JPS6226736A - Ｘ線タ−ゲツトのメタライズ方法 - Google Patents
Ｘ線タ−ゲツトのメタライズ方法Info
- Publication number
- JPS6226736A JPS6226736A JP16415285A JP16415285A JPS6226736A JP S6226736 A JPS6226736 A JP S6226736A JP 16415285 A JP16415285 A JP 16415285A JP 16415285 A JP16415285 A JP 16415285A JP S6226736 A JPS6226736 A JP S6226736A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- graphite
- ray target
- work
- film
- board
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、黒鉛板へのメタライズ法に関するものである
。
。
レントゲンやＣＴ等の医療機器に用いられているＸ線タ
ーゲットは、第２図に示す様な構造をしている。ここで
、特開昭５９−１９６５４２号公報に記載されているよ
うな従来のＸ線ターゲトの製造法を述べる。まず、黒鉛
板１，１′を炭化けい素板２の両面に貼り付けて、黒鉛
板１，１′と炭化けい素板２が一体となった構造のター
ゲットを作成する。つぎに、該黒鉛板１の所定の位置に
ＷおよびＲｅ膜３を蒸着により形成する。
ーゲットは、第２図に示す様な構造をしている。ここで
、特開昭５９−１９６５４２号公報に記載されているよ
うな従来のＸ線ターゲトの製造法を述べる。まず、黒鉛
板１，１′を炭化けい素板２の両面に貼り付けて、黒鉛
板１，１′と炭化けい素板２が一体となった構造のター
ゲットを作成する。つぎに、該黒鉛板１の所定の位置に
ＷおよびＲｅ膜３を蒸着により形成する。
この様にして作成したＸ線ターゲットには、製造工程に
おいて２つの問題点が挙げられる。第１には、蒸着工程
中においてＨＦガスが発生し、作業能率を著しく低下さ
せることである。これは、黒鉛板１上にＷおよびＲｅ膜
３を形成する際に、ＷＦ６やＲｅ膜６等の薬品を使用す
るためである。次に第２としては、ＷおよびＲｅ膜３を
形成する方法として薄膜蒸着法を用いているため、製造
工程が複雑になり作業に長時間を要するため、作業の能
率が非常に悪かった。
おいて２つの問題点が挙げられる。第１には、蒸着工程
中においてＨＦガスが発生し、作業能率を著しく低下さ
せることである。これは、黒鉛板１上にＷおよびＲｅ膜
３を形成する際に、ＷＦ６やＲｅ膜６等の薬品を使用す
るためである。次に第２としては、ＷおよびＲｅ膜３を
形成する方法として薄膜蒸着法を用いているため、製造
工程が複雑になり作業に長時間を要するため、作業の能
率が非常に悪かった。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を解決するこ
とを目的とする。すなわち、ＷおよびＲｅ膜の形成時の
作業の安全性を向上させ、かつＸ線ターゲットの製造工
程を簡略化して、作業能率を大幅に向上させたＸ線ター
ゲットのメタライズ方法を提供することにある。
とを目的とする。すなわち、ＷおよびＲｅ膜の形成時の
作業の安全性を向上させ、かつＸ線ターゲットの製造工
程を簡略化して、作業能率を大幅に向上させたＸ線ター
ゲットのメタライズ方法を提供することにある。
本発明は、黒鉛板上にＷおよびＲｅのメタライズ膜を形
成する方法を、従来の様な薄膜蒸着法を用いるのではな
く、厚膜形成法を用いて行う様にしたものである。
成する方法を、従来の様な薄膜蒸着法を用いるのではな
く、厚膜形成法を用いて行う様にしたものである。
以下、本発明の実施例について説明する６第１図は、本
発明の一実施例に係るｘｇメタ−ットのメタライズ工程
を示した図である。ここで、本実施例のメタライズ法を
詳しく説明する。黒鉛板１−炭化けい素板２−黒鉛板１
の複合材を貼り合せて作成したターゲットにおいて、黒
鉛板１の所定の位置にＷおよびＲｅの微粉末をペースト
状にしたたものを用いてスクリーン印刷して、Ｗおよび
Ｒｅのメタライズ膜３を形成した。その後これを室温に
て自然放置を行い、１００〜１５０℃の乾燥炉にて１０
〜２０分間乾燥を行った。そして、ＭＯを発熱体とする
電気炉にて焼結した。焼結条件は、常温から２００℃／
ｈの速度で昇温し、１０００℃で１．５帰間保持後、再
び２００℃／ｈの速度で１５００℃まで昇温し、その後
該温度に１時間保持後冷却することによった。なお、雰
囲気ガスとして、Ｎ２＝１０００９／ｈ、Ｈ，＝５００
Ｑ／ｈの混合ガスを４５℃に保持した水１００Ｑのバブ
ラーを通したものを用いた。
発明の一実施例に係るｘｇメタ−ットのメタライズ工程
を示した図である。ここで、本実施例のメタライズ法を
詳しく説明する。黒鉛板１−炭化けい素板２−黒鉛板１
の複合材を貼り合せて作成したターゲットにおいて、黒
鉛板１の所定の位置にＷおよびＲｅの微粉末をペースト
状にしたたものを用いてスクリーン印刷して、Ｗおよび
Ｒｅのメタライズ膜３を形成した。その後これを室温に
て自然放置を行い、１００〜１５０℃の乾燥炉にて１０
〜２０分間乾燥を行った。そして、ＭＯを発熱体とする
電気炉にて焼結した。焼結条件は、常温から２００℃／
ｈの速度で昇温し、１０００℃で１．５帰間保持後、再
び２００℃／ｈの速度で１５００℃まで昇温し、その後
該温度に１時間保持後冷却することによった。なお、雰
囲気ガスとして、Ｎ２＝１０００９／ｈ、Ｈ，＝５００
Ｑ／ｈの混合ガスを４５℃に保持した水１００Ｑのバブ
ラーを通したものを用いた。
第３図は、第１図に示した工程にて作成したものであり
、黒鉛板１上にＷおよびＲｅのメタライズ膜３を厚膜法
により形成したものである。本実施例によれば、Ｗおよ
びＲｅのメタライズ膜３の形成が容易になり、かつ作業
能率が向上した。
、黒鉛板１上にＷおよびＲｅのメタライズ膜３を厚膜法
により形成したものである。本実施例によれば、Ｗおよ
びＲｅのメタライズ膜３の形成が容易になり、かつ作業
能率が向上した。
第４図は、本発明の他の実施例を示したものであり、黒
鉛板１上に予めＲｅ膜４をスクリーン印刷にて形成し熱
