JPS62257760A - バイポ−ラ型半導体集積回路 - Google Patents
バイポ−ラ型半導体集積回路Info
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- JPS62257760A JPS62257760A JP10011986A JP10011986A JPS62257760A JP S62257760 A JPS62257760 A JP S62257760A JP 10011986 A JP10011986 A JP 10011986A JP 10011986 A JP10011986 A JP 10011986A JP S62257760 A JPS62257760 A JP S62257760A
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- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims abstract description 13
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 11
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 11
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明はバイポーラ型半導体集積回路であって、電源端
子とこれに接続されるバイポーラ型トランジスタのベー
スとの間に保護素子を設けることにより、バイポーラ型
半導体集積回路の負極性の静電気による破壊を防止する
。
子とこれに接続されるバイポーラ型トランジスタのベー
スとの間に保護素子を設けることにより、バイポーラ型
半導体集積回路の負極性の静電気による破壊を防止する
。
本発明はバイポーラ型半導体集積回路に関し、PN接合
を流れる電流により動作を行なうバイポーラ型トランジ
スタ及びタイオード等を用いたバイポーラ型半導体集積
回路に関する。
を流れる電流により動作を行なうバイポーラ型トランジ
スタ及びタイオード等を用いたバイポーラ型半導体集積
回路に関する。
バイポーラ型半導体集積回路は、第3図に示す如き構造
である。図中、P型の基板1oにn°型の埋込層11が
形成され、その上にエピタキシャル成長によるn型の素
子形成領域12.13゜14が形成されている。素子形
成領域12〜14夫々はP1型の素子分離領域15によ
り分t!nさ゛れている。基板10は接地されている。
である。図中、P型の基板1oにn°型の埋込層11が
形成され、その上にエピタキシャル成長によるn型の素
子形成領域12.13゜14が形成されている。素子形
成領域12〜14夫々はP1型の素子分離領域15によ
り分t!nさ゛れている。基板10は接地されている。
素子形成領域12にはP型領域16、n″領域17.1
8が設けられ、これらに取付けられた電極19.20.
21夫々をベース、コレクタ、エミッタとするNPN型
トランジスタが構成されている。また、素子形成領域1
3にはn″′型領域23、P型領b1.23.24が設
けられ、これらに取付けられた電極25,26.27夫
々をベース。
8が設けられ、これらに取付けられた電極19.20.
21夫々をベース、コレクタ、エミッタとするNPN型
トランジスタが構成されている。また、素子形成領域1
3にはn″′型領域23、P型領b1.23.24が設
けられ、これらに取付けられた電極25,26.27夫
々をベース。
エミッタ、コレクタとするラテラルPNP型トランジス
タが構成されている。素子形成領域14にはP型領域2
8が設けられ、その両端の電極29゜30を取りつけて
抵抗が構成されている。n+型領領域31は素子形成領
域14の電位設定用の電極32が設けられている。なお
、33は絶縁層である。
タが構成されている。素子形成領域14にはP型領域2
8が設けられ、その両端の電極29゜30を取りつけて
抵抗が構成されている。n+型領領域31は素子形成領
域14の電位設定用の電極32が設けられている。なお
、33は絶縁層である。
上記のバイポーラ型半導体集積回路では、電源電圧十V
ccの印加される電源端子に接続できる電極は、NPN
型トランジスタのベース(電極19)及びエミッタ(′
7jti極21)と、ラテラルPNP型トランジスタの
エミッタ(電極26)及びコレクタ(電極27)と、抵
抗の素子形成領域(電極32)とである。
ccの印加される電源端子に接続できる電極は、NPN
型トランジスタのベース(電極19)及びエミッタ(′
7jti極21)と、ラテラルPNP型トランジスタの
エミッタ(電極26)及びコレクタ(電極27)と、抵
抗の素子形成領域(電極32)とである。
これは、例えばNPN型トランジスタのコレクタ(電極
20)を電源端子に接続したものとすると、半導体集積
回路の電源を誤って逆接続したとぎ、P型の基板10J
:すn型の素子形成領域12へ順方向に大電流が流れ、
半導体集積回路が破壊されてしまうからである。
20)を電源端子に接続したものとすると、半導体集積
回路の電源を誤って逆接続したとぎ、P型の基板10J
:すn型の素子形成領域12へ順方向に大電流が流れ、
半導体集積回路が破壊されてしまうからである。
これに対して、NPN型トランジスタのエミッタ(電N
A21)等を電源端子に接続していれば、誤って電源を
逆接続した場合にも基板10とエミッタ(電極21)間
に電流が流れない。
A21)等を電源端子に接続していれば、誤って電源を
逆接続した場合にも基板10とエミッタ(電極21)間
に電流が流れない。
第4図は従来の半導体集積回路の一例の回路図を示す。
同図中、電源電圧十Vccが印加される’Fs 110
fH子40には前記の理由によりラテラルPNP型ト
ランジスタTr+ 、Trz、Tr3夫々のエミッタが
接続されている。また、端子41は接地されている。
fH子40には前記の理由によりラテラルPNP型ト
ランジスタTr+ 、Trz、Tr3夫々のエミッタが
接続されている。また、端子41は接地されている。
トランジスタTr+ 、Trz、Trzはカレントミラ
ー回路を構成し、トランジスタTr4及び抵抗R+のバ
イアスに応じて定電流出力動作を行なう。トランジスタ
T r s * T r s夫々は差動増幅回路を構成
し、トランジスタTrzと、カレントミラー構成のダイ
オードD2及びトランジスタTr9の定電流源とにより
動作電流を供給されている。トランジスタTr6のコレ
クタより取り出される出力信号はトランジスタTrsで
増幅された後、オーブンコレクタのトランシタTr7を
介して端子44より出力される。従って、この回路は、
トランジスタTrsのベースが非反転入力端子42とし
、トランジスタTrsのベースが反転入力端子43とす
る差動増幅回路である。
ー回路を構成し、トランジスタTr4及び抵抗R+のバ
イアスに応じて定電流出力動作を行なう。トランジスタ
T r s * T r s夫々は差動増幅回路を構成
し、トランジスタTrzと、カレントミラー構成のダイ
オードD2及びトランジスタTr9の定電流源とにより
動作電流を供給されている。トランジスタTr6のコレ
クタより取り出される出力信号はトランジスタTrsで
増幅された後、オーブンコレクタのトランシタTr7を
介して端子44より出力される。従って、この回路は、
トランジスタTrsのベースが非反転入力端子42とし
、トランジスタTrsのベースが反転入力端子43とす
る差動増幅回路である。
しかし、第4図示の回路では、電源ラインに負極性P1
電圧の静電気が侵入した場合、トランジスタTr+ 、
Trz 、Trzを構成する第3図に示す如き半導体集
積回路のn型の素子形成領1!13とP型領域23との
PN接合に、その降伏電圧を越える逆方向電圧が印加さ
れ、大電流が流れることによって半導体集積回路が熱破
壊されるという問題点があった。
電圧の静電気が侵入した場合、トランジスタTr+ 、
Trz 、Trzを構成する第3図に示す如き半導体集
積回路のn型の素子形成領1!13とP型領域23との
PN接合に、その降伏電圧を越える逆方向電圧が印加さ
れ、大電流が流れることによって半導体集積回路が熱破
壊されるという問題点があった。
本発明はこのような点にかんがみてなされたもので、簡
易な構成で静電気による破壊を防止するバイポーラ型半
導体集積回路を提供することを目的とする。
易な構成で静電気による破壊を防止するバイポーラ型半
導体集積回路を提供することを目的とする。
本発明のバイポーラ型半導体集積回路は、ベース及びエ
ミッタを電源端子(40)に接続され、コレクタをバイ
ポーラ型1−ランジスタ(Try。
ミッタを電源端子(40)に接続され、コレクタをバイ
ポーラ型1−ランジスタ(Try。
Trz、Trz )のベースに接続され、ベースとエミ
ッタとの間に所定のの抵抗値を持ち、かつ降伏電圧がバ
イポーラ型トランジスタ(Try 。
ッタとの間に所定のの抵抗値を持ち、かつ降伏電圧がバ
イポーラ型トランジスタ(Try 。
Trz 、Trz)の降伏電圧より低いNPN型トラン
ジスタ構造の保護素子(50)を有する。
ジスタ構造の保護素子(50)を有する。
〔作用〕
本発明においては、負極性の静電気が電源端子に入来し
たとき電源端子に接続されたバイポーラ型トランジスタ
より降伏電圧の低い保fl素子のベース・コレクタ間に
逆方向電流が流れるが、保護素子のベースに所定の抵抗
値があるため、逆方向電流の値が小ざく保護素子が破壊
されることはない。これによっても電像端子に接続され
たバイポーラ型トランジスタの静電気による破壊が防止
される。
たとき電源端子に接続されたバイポーラ型トランジスタ
より降伏電圧の低い保fl素子のベース・コレクタ間に
逆方向電流が流れるが、保護素子のベースに所定の抵抗
値があるため、逆方向電流の値が小ざく保護素子が破壊
されることはない。これによっても電像端子に接続され
たバイポーラ型トランジスタの静電気による破壊が防止
される。
第1図は本発明になるバイポーラ型半導体集積回路の一
実施例の回路図を示す。第1図示の回路は差動増幅回路
を構成しており、同図中、第4図と同一部分には同一符
号を付し、その説明を省略する。
実施例の回路図を示す。第1図示の回路は差動増幅回路
を構成しており、同図中、第4図と同一部分には同一符
号を付し、その説明を省略する。
第1図において、電源端子40と、ラテラルPNP型ト
ランジスタTr+ 、Trz 、Trs夫々の共通接続
されたベースとの間に保護素子50が接続されている。
ランジスタTr+ 、Trz 、Trs夫々の共通接続
されたベースとの間に保護素子50が接続されている。
保護索子50は第2図に示す如きNPN型トランジスタ
で構成されている。第2図(A)は保護素子50の平面
図を示す。ここで、実線51で囲まれた部分が保護素子
50の素子形成領域である。
で構成されている。第2図(A)は保護素子50の平面
図を示す。ここで、実線51で囲まれた部分が保護素子
50の素子形成領域である。
この素子形成領域内の実線52で囲まれた部分がn+型
領領域され、このn“型領域に]レクタと<r 3 =
4453が取付けられている。
領領域され、このn“型領域に]レクタと<r 3 =
4453が取付けられている。
実15i154に囲まれる部分はP型領域であり、実線
52のn1型頒域に対向す゛る部分55aと、部分55
aの一端から上記n゛型領領域り離間する方向に延在す
る部分55bと、部分55aの細端から上記n+型領領
域り離間する方向に延在する部分55 Gとから構成さ
れている。部分55bの端部にはベースとなる電極57
が取付りられている。
52のn1型頒域に対向す゛る部分55aと、部分55
aの一端から上記n゛型領領域り離間する方向に延在す
る部分55bと、部分55aの細端から上記n+型領領
域り離間する方向に延在する部分55 Gとから構成さ
れている。部分55bの端部にはベースとなる電極57
が取付りられている。
部分55cの端部は大面積とされて実線57で囲まれた
部分がn+型領領域され、ここのn°型領領域エミッタ
となる電極58が取付けられている。
部分がn+型領領域され、ここのn°型領領域エミッタ
となる電極58が取付けられている。
従って、保護素子50は第2図(B)に示す如く、ベー
ス・エミッタ間に抵抗を右するNPN型トラジスタであ
り、電極56.58間つまりベース・エミッタ間を共通
接続して使用される。このため、保護素子50は第2図
(C)に示す如きダイオードと略等価である。
ス・エミッタ間に抵抗を右するNPN型トラジスタであ
り、電極56.58間つまりベース・エミッタ間を共通
接続して使用される。このため、保護素子50は第2図
(C)に示す如きダイオードと略等価である。
保護素子50のベース・コレクタ間のPN接合の逆方向
の降伏電圧は、ラテラルPNP型のトランジスタTr+
、Trz 、Tr3夫々のエミッタ・ベース間のPN
接合の逆方向の耐圧より小さく、かつ端子40.41間
の電圧より大きくされている。
の降伏電圧は、ラテラルPNP型のトランジスタTr+
、Trz 、Tr3夫々のエミッタ・ベース間のPN
接合の逆方向の耐圧より小さく、かつ端子40.41間
の電圧より大きくされている。
保護素子50は、第1図に示す如く電極53をトランジ
スタTr+ 、Trz 、Tr3夫々の共通接続された
ベース接続され、共通接続された電極56及び58を電
源端子40に接続されている。
スタTr+ 、Trz 、Tr3夫々の共通接続された
ベース接続され、共通接続された電極56及び58を電
源端子40に接続されている。
ここで、半導体集積回路の電源を誤って逆接続し、電源
端子40がアースレベルで端子41に電源電圧十Vcc
が印加された場合においても、NPN型1ヘランジスタ
である保護素子50のベース及びエミッタが端子40に
接続され、かつベース・コレクタ間の降伏電圧は電圧V
ccより大であるため、半導体集積回路の基板10より
保護素子50のベース及びエミッタに電流が流れること
はない。
端子40がアースレベルで端子41に電源電圧十Vcc
が印加された場合においても、NPN型1ヘランジスタ
である保護素子50のベース及びエミッタが端子40に
接続され、かつベース・コレクタ間の降伏電圧は電圧V
ccより大であるため、半導体集積回路の基板10より
保護素子50のベース及びエミッタに電流が流れること
はない。
電源端子40に電源電圧十Vccが正常に印加された場
合、保護素子50のベース、コレクタを介してトランジ
スタTr+ 、Trz、Tr3夫々のベースに電流が流
れるが、保護素子50のベースは抵抗を有しているので
上記の電流は微小であり、トランジスタTr+ 、Tr
z 、Trz夫々の動作は第4図示のものと同一とみな
ずことができる。
合、保護素子50のベース、コレクタを介してトランジ
スタTr+ 、Trz、Tr3夫々のベースに電流が流
れるが、保護素子50のベースは抵抗を有しているので
上記の電流は微小であり、トランジスタTr+ 、Tr
z 、Trz夫々の動作は第4図示のものと同一とみな
ずことができる。
ここで、電源ラインに負極性大電圧の静電気が混入した
場合は、トランジスタTr+、1−r2゜Tr3夫々の
エミッタ・ベース間の降伏電圧より降伏電圧の低い保護
素:F50のコレクタからベースに逆方向の電流が流れ
る。このとき、保護素子50のベースは抵抗を有してい
るため、上記逆方向電流の値は小さく、保護素子50の
コレクタ・ベース間が熱破壊されることはない。
場合は、トランジスタTr+、1−r2゜Tr3夫々の
エミッタ・ベース間の降伏電圧より降伏電圧の低い保護
素:F50のコレクタからベースに逆方向の電流が流れ
る。このとき、保護素子50のベースは抵抗を有してい
るため、上記逆方向電流の値は小さく、保護素子50の
コレクタ・ベース間が熱破壊されることはない。
これによって電源端子4oに接続されたトランジスタT
r+ 、Trz 、Tr3の静電気による破壊が防止さ
れる。また保護素子50も熱破壊がないため、電源ライ
ンに負極性大電圧の静電気が複数回混入しても、上記の
動作により、トランジスタTr+ 、Trz 、Trz
の保護が行なわれる。
r+ 、Trz 、Tr3の静電気による破壊が防止さ
れる。また保護素子50も熱破壊がないため、電源ライ
ンに負極性大電圧の静電気が複数回混入しても、上記の
動作により、トランジスタTr+ 、Trz 、Trz
の保護が行なわれる。
上述の如く、本発明によれば、電源が逆接続された場合
の破壊が防止されるだけでなく、電源端子に入来する静
電気による破壊も防止され、バイポーラ型半導体集積回
路の静電音間を高くでき、かつ回路の通常動作に何ら影
響を与えない。
の破壊が防止されるだけでなく、電源端子に入来する静
電気による破壊も防止され、バイポーラ型半導体集積回
路の静電音間を高くでき、かつ回路の通常動作に何ら影
響を与えない。
第1図は本発明になるバイポーラ型半導体集積回路の一
実施例の回路図、 第2図は第1図示の保護素子を説明するための図、 第3図はバイポーラ型半導体集積回路の断面図、第4図
は従来回路の一例の回路図である。 図中において、 10は基板、 12.13.14は素子形成領域、 16.23.24.28は1〕型領域、17.18.2
2.31はn”型領域、19〜21.25〜27.29
〜32,53゜56.58は電極、 40は電源端子、 50は保護素子である。 第1図 4Wt+tlLAT4r=”5=vQ 第2図 収来回協(7)田路司 第4図
実施例の回路図、 第2図は第1図示の保護素子を説明するための図、 第3図はバイポーラ型半導体集積回路の断面図、第4図
は従来回路の一例の回路図である。 図中において、 10は基板、 12.13.14は素子形成領域、 16.23.24.28は1〕型領域、17.18.2
2.31はn”型領域、19〜21.25〜27.29
〜32,53゜56.58は電極、 40は電源端子、 50は保護素子である。 第1図 4Wt+tlLAT4r=”5=vQ 第2図 収来回協(7)田路司 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 PN接合を流れる電流により動作を行なうバイポーラ型
の素子を用いて構成され、電源端子(40)にバイポー
ラ型トランジスタ(Tr_1、Tr_2、Tr_3)の
エミッタが接続されたバイポーラ型半導体集積回路にお
いて、 ベース及びエミッタを該電源端子(40)に接続され、
コレクタを該バイポーラ型トランジスタ(Tr_1、T
r_2、Tr_3)のベースに接続され、該ベースとエ
ミッタとの間に所定の抵抗値を持ち、かつ降伏電圧が該
バイポーラ型トランジスタ(Tr_1、Tr_2、Tr
_3)の降伏電圧より低いNPN型トランジスタ構造の
保護素子(50)を有することを特徴とするバイポーラ
型半導体集積回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10011986A JP2633831B2 (ja) | 1986-04-30 | 1986-04-30 | バイポーラ型半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10011986A JP2633831B2 (ja) | 1986-04-30 | 1986-04-30 | バイポーラ型半導体集積回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62257760A true JPS62257760A (ja) | 1987-11-10 |
JP2633831B2 JP2633831B2 (ja) | 1997-07-23 |
Family
ID=14265458
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10011986A Expired - Fee Related JP2633831B2 (ja) | 1986-04-30 | 1986-04-30 | バイポーラ型半導体集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2633831B2 (ja) |
-
1986
- 1986-04-30 JP JP10011986A patent/JP2633831B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2633831B2 (ja) | 1997-07-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |