JPS62265198A - ダイヤモンドの合成方法 - Google Patents
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- JPS62265198A JPS62265198A JP10846386A JP10846386A JPS62265198A JP S62265198 A JPS62265198 A JP S62265198A JP 10846386 A JP10846386 A JP 10846386A JP 10846386 A JP10846386 A JP 10846386A JP S62265198 A JPS62265198 A JP S62265198A
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はダイヤモンドの低圧合成法に関する。
ダイヤモンドは最も硬い物質としてよく知られているが
、硬度以外に熱の伝導性、電気的絶縁性。
、硬度以外に熱の伝導性、電気的絶縁性。
紫外〜赤外域の光の透過性、化学的安定性など機能性材
料として優れた特性をもっている。
料として優れた特性をもっている。
ダイヤモンドの合成法として高圧法がよく知られている
一気圧以下の低圧でもプラズマ、イオンビーム、熱エネ
ルギを利用することによりダイヤモンドを合成できるこ
とが、最近、解ってきた。
一気圧以下の低圧でもプラズマ、イオンビーム、熱エネ
ルギを利用することによりダイヤモンドを合成できるこ
とが、最近、解ってきた。
低圧法のダイヤモンド合成は、粒子のみならず薄膜状の
ダイヤモンドの合成も可能な点に特徴があり、半導体デ
バイスの絶縁放熱基板、コーテング材等への応用が考え
られ幅広い用途が期待できる。
ダイヤモンドの合成も可能な点に特徴があり、半導体デ
バイスの絶縁放熱基板、コーテング材等への応用が考え
られ幅広い用途が期待できる。
従来のダイヤモンド低圧合成に用いられる原料ガスは特
開昭58−110494号公報にみられるように、炭化
水素と水素との混合ガス、又は、第33回応用物理学関
係連合講演会(昭61年4月) IPZD6゜IPZD
7に見られるように水素とアルコール蒸気、水素とアセ
トン蒸気である。この従来技術によれば、炭化水素と水
素の場合には約1μ/hで、水素とアルコール、又は、
水素とアセトンの場合には、約10μ/hでのダイヤモ
ンドの合成が可能である。
開昭58−110494号公報にみられるように、炭化
水素と水素との混合ガス、又は、第33回応用物理学関
係連合講演会(昭61年4月) IPZD6゜IPZD
7に見られるように水素とアルコール蒸気、水素とアセ
トン蒸気である。この従来技術によれば、炭化水素と水
素の場合には約1μ/hで、水素とアルコール、又は、
水素とアセトンの場合には、約10μ/hでのダイヤモ
ンドの合成が可能である。
上記従来技術は、炭化水素と水素混合ガスの場合は原料
の供給は簡便で容易であるがダイヤモンドの成長速度が
約1μ/hと小さい点に問題があリ、水素とアルコール
、又は、水素とアセトンの場合はダイヤモンドの成長が
10μ/hと大きいが原料の供給が複雑となる点に問題
があった。
の供給は簡便で容易であるがダイヤモンドの成長速度が
約1μ/hと小さい点に問題があリ、水素とアルコール
、又は、水素とアセトンの場合はダイヤモンドの成長が
10μ/hと大きいが原料の供給が複雑となる点に問題
があった。
本発明の目的は、[料の供給が単純容易で、しかも、ダ
イヤモンドの成長が大きい合成方法を提供することにあ
る。
イヤモンドの成長が大きい合成方法を提供することにあ
る。
上記目的は、水素と一酸化炭素又は水素と二酸化炭素の
混合ガスをプラズマ分解するか、または。
混合ガスをプラズマ分解するか、または。
水素と一酸化炭素を熱分解することによって達成される
。
。
水素と一酸化炭素、水素と二酸化炭素との混合ガスをプ
ラズマ分解、又は、水素と一酸化炭素との混合ガスを1
500〜2000℃のタングステンヒータで熱分解する
と改姓な炭素、水素、酸素を生成する。炭素よりダイヤ
モンド及びグラファイトが生成するが、グラファイトは
活性な水素のみならず微量の活性な酸素によって早急に
除去されるにのため、従来の水素と炭化水素の場合にみ
られる活性な水素だけによるグラファイトの除去に比べ
、多くの原料ガスの供給が可能となり。
ラズマ分解、又は、水素と一酸化炭素との混合ガスを1
500〜2000℃のタングステンヒータで熱分解する
と改姓な炭素、水素、酸素を生成する。炭素よりダイヤ
モンド及びグラファイトが生成するが、グラファイトは
活性な水素のみならず微量の活性な酸素によって早急に
除去されるにのため、従来の水素と炭化水素の場合にみ
られる活性な水素だけによるグラファイトの除去に比べ
、多くの原料ガスの供給が可能となり。
ダイヤモンドの合成速度が早まる。
また、水素、−酸化炭素、二酸化炭素はいずれもガスで
あるためアルコールやアセトン等の液体に比べ減圧反応
器への供給が非常に簡単で精度よくできる。
あるためアルコールやアセトン等の液体に比べ減圧反応
器への供給が非常に簡単で精度よくできる。
以下、本発明を実施例を用いて説明する。
〔実施例1〕
本発明の一実施例を第1図を用いて説明する。
水素1.−酸化炭素、又は、二酸化炭素2を質量流量計
3により計量した後、混合し、プラズマ反応器4へ供給
する。プラズマ反応器4は真空ポンプ11により10−
1〜10Torrに減圧されている。
3により計量した後、混合し、プラズマ反応器4へ供給
する。プラズマ反応器4は真空ポンプ11により10−