風乾燥した。その後ＷおよびＲｅ膜３をＲｅ膜膜上上重
ねて印刷を行い、室温にて自然放置および熱風乾燥後、
ＭＯ発熱体とする電気炉にて一括焼結を行ったものであ
る。なお、焼結条件は前述の通りである。この様な方法
により、メタライズの多層化が作業能率を低下させるこ
となく、容易に行える。
鉛板１上に予めＲｅ膜４をスクリーン印刷にて形成し熱
風乾燥した。その後ＷおよびＲｅ膜３をＲｅ膜膜上上重
ねて印刷を行い、室温にて自然放置および熱風乾燥後、
ＭＯ発熱体とする電気炉にて一括焼結を行ったものであ
る。なお、焼結条件は前述の通りである。この様な方法
により、メタライズの多層化が作業能率を低下させるこ
となく、容易に行える。
以上詳述した通り本発明によれば、黒鉛板上へのメタラ
イズ形成を厚膜形成法により行うため、有毒なＨＦガス
が作業中に発生することが全く無く、メタライズ作業時
における安全性が向上した。
イズ形成を厚膜形成法により行うため、有毒なＨＦガス
が作業中に発生することが全く無く、メタライズ作業時
における安全性が向上した。
更に、Ｘ線ターゲットの製造工程の大幅な簡略化が計れ
るため、作業能率および量産性が向上するなとの優れた
効果を有している。
るため、作業能率および量産性が向上するなとの優れた
効果を有している。
第１図は本発明の一実施例のＸ線ターゲットのメタライ
ズ工程を示した説明図、第２図は従来の方法で製造した
Ｘ線ターゲットの断面図、第３図は本発明の一実施例を
示すＸ線ターゲットの断面図、第４図は本発明の他の実
施例を示すＸ線ターゲットの断面図である。 １．１′・・・黒鉛板、２・・・炭化けい素板、３・・
・Ｗ＋Ｒｅ膜、４・・・Ｒｅ膜。
ズ工程を示した説明図、第２図は従来の方法で製造した
Ｘ線ターゲットの断面図、第３図は本発明の一実施例を
示すＸ線ターゲットの断面図、第４図は本発明の他の実
施例を示すＸ線ターゲットの断面図である。 １．１′・・・黒鉛板、２・・・炭化けい素板、３・・
・Ｗ＋Ｒｅ膜、４・・・Ｒｅ膜。
Claims (1)
- １、黒鉛板上に、ＷおよびＲｅを単体かあるいは該金属
の化合物を、厚膜法により直接形成したことを特徴とす
るＸ線ターゲットのメタライズ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16415285A JPS6226736A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | Ｘ線タ−ゲツトのメタライズ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16415285A JPS6226736A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | Ｘ線タ−ゲツトのメタライズ方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6226736A true JPS6226736A (ja) | 1987-02-04 |
Family
ID=15787728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16415285A Pending JPS6226736A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | Ｘ線タ−ゲツトのメタライズ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6226736A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5605956A (en) * | 1995-10-16 | 1997-02-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluorinated polyisocyanates |
| US5627238A (en) * | 1995-10-16 | 1997-05-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coating compositions of an acrylic polymer and a fluorinated polyisocyanate |
| US5705276A (en) * | 1995-10-16 | 1998-01-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coating compositions of an acrylic fluorocarbon polymer and a fluorinated polyisocyanate |
-
1985
- 1985-07-26 JP JP16415285A patent/JPS6226736A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5605956A (en) * | 1995-10-16 | 1997-02-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluorinated polyisocyanates |
| US5627238A (en) * | 1995-10-16 | 1997-05-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coating compositions of an acrylic polymer and a fluorinated polyisocyanate |
| US5705276A (en) * | 1995-10-16 | 1998-01-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coating compositions of an acrylic fluorocarbon polymer and a fluorinated polyisocyanate |
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