用いるキャリアーガスとしてはアルゴン、ヘリ
ウム、窒素等の不活性ガスであり、モノマーとしては、
メタン、エタン、プロパン、エチレン、プロピレン、Ｏ
Ｆ、　、Ｃ１Ｆ、、Ｃ，Ｆ、、ｃｔｉ’、、Ｃ，Ｆ、”
Ｊの気体状モノマー、ベンゼン、ヘキサン、メタアクリ
ル酸メチル、ＣＨｍ　Ｓ　ｌ　（ＯＣＨｊ　Ｉ等の液体
状法によって重合膜を形成することができるいずれのモ
ノマーであっても良い。

高周波によりプラズマ重合を行う場合、高周波出力と電
極面積の大きさから、エネルギー密度を、Ｑ、　２−４
　Ｗ　／ｃｔｌ、望ましくは、０５〜うＷ　／　ｃｒＡ
の範囲に入るよってし、高周波電源の出力を、３０〜５
００　Ｗ、望ましくは、ゴｌ：）Ｏ−１５０Ｗに保持し
、出来得る限り高出力下で行うことにより硬質の保護膜
を得ることが出来る。なお高周波電源は通常、１５．５
６　Ｍ　Ｈｚの発振周波数であるが、特にこの周波数に
限定されることなく、直流からマイクロ波までのいかな
る周波数であってもよい。

またペルジャー内の圧力は、Ｏ，ＯＯ５〜３　Ｔｏｒｒ
。

望ましくは、０．０１〜Ｌ　５　Ｔｏｒｒの間にて行う
ことが良く、反応時間は、モノマーの種類、モノマー濃
度、温度および電極配置等によって影響を及ぼすもので
あるが、通常、５秒〜１０分、望ましくは、１０秒〜５
分にて所望の膜厚のものを得ることが出来るよう装置条
件、モノマー量を選定するっまた磁気ディスク本体の温
度は膜の成長に大きな影響を及ぼすものであり、低温度
の方が膜の成長速度を大きくすることが出来る。従って
、強磁性金属薄膜の表面温度は望ましくは５０〜１００
℃に保持するのがよい。

かくして得た保護膜の厚さは、通常、１０〜１０ｏＯオ
ングストロームであり、好ましくは、８０〜６００オン
グストロームに分布することが雫まＬ７い。

この膜厚が薄すぎると耐久性、耐摩耗性が劣り、逆に膜
厚が厚すぎるとスペーシングロスが犬さくなり、記録の
読み出し特性に悪影響を及ぼすものでちる。又、磁気デ
ィスクの保護膜の厚さは、前述の理由によりディスクの
外周部、内周部でバラツキを少なくすることが必要であ
り、本発明装置及び方法を採用することにより、そのバ
ラツキを５０オングストローム以下におさえることが可
能である。その結果ヘッド面とディスク表面との安定し
た間隔が得られる。

（実施例） 第５図に示す対極型プラズマ重合装置を使用し、直径５
インチ、厚さ２馴の磁気ディスクに保護膜を形成した。

即ち、直径１２７ｍｍ、深さ２馴のくぼみを設けた直径
１４７＋ｎ＋ｎのステンレス製電極を使用し、該電極の
くぼみに上記の直径１２７馴の磁気ディスクを嵌合させ
、電極間の距離を２５圏に保持し、高周波電源の周波数
を１５．５６　Ｍ　Ｈｚ。

供給電力を２００Ｗとし、モノマーとしてエチレンガス
を１０　ｍ４／ｍｉｎ、キャリアーガスとし２て純アル
ゴンガスを１０　ｍ／Ｓ／ｍｉｎ　　でペルジャー内に
導入し、ペルジャー内の圧力を０．１　Ｔｏｒｒ、ｇ　
Ｌ、２分間プラズマ重合を行い保護膜を形成した。なお
比較例として直径１キ７喘、厚さ２咽の電極を用い、該
電極上に直径１２７＋＋＋Ｉ＋１．厚さ２咽の磁気ディ
スクを載量した他は実施例と同一条件でプラズマ重合を
行い保護膜を形成した。これらの保護膜について、磁気
ディスクの縁から５ｒｔｃｍ、２０ｖｎの膜厚を触針式
膜厚測定装置により測定し、その結果は第１表に示す通
りでちる。

第　　１　表 （効果） 上表より明らかな如り、本発明製造装置を用いて磁気デ
ィスクの保護膜を形成すると、磁気デイヌクの外周部、
内周部全面にわたり均一な保護膜が得られ、安定した走
行性を示す磁気ディスクが得られるようになった。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明電極の斜視図、第２図は本発明電極の断
面図、第５図は対極型プラズマ重合装置の１例を示す図
である。 １・・・・・・磁気ディスク、２人・２Ｂ・・・・・・
電極、う・・・・・・ペルジャー、４・・・・・・装置
基板、５・・・・・・真空ポンプ系、６・・・・・・絶
対真空計、７・・・・・・高周波電源、８・・・・・・
キャリアーガス源、９・・・・・・モノマー源、１０・
・・・・・ガス導入ノズル 特許出願人　古河電気工業味式会社 第２図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に強磁性金属薄膜からなる磁気記録層を設
   け、該磁気記録層上にプラズマ重合法により保護膜を形
   成する装置において、磁気ディスクの外径より大きな外
   径を持つ平板電極に磁気ディスクの外径と等しい内径を
   持ち、且つ磁気ディスクの厚さと等しい深さを持つ円形
   のくぼみを設けた電極を用いることを特徴とする磁気デ
   ィスク用保護膜の製造装置
2. （２）特許請求の範囲第１項記載の製造装置を用いて、
   磁気ディスクの磁気記録層上に保護膜を設ける製造方法