1〜10Torrに減圧されている。
高周波発振器6より13.56MHz の高周波が発
振され、銅製コイル5を通して反応器4へ供給される0
反応器に供給された混合ガスはこの高周波によってプラ
ズマ8を発生する。プラズマ8中にシリコンウェハ7が
設置され、必要に応じてヒータ9により加熱される。プ
ラズマ中で生成した活性な炭素からダイヤモンドとグラ
ファイトがシリコンウェハ上に析出する。グラファイト
はプラズマ中で生成した活性な水素及び酸素により反応
除去されダイヤモンドのみがシリコンウェハ上に残る。
振され、銅製コイル5を通して反応器4へ供給される0
反応器に供給された混合ガスはこの高周波によってプラ
ズマ8を発生する。プラズマ8中にシリコンウェハ7が
設置され、必要に応じてヒータ9により加熱される。プ
ラズマ中で生成した活性な炭素からダイヤモンドとグラ
ファイトがシリコンウェハ上に析出する。グラファイト
はプラズマ中で生成した活性な水素及び酸素により反応
除去されダイヤモンドのみがシリコンウェハ上に残る。
反応管4には、40mmφ×800IImの石英ガラス
管を用いた。実験条件を以下に示す。
管を用いた。実験条件を以下に示す。
基 板:110mX10シリコンウエハ原料ガスA
:Hz99%、GO1% B:Hz99%、Coa1% 供給量10,100,300ma /win 圧 カニ5Torr一定 基板温度二800℃ 反応時間:1h 実験終了後、電子線回折による析出物の同定を行なった
。いずれの実験ケースでもダイヤモンドの生成が確認さ
れ、成長速度は原料ガスの供給量に比例して増大した。
:Hz99%、GO1% B:Hz99%、Coa1% 供給量10,100,300ma /win 圧 カニ5Torr一定 基板温度二800℃ 反応時間:1h 実験終了後、電子線回折による析出物の同定を行なった
。いずれの実験ケースでもダイヤモンドの生成が確認さ
れ、成長速度は原料ガスの供給量に比例して増大した。
すなわち、0.1〜8μ/hの成長速度であった。
水素−炭化水素のプラズマ分解の場合の成長速度0.1
〜1.0μ/hより速く、水素−メタノール、水素−ア
セトン混合ガスの熱分解の匹敵する速度が得られた。1
0は真空計。
〜1.0μ/hより速く、水素−メタノール、水素−ア
セトン混合ガスの熱分解の匹敵する速度が得られた。1
0は真空計。
〔実施例2〕
第2図に概略図を示す装置を用いてダイヤモンドの熱C
VD法による合成実験を行なった6反応器は40mφX
100O+m+の石英ガラス製である。
VD法による合成実験を行なった6反応器は40mφX
100O+m+の石英ガラス製である。
実験条件を以下に示す。
基 板:10m++X10mシリコンウェハ原料ガ
XA : Hz 99%、COI%B:Hz99%l
Co21% 供給量:300mg/win 圧 カニ5Torr一定 基板温度=800℃ タングステンヒータ温度:1500℃以上反応時間:1
h 実験終了後、電子線回折により析出物の同定を行なった
。いずれの実験ケースでもダイヤモンドの生成が確認さ
れたが、生成速度はHz −Co系で6μ/ h 、
Hz −C02系で0.1μ/hであった。以上の実験
より、H2−CO2系では熱分解により水素−メタノー
ル、水素−アセトン混合ガスの熱分解に匹敵する速度が
得られた。
XA : Hz 99%、COI%B:Hz99%l
Co21% 供給量:300mg/win 圧 カニ5Torr一定 基板温度=800℃ タングステンヒータ温度:1500℃以上反応時間:1
h 実験終了後、電子線回折により析出物の同定を行なった
。いずれの実験ケースでもダイヤモンドの生成が確認さ
れたが、生成速度はHz −Co系で6μ/ h 、
Hz −C02系で0.1μ/hであった。以上の実験
より、H2−CO2系では熱分解により水素−メタノー
ル、水素−アセトン混合ガスの熱分解に匹敵する速度が
得られた。
図中、14は反応器、15はタングステンヒータ、16
はシリコンウェハ、18は熱電対である。
はシリコンウェハ、18は熱電対である。
本発明によれば、シリコンウェハ等の基板上に、従来の
水素−炭化水素のプラズマ分解より数倍早い速度で、又
、水素−メタノール、水素−アセトン熱分解法より簡便
な操作でダイヤモンドを合成することができる。
水素−炭化水素のプラズマ分解より数倍早い速度で、又
、水素−メタノール、水素−アセトン熱分解法より簡便
な操作でダイヤモンドを合成することができる。
第1図は本発明のプラズマ法による一実施例の系統図、
第2図は本発明の熱分解法による一実施例の系統図であ
る。 2・′−・、 4・・・プラズマ反応器。
、、。
第2図は本発明の熱分解法による一実施例の系統図であ
る。 2・′−・、 4・・・プラズマ反応器。
、、。
Claims (1)
- 1、減圧された反応器に水素と一酸化炭素、又は、水素
と二酸化炭素との混合ガスを供給し、前記混合ガスにマ
イクロ波、高周波等の電磁波エネルギを印加してプラズ
マを発生させて基板上にダイヤモンドを合成することを
特徴とするダイヤモンドの合成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10846386A JPS62265198A (ja) | 1986-05-14 | 1986-05-14 | ダイヤモンドの合成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10846386A JPS62265198A (ja) | 1986-05-14 | 1986-05-14 | ダイヤモンドの合成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62265198A true JPS62265198A (ja) | 1987-11-18 |
JPH0361633B2 JPH0361633B2 (ja) | 1991-09-20 |
Family
ID=14485400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10846386A Granted JPS62265198A (ja) | 1986-05-14 | 1986-05-14 | ダイヤモンドの合成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62265198A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63117994A (ja) * | 1986-11-05 | 1988-05-21 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンドの気相合成法 |
JPS63274692A (ja) * | 1987-05-02 | 1988-11-11 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ダイヤモンドの合成方法 |
JPH01201098A (ja) * | 1987-10-12 | 1989-08-14 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ダイヤモンドの合成方法 |
JPH01313393A (ja) * | 1988-06-10 | 1989-12-18 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンドの気相合成法 |
US4984534A (en) * | 1987-04-22 | 1991-01-15 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Method for synthesis of diamond |
US5258206A (en) * | 1989-01-13 | 1993-11-02 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Method and apparatus for producing diamond thin films |
US5531184A (en) * | 1990-04-26 | 1996-07-02 | Hitachi, Ltd. | Method for producing synthetic diamond thin film, the thin film and device using it |
WO2004025002A1 (fr) * | 2002-09-12 | 2004-03-25 | Skvortsov Vladimir Anatolievic | Procede de synthese de diamants au moyen de champs magnetiques mono |
-
1986
- 1986-05-14 JP JP10846386A patent/JPS62265198A/ja active Granted
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63117994A (ja) * | 1986-11-05 | 1988-05-21 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンドの気相合成法 |
US4984534A (en) * | 1987-04-22 | 1991-01-15 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Method for synthesis of diamond |
US4985227A (en) * | 1987-04-22 | 1991-01-15 | Indemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Method for synthesis or diamond |
JPS63274692A (ja) * | 1987-05-02 | 1988-11-11 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ダイヤモンドの合成方法 |
JPH042556B2 (ja) * | 1987-05-02 | 1992-01-20 | ||
JPH01201098A (ja) * | 1987-10-12 | 1989-08-14 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ダイヤモンドの合成方法 |
JPH01313393A (ja) * | 1988-06-10 | 1989-12-18 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンドの気相合成法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0361633B2 (ja) | 1991-09-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |