JPS62250453A - 平版印刷版の製造法 - Google Patents
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1041—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/002—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、平版印刷版の製造方法に関し、更に詳細には
、乾式処理により平版印刷版を製造する方法に関する。
、乾式処理により平版印刷版を製造する方法に関する。
現在、一般的な平版印刷版の製法は、砂目立てをした親
水性アルミ支持体に、例えばポジ型印刷版の場合には、
0−キノンジアジド化合物とフェノール樹脂を塗布し、
パターン露光を施した後アルカリ現像液により露光を受
けた部分の感光層を溶出し、水洗し、更に感光層を取り
除いた部分のアルミ支持体表面が空気に曝され、その影
響により親水性が低下するのを防止するためにアラビア
ゴム等の塗布をふこなう工程よりなっている。
水性アルミ支持体に、例えばポジ型印刷版の場合には、
0−キノンジアジド化合物とフェノール樹脂を塗布し、
パターン露光を施した後アルカリ現像液により露光を受
けた部分の感光層を溶出し、水洗し、更に感光層を取り
除いた部分のアルミ支持体表面が空気に曝され、その影
響により親水性が低下するのを防止するためにアラビア
ゴム等の塗布をふこなう工程よりなっている。
上記の方式においては、パターン露光後走に多くの時間
が必要とされ、自動現像機のほかに、ガムコーター、現
像液、ガム液、流し台等の作業場も必要となる。更に現
像の際、残存するパターン面積を一定に保つには現像液
の温度、現像時間、現像液の補充、交換を適正におこな
う等の煩雑な管理が必要となる。また現像液の排出によ
る公害の危険、現像液の取扱い時の傷害の危険等がある
。
が必要とされ、自動現像機のほかに、ガムコーター、現
像液、ガム液、流し台等の作業場も必要となる。更に現
像の際、残存するパターン面積を一定に保つには現像液
の温度、現像時間、現像液の補充、交換を適正におこな
う等の煩雑な管理が必要となる。また現像液の排出によ
る公害の危険、現像液の取扱い時の傷害の危険等がある
。
また自動現像機、ガムコーターの洗滌、メンテナンスに
多くの時間が必要である。
多くの時間が必要である。
このように従来の平版印刷版の製造工程はパターン露光
後の工程に多くの問題を有している。
後の工程に多くの問題を有している。
このようなわけで、パターン露光後簡易な乾式処理でパ
ターン形成のできる平版印刷版の製造方法が考えられて
いる。
ターン形成のできる平版印刷版の製造方法が考えられて
いる。
米国特許第3.374.094号明細書には、1)N−
ビニルアミン、2)ハロゲン化炭化水素、3) P%B
1.5bSAsのトリアリール化合物を親水性バインダ
ー中に分散した層を支持体上に設けた平版印刷原版にパ
ターン露光し、露光部を感脂性にし、ついで加熱し重合
開始剤2)を気化させ定着する方法が開示されている。
ビニルアミン、2)ハロゲン化炭化水素、3) P%B
1.5bSAsのトリアリール化合物を親水性バインダ
ー中に分散した層を支持体上に設けた平版印刷原版にパ
ターン露光し、露光部を感脂性にし、ついで加熱し重合
開始剤2)を気化させ定着する方法が開示されている。
また米国特許第3.505.371号明細書にはl)ビ
ニル樹脂、2)ポリエン、ポリチオール、重合促進剤を
支持体上に設けた平版印刷原版にパターン露光後加熱し
て、樹脂を融解し、露光部を感脂性、非露光部を親水性
とする方法が開示されている。これらの方法はいずれも
画像部の感脂性、非画像部の親水性が不充分であり、汚
れのまったくないインク濃度の高い印刷物を得ることは
困難である。特開昭58−224753号公報には、耐
水性支持体上に光硬化型樹脂を主として内包する光硬化
型マイクロカプセルを含有する層を塗布した平版印刷原
版にパターン露光を施したのち加圧し、再び全面露光し
、露光部を感脂性、非露光部を親水性とする方法が開示
されている。
ニル樹脂、2)ポリエン、ポリチオール、重合促進剤を
支持体上に設けた平版印刷原版にパターン露光後加熱し
て、樹脂を融解し、露光部を感脂性、非露光部を親水性
とする方法が開示されている。これらの方法はいずれも
画像部の感脂性、非画像部の親水性が不充分であり、汚
れのまったくないインク濃度の高い印刷物を得ることは
困難である。特開昭58−224753号公報には、耐
水性支持体上に光硬化型樹脂を主として内包する光硬化
型マイクロカプセルを含有する層を塗布した平版印刷原
版にパターン露光を施したのち加圧し、再び全面露光し
、露光部を感脂性、非露光部を親水性とする方法が開示
されている。
この方法は加圧によりマイクロカプセルを破壊するため
大きな加圧装置を必要とし、また実用可能の加圧装置で
マイクロカプセルを破壊するにはマイクロカプセルの直
径が数ミクロン以上という大きさであることが必要であ
り、マイクロカプセルの直径が大きくなるとパターンの
解像力が低下する。また取扱いの際にマイクロカプセル
が破壊し汚れの原因となる危険がある。
大きな加圧装置を必要とし、また実用可能の加圧装置で
マイクロカプセルを破壊するにはマイクロカプセルの直
径が数ミクロン以上という大きさであることが必要であ
り、マイクロカプセルの直径が大きくなるとパターンの
解像力が低下する。また取扱いの際にマイクロカプセル
が破壊し汚れの原因となる危険がある。
従って、本発明の目的は、簡易な乾式処理によって高解
像力、高感脂性の画像部と汚れのない非画像部の得られ
る平版印刷版の製法を提供することである。
像力、高感脂性の画像部と汚れのない非画像部の得られ
る平版印刷版の製法を提供することである。
本発明の目的は支持体上に光重合性モノマーおよび/ま
たは感光性樹脂を内包するマイクロカプセルを含有する
層を塗布し、該塗層面にパターン露光を施したのち加熱
することを特徴とする平版印刷版の製法により達成され
る。
たは感光性樹脂を内包するマイクロカプセルを含有する
層を塗布し、該塗層面にパターン露光を施したのち加熱
することを特徴とする平版印刷版の製法により達成され
る。
本発明の平版印刷版の製法は加熱により未露光部の熱軟
化性を有するマイクロカプセル壁および/またはマイク
ロカプセル中の光重合性モノマー、感光性樹脂等の内包
物が混じり合って親油性の均一膜を作ることを利用した
ものである。
化性を有するマイクロカプセル壁および/またはマイク
ロカプセル中の光重合性モノマー、感光性樹脂等の内包
物が混じり合って親油性の均一膜を作ることを利用した
ものである。
本発明に用いる光重合性モノマーおよび/または感光性
樹脂を主として内包するマイクロカプセルは光によって
熱特性が制御できるマイクロカプセルで、通常の取扱い
時及び通常の条件下では安定であるが、材質に依存した
熱軟化温度、熱透過係数を持っている。露光を受けると
マイクロカプセルが硬化し、熱軟化温度が大巾に上昇す
る。このような性質を持ったマイクロカプセルを支持体
上に塗布した平版印刷原版にポジ原版を重ねてメタルハ
ライドランプ等にてパターン露光すると、露光部すなわ
ち非画像部に存在するマイクロカプセルは硬化し、熱軟
化温度が上昇する。一方未露光部すなわち画線部に存在
するマイクロカプセルはなんら熱軟化温度は変らない。
樹脂を主として内包するマイクロカプセルは光によって
熱特性が制御できるマイクロカプセルで、通常の取扱い
時及び通常の条件下では安定であるが、材質に依存した
熱軟化温度、熱透過係数を持っている。露光を受けると
マイクロカプセルが硬化し、熱軟化温度が大巾に上昇す
る。このような性質を持ったマイクロカプセルを支持体
上に塗布した平版印刷原版にポジ原版を重ねてメタルハ
ライドランプ等にてパターン露光すると、露光部すなわ
ち非画像部に存在するマイクロカプセルは硬化し、熱軟
化温度が上昇する。一方未露光部すなわち画線部に存在
するマイクロカプセルはなんら熱軟化温度は変らない。
従ってパターン露光後、未硬化のマイクロカプセルの熱
軟化温度以上、硬化したマイクロカプセルの熱軟化温度
以下の温度に加熱すると、画線部に存在するマイクロカ
プセルのみが軟化し、マイクロカプセル壁および/ある
いはマイクロカプセル中の光重合性モノマー、感光性樹
脂等の内包物が混じり合って親油性の均一膜となりイン
キ受容性となる。加熱時にロール等で加圧しマイクロカ
プセル壁および/あるいはマイクロカプセル中の光重合
性モノマー、感光性樹脂の内包物をより混じりやすくす
ることもできる。また加熱だけで印刷に充分耐えるだけ
の強度を持った画像部を作ることができるが、更に皮膜
強度をあげ耐剛性を大きくするために、再び全面露光し
て用いることもできる。
軟化温度以上、硬化したマイクロカプセルの熱軟化温度
以下の温度に加熱すると、画線部に存在するマイクロカ
プセルのみが軟化し、マイクロカプセル壁および/ある
いはマイクロカプセル中の光重合性モノマー、感光性樹
脂等の内包物が混じり合って親油性の均一膜となりイン
キ受容性となる。加熱時にロール等で加圧しマイクロカ
プセル壁および/あるいはマイクロカプセル中の光重合
性モノマー、感光性樹脂の内包物をより混じりやすくす
ることもできる。また加熱だけで印刷に充分耐えるだけ
の強度を持った画像部を作ることができるが、更に皮膜
強度をあげ耐剛性を大きくするために、再び全面露光し
て用いることもできる。
本発明の平版印刷版の製法は、パターン露光後加熱によ
り親油性の均一膜よりなる画像を作るものであって、使
用するマイクロカプセルの粒径を通常加圧破壊に用いら
れているマイクロカプセルより著るしく小さくすること
ができるので、パターンの細部を忠実に再現できる高解
像力の平版印刷版を製造できるというすぐれた特徴を持
っている。
り親油性の均一膜よりなる画像を作るものであって、使
用するマイクロカプセルの粒径を通常加圧破壊に用いら
れているマイクロカプセルより著るしく小さくすること
ができるので、パターンの細部を忠実に再現できる高解
像力の平版印刷版を製造できるというすぐれた特徴を持
っている。
本発明でいう重合性モノマーは、ビニル又はビニリデン
基を一個以上好ましくは複数個有する化合物であり、例
えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、
不飽和ポリエステル基、ビニルオキシ基、アクリルアミ
ド基などををする化合物があげられる。最も代表的なも
のは、ポリオール、ポリアミン又はアミノアルコール等
と不飽和カルボン酸との反応物、ヒドロキシル基をもつ
アクリレート又はメタクリレートとポリイソシアネート
との反応物などである。
基を一個以上好ましくは複数個有する化合物であり、例
えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、
不飽和ポリエステル基、ビニルオキシ基、アクリルアミ
ド基などををする化合物があげられる。最も代表的なも
のは、ポリオール、ポリアミン又はアミノアルコール等
と不飽和カルボン酸との反応物、ヒドロキシル基をもつ
アクリレート又はメタクリレートとポリイソシアネート
との反応物などである。
たとえば、代表的な化合物としてポリエチレングリコー
ルジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメ
チロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンクエリスリトールテトラア
クリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1.2
−ブタンジオールジアクリレート、テトラキスβ−アク
リロキシエチルエチレンジアミン、エポキシ樹脂とアク
リル酸との反応物、メタクリル酸とペンタエリスリトー
ルとアクリル酸との反応物、マレイン酸とジエチレング
リコールとアクリル酸の縮合物、メチルメタクリレート
、ブチルメタクリレート、スチレン、ジビニルベンゼン
、ジアリールナフタレンなどである。これらの単量体に
ついては、特開昭49−52889号、同48−686
41号、同48−32586号、特公昭49−7115
号等に開示されているものからも選ぶことができる。こ
れらは目的に応じて複数個併用することもできる。
ルジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメ
チロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンクエリスリトールテトラア
クリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1.2
−ブタンジオールジアクリレート、テトラキスβ−アク
リロキシエチルエチレンジアミン、エポキシ樹脂とアク
リル酸との反応物、メタクリル酸とペンタエリスリトー
ルとアクリル酸との反応物、マレイン酸とジエチレング
リコールとアクリル酸の縮合物、メチルメタクリレート
、ブチルメタクリレート、スチレン、ジビニルベンゼン
、ジアリールナフタレンなどである。これらの単量体に
ついては、特開昭49−52889号、同48−686
41号、同48−32586号、特公昭49−7115
号等に開示されているものからも選ぶことができる。こ
れらは目的に応じて複数個併用することもできる。
これらのモノマーは通常300nm以下の紫外部に吸収
ををするので紫外〜可視光源に対し感光性を付与するた
めに紫外〜可視光を吸収し、モノマーを重合させるよう
な感光性物質を併用するのが望ましい。その例としては
一般に光重合開始剤として知られているものがあり、既
に底置に詳しく、たとえば、コーサー著、ライト・セン
シティブ・システムズ(Kosar ”Light 5
ensitive Systems”John Wil
ey & 5ons ) 、薬科ら“感光性樹脂”日刊
工業新聞社、角田ら“感光性樹脂”印刷学会などに開示
されている。
ををするので紫外〜可視光源に対し感光性を付与するた
めに紫外〜可視光を吸収し、モノマーを重合させるよう
な感光性物質を併用するのが望ましい。その例としては
一般に光重合開始剤として知られているものがあり、既
に底置に詳しく、たとえば、コーサー著、ライト・セン
シティブ・システムズ(Kosar ”Light 5
ensitive Systems”John Wil
ey & 5ons ) 、薬科ら“感光性樹脂”日刊
工業新聞社、角田ら“感光性樹脂”印刷学会などに開示
されている。
具体的な光重合開始剤の例として芳香族ケトン、キノン
化合物、エーテル化合物、ニトロ化合物があげられる。
化合物、エーテル化合物、ニトロ化合物があげられる。
具体的には、ベンゾキノン、フェナンスレンキノン、ナ
フトキノン、ジイソプロピルフェナンスレンキノン、ベ
ンゾイソブチルエーテル、ベンゾイン、フロインブチル
エーテル、ミヒラーケトン、ミヒラーチオケトン、テト
ラフェニルロフィンダイマー、フルオレノン、トリニト
ロフルオレノン、β−ベンゾイルアミノナフタレンなど
が含まれる。
フトキノン、ジイソプロピルフェナンスレンキノン、ベ
ンゾイソブチルエーテル、ベンゾイン、フロインブチル
エーテル、ミヒラーケトン、ミヒラーチオケトン、テト
ラフェニルロフィンダイマー、フルオレノン、トリニト
ロフルオレノン、β−ベンゾイルアミノナフタレンなど
が含まれる。
これらはビニル化合物に対し0.1%ないし30%程度
添加される。
添加される。
更に光重合による硬化を効率的に行なうために特願昭6
0−151864号明細書、特公昭46−32714号
公報、特公昭49−34041号公報に記載された重合
体をマイクロカプセル中に含有させることができる。
0−151864号明細書、特公昭46−32714号
公報、特公昭49−34041号公報に記載された重合
体をマイクロカプセル中に含有させることができる。
以上の重合性モノマー1光重合開始剤、感光性樹脂など
をカプセル化するに際しては溶剤を併用することができ
る。溶剤としては天然又は合成油を単独または併用して
用いることができる。溶媒の例としては、綿実油、灯油
、脂肪族ケトン、脂肪族エステル、パラフィン、ナフテ
ン油、アルキル化ビフェニル、アルキル化ターフェニル
、塩素化パラフィン、アルキル化ナフタレン、■−フェ
ニルー1−1シリルエタン、1−フェニル−1−p−エ
チルフェニルエタン、1.1’ −’;トリルエタン等
のジアリールエタンなどを挙げることができる。
をカプセル化するに際しては溶剤を併用することができ
る。溶剤としては天然又は合成油を単独または併用して
用いることができる。溶媒の例としては、綿実油、灯油
、脂肪族ケトン、脂肪族エステル、パラフィン、ナフテ
ン油、アルキル化ビフェニル、アルキル化ターフェニル
、塩素化パラフィン、アルキル化ナフタレン、■−フェ
ニルー1−1シリルエタン、1−フェニル−1−p−エ
チルフェニルエタン、1.1’ −’;トリルエタン等
のジアリールエタンなどを挙げることができる。
また、感光性樹脂としては、ポリビニルアルコールのケ
イ皮酸エステル、アジド化合物と環化ゴム、またはスチ
レン−ブタジェン共重合体からなる感光性樹脂、ジアゾ
感光性樹脂、ポリビニルアセトフェノンとベンズアルデ
ヒドから成る感光性樹脂等がある。
イ皮酸エステル、アジド化合物と環化ゴム、またはスチ
レン−ブタジェン共重合体からなる感光性樹脂、ジアゾ
感光性樹脂、ポリビニルアセトフェノンとベンズアルデ
ヒドから成る感光性樹脂等がある。
以上の他に更に熱重合防止剤を加えておくことができる
。例えばハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ
−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブ
チルカテコール、ペンツキノン、4.4′−チオビス(
3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2.2’
−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノ
ール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用で
ある。
。例えばハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ
−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブ
チルカテコール、ペンツキノン、4.4′−チオビス(
3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2.2’
−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノ
ール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用で
ある。
また、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料や焼
出剤としてpH指示薬、特開昭60−120354号公
報に記載の色素をマイクロカプセル中に含有さ、せるこ
とができる。
出剤としてpH指示薬、特開昭60−120354号公
報に記載の色素をマイクロカプセル中に含有さ、せるこ
とができる。
また画像部を着色させるために光硬化型マイクロカプセ
ル発色剤または発色剤と接触して着色物質を生成させる
顕色剤の少なくとも一方を含有させることができる。発
色剤とはエレクトロンを供与して、或いは酸などのプロ
トンを受容して発色する性質を有するものであって、と
くに限定されないが、通常はぼ無色で、ラクトン、ラク
タム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミドなど
の部分骨格を有し、顕色剤と接触してこれらの部分骨格
が開環もしくは開裂する化合物が用いられる。具体的に
は、クリスタルバイオレットラクトン、ベンゾイルロイ
コメチレンブルー、マラカイトグリーンラクトン、ロー
ダミンβラクタム、1゜3.3−)ジメチル−6′−エ
チル−81−ブトキシインドリノベンゾスピロピランな
どがある。
ル発色剤または発色剤と接触して着色物質を生成させる
顕色剤の少なくとも一方を含有させることができる。発
色剤とはエレクトロンを供与して、或いは酸などのプロ
トンを受容して発色する性質を有するものであって、と
くに限定されないが、通常はぼ無色で、ラクトン、ラク
タム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミドなど
の部分骨格を有し、顕色剤と接触してこれらの部分骨格
が開環もしくは開裂する化合物が用いられる。具体的に
は、クリスタルバイオレットラクトン、ベンゾイルロイ
コメチレンブルー、マラカイトグリーンラクトン、ロー
ダミンβラクタム、1゜3.3−)ジメチル−6′−エ
チル−81−ブトキシインドリノベンゾスピロピランな
どがある。
これらの発色剤に対する顕色剤としては、フェノール化
合物、有機酸もしくはその金属塩、オキシ安息香酸エス
テル、粘土類などが用いられる。
合物、有機酸もしくはその金属塩、オキシ安息香酸エス
テル、粘土類などが用いられる。
特に融点が50@〜250℃であり、特に好ましくは6
0″〜200℃の水に難溶性のフェノール、有機酸が望
ましい。
0″〜200℃の水に難溶性のフェノール、有機酸が望
ましい。
フェノール化合物の例を示せば、4.4′ −イソプロ
ピリデン−ジフェノール(ビスフェノールA ) 、p
−tert−ブチルフェノール、2.4−ジニトロフェ
ノール、3.4−ジクロロフェノール、4.4′−メチ
レン−ビス(2,6−ジーtert −ブチルフェノー
ル)、p−フエ“ニルフェノール、4.4−シクロヘキ
シリデンジフェノール、2゜2′−メチレンビス(4−
tert−ブチルフェノール)、2.2’ −メチレ
ンビス(α−フェニル−p−クレゾール)チオジフェノ
ール、4.4’−チオビス(5−tert−ブチル−m
−クレゾール)、スルホニルジフェノール、1.1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−n−ドデカン、4.4
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−ペンタン酸エ
チルエステルのほか、p−tert−ブチルフェノール
−ホルマリンif 合物、p−フェニル−フェノールホ
ルマリン縮合物などがある。
ピリデン−ジフェノール(ビスフェノールA ) 、p
−tert−ブチルフェノール、2.4−ジニトロフェ
ノール、3.4−ジクロロフェノール、4.4′−メチ
レン−ビス(2,6−ジーtert −ブチルフェノー
ル)、p−フエ“ニルフェノール、4.4−シクロヘキ
シリデンジフェノール、2゜2′−メチレンビス(4−
tert−ブチルフェノール)、2.2’ −メチレ
ンビス(α−フェニル−p−クレゾール)チオジフェノ
ール、4.4’−チオビス(5−tert−ブチル−m
−クレゾール)、スルホニルジフェノール、1.1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−n−ドデカン、4.4
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−ペンタン酸エ
チルエステルのほか、p−tert−ブチルフェノール
−ホルマリンif 合物、p−フェニル−フェノールホ
ルマリン縮合物などがある。
有機酸としては、3−tert−ブチルサリチル酸、3
、5−tert−ブチルサリチル酸、5−α−メチル
ベンジルサリチル酸、3.5−ジ−α−メチルベンジル
サリチル酸、3−tert−オクチルサリチル酸、5−
α、γ−ジメチルーα−フェニルーγ−7エニルプロビ
ルサリチル酸等が有用である。
、5−tert−ブチルサリチル酸、5−α−メチル
ベンジルサリチル酸、3.5−ジ−α−メチルベンジル
サリチル酸、3−tert−オクチルサリチル酸、5−
α、γ−ジメチルーα−フェニルーγ−7エニルプロビ
ルサリチル酸等が有用である。
オキシ安息香酸エステルとしては、p−オキシ安息香酸
エチル、p−オキシ安息香酸ブチル、p−オキシ安息香
酸ヘプチル、p−オキシ安息香酸ベンジル等がある。
エチル、p−オキシ安息香酸ブチル、p−オキシ安息香
酸ヘプチル、p−オキシ安息香酸ベンジル等がある。
更に、加熱によるカプセルの内包物の混じり合いを効果
的におこなうために光硬化型マイクロカプセル中に発泡
剤を含有させることができる。
的におこなうために光硬化型マイクロカプセル中に発泡
剤を含有させることができる。
発泡剤としてはニトロソ系化合物、有機スルホン酸のヒ
ドラジン誘導体であるスルホヒドラジド系化合物、ヒド
ラゾ化合物およびアゾ化合物を使用することができる。
ドラジン誘導体であるスルホヒドラジド系化合物、ヒド
ラゾ化合物およびアゾ化合物を使用することができる。
有機発泡剤の具体例としては、ニトロソ系化合物として
ジニトロソペンタメチレンテトラミン、N、N’−ジメ
チル−N、N’ −ジニトロソテレフタラミド、トリニ
トロントリメチレントリアミン等があげられる。
ジニトロソペンタメチレンテトラミン、N、N’−ジメ
チル−N、N’ −ジニトロソテレフタラミド、トリニ
トロントリメチレントリアミン等があげられる。
またスルホヒドラジド系化合物としてはp−)ルエンス
ルホヒドラジド、ベンゼンスルホヒドラシト、p、p’
−オキシビス(ベンゼンスルホヒドラジド)、ベンゼン
−1,3−ジスルホヒドラジド、3.3’ −ジスル
ホヒドラジドフェニルスルホン、トルエン−2,4−ジ
スルホヒドラジド、p、p’−チオビス(ベンゼンスル
ホヒドラジド〉等があげられる。ヒドラゾ化合物として
はヒドラゾジ力ルボアミド、N、N’ −ジベンゾイ
ルヒドラジン、β−アセチルフェニルヒドラジン、バイ
ユリア、1.1−ジフェニルヒドラジン等があげられる
。
ルホヒドラジド、ベンゼンスルホヒドラシト、p、p’
−オキシビス(ベンゼンスルホヒドラジド)、ベンゼン
−1,3−ジスルホヒドラジド、3.3’ −ジスル
ホヒドラジドフェニルスルホン、トルエン−2,4−ジ
スルホヒドラジド、p、p’−チオビス(ベンゼンスル
ホヒドラジド〉等があげられる。ヒドラゾ化合物として
はヒドラゾジ力ルボアミド、N、N’ −ジベンゾイ
ルヒドラジン、β−アセチルフェニルヒドラジン、バイ
ユリア、1.1−ジフェニルヒドラジン等があげられる
。
アゾ化合物としてはアゾビスイソブチロニトリル、アゾ
ジカルボンアミド(アゾビスホルムアミド)、ジアゾア
ミノベンゼン、アゾカルボン酸ジエチルエステル(ジエ
チルアゾジカルボキシレート)等があげられる。
ジカルボンアミド(アゾビスホルムアミド)、ジアゾア
ミノベンゼン、アゾカルボン酸ジエチルエステル(ジエ
チルアゾジカルボキシレート)等があげられる。
これらの有機発泡剤はすべて加熱によって分解し、窒素
ガスを発生する。また化合物によっては窒素ガス以外に
若干の一酸化炭素、二酸化炭素および水蒸気を発生する
ものもあるが、発生ガスの少なくとも60%は窒素ガス
である。また発生ガス量はおおむね100〜300mβ
/gである。
ガスを発生する。また化合物によっては窒素ガス以外に
若干の一酸化炭素、二酸化炭素および水蒸気を発生する
ものもあるが、発生ガスの少なくとも60%は窒素ガス
である。また発生ガス量はおおむね100〜300mβ
/gである。
これら有機発泡剤の熱分解温度は80℃程度から300
℃程度までにわたっている。
℃程度までにわたっている。
有機発泡剤の分解温度を低下させるために、本発明にお
いて熱分解助剤をも使用することができる。
いて熱分解助剤をも使用することができる。
熱分解助剤としては、尿素および尿素誘導体、亜鉛華、
炭酸鉛、ステアリン酸鉛、グリコール酸等が有効である
。これらのなかで、尿素および尿素誘導体、例えば尿素
エタノールアミン、グアニール尿素、アミノグアニジン
炭酸塩等が特に好ましい。熱分解助剤の添加量は有機発
泡剤に対して約30〜60重量%とすることが好ましい
。
炭酸鉛、ステアリン酸鉛、グリコール酸等が有効である
。これらのなかで、尿素および尿素誘導体、例えば尿素
エタノールアミン、グアニール尿素、アミノグアニジン
炭酸塩等が特に好ましい。熱分解助剤の添加量は有機発
泡剤に対して約30〜60重量%とすることが好ましい
。
例えば、アゾジカルボンアミドの化学品純品の分解温度
は230℃といわれているが、種々の熱分解助剤を加え
ることにより、約120℃に下げることができる。
は230℃といわれているが、種々の熱分解助剤を加え
ることにより、約120℃に下げることができる。
本発明に用いるマイクロカプセルは当業界公知の方法で
つくることができる。例えば米国特許第2、800.4
57号、同第2.800.458号にみられるような親
水性壁形成材料のコアセルベーションを利用した方法、
米国特許第3.287.154号、英国特許第990゜
443号、特公昭38−19574号、同42−446
号、同42−711号にみられるような界面重合法、米
国特許第3.418.250号、同第肌660.304
号にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3
.796.669号にみられるイソシアネートポリオー
ル壁材料を用いる方法、米国特許第3.914.511
号にみられるインシアネート壁材料を用いる方法、米国
特許第4.001.140号、同第4.087.376
号、同第4、089.802号にみられる尿素−ホルム
アルデヒド系あるいは尿素ホルムアルデヒド−レゾルシ
ノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許’44.0
25゜455号にみられるメラミン−ホルムアルデヒド
樹脂、ヒドロキシプロピルセルロース等の壁形成材料を
用いる方法、特公昭36−9163号、特開昭51−9
079号にみられるモノマーの重合によるin 5it
u法、英国特許第952.807号、同第965゜07
4号にみられる電解分散冷却法、米国特許第3.111
、407号、英国特許第930.422号にみられるス
プレードライング法などがある。これらに限定されるも
のではないが、芯物質を乳化した後マイクロカプセル壁
として高分子膜を形成することが好ましい。
つくることができる。例えば米国特許第2、800.4
57号、同第2.800.458号にみられるような親
水性壁形成材料のコアセルベーションを利用した方法、
米国特許第3.287.154号、英国特許第990゜
443号、特公昭38−19574号、同42−446
号、同42−711号にみられるような界面重合法、米
国特許第3.418.250号、同第肌660.304
号にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3
.796.669号にみられるイソシアネートポリオー
ル壁材料を用いる方法、米国特許第3.914.511
号にみられるインシアネート壁材料を用いる方法、米国
特許第4.001.140号、同第4.087.376
号、同第4、089.802号にみられる尿素−ホルム
アルデヒド系あるいは尿素ホルムアルデヒド−レゾルシ
ノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許’44.0
25゜455号にみられるメラミン−ホルムアルデヒド
樹脂、ヒドロキシプロピルセルロース等の壁形成材料を
用いる方法、特公昭36−9163号、特開昭51−9
079号にみられるモノマーの重合によるin 5it
u法、英国特許第952.807号、同第965゜07
4号にみられる電解分散冷却法、米国特許第3.111
、407号、英国特許第930.422号にみられるス
プレードライング法などがある。これらに限定されるも
のではないが、芯物質を乳化した後マイクロカプセル壁
として高分子膜を形成することが好ましい。
マイクロカプセル壁となる高分子物質の具体例としては
、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、
メラミン樹脂、ポリスチレン、スチレンメタクリレート
共重合体、スチレン−アクリレート共重合体、ゼラチン
、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール等が挙
げられる。
、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、
メラミン樹脂、ポリスチレン、スチレンメタクリレート
共重合体、スチレン−アクリレート共重合体、ゼラチン
、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール等が挙
げられる。
高分子物質は2種以上併用することもできる。
好ましい高分子物質はポリウレタン、ポリウレア、ポリ
アミド、ポリエステル、ポリカーボネートであり、更に
好ましくはポリウレタン及びポリウレアである。
アミド、ポリエステル、ポリカーボネートであり、更に
好ましくはポリウレタン及びポリウレアである。
マイクロカプセルの粒径は30μ以下、0.01μ以上
に調整されることが好ましく、特に取ら扱い性の点から
10μ以下が好ましく、パターンの解像力の点から5μ
以下が特に好ましい。
に調整されることが好ましく、特に取ら扱い性の点から
10μ以下が好ましく、パターンの解像力の点から5μ
以下が特に好ましい。
カプセルを作るときに、水溶性高分子、界面活性剤を用
いることができるが水溶性高分子とは水溶性のアニオン
性高分子、ノニオン性高分子、両性高分子を含んでおリ
アニオン性高分子としては、天然のものでも合成のもの
でも用いることができ、例えば−COO−1SO3−基
等を有するものが挙げられる。具体的なアニオン性の天
然高分子としてはアラビアゴム、アルギン酸などがあり
、半合成品としてはカルボキシメチルセルローズ、フタ
ル化ゼラチン、硫酸化デンプン、硫酸化セルロース、リ
グニンスルホン酸などがある。
いることができるが水溶性高分子とは水溶性のアニオン
性高分子、ノニオン性高分子、両性高分子を含んでおリ
アニオン性高分子としては、天然のものでも合成のもの
でも用いることができ、例えば−COO−1SO3−基
等を有するものが挙げられる。具体的なアニオン性の天
然高分子としてはアラビアゴム、アルギン酸などがあり
、半合成品としてはカルボキシメチルセルローズ、フタ
ル化ゼラチン、硫酸化デンプン、硫酸化セルロース、リ
グニンスルホン酸などがある。
又合成品としては無水マレイン酸系(加水分解したもの
も含む)共重合体、アクリル酸系(メタクリル酸系も含
む)重合体及び共重合体、ビニルベンゼンスルホン酸系
重合体及び共重合体、カルボキシ変性ポリビニルアルコ
ールなどがある。
も含む)共重合体、アクリル酸系(メタクリル酸系も含
む)重合体及び共重合体、ビニルベンゼンスルホン酸系
重合体及び共重合体、カルボキシ変性ポリビニルアルコ
ールなどがある。
両性の化合物としてはゼラチン等がある。
界面活性剤としてはポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類
、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、ソルゴクン脂
肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビクン脂肪酸
王ステル類、グリセリン脂肪酸エステル類などの非イオ
ン界面活性剤、例えば脂肪酸塩類、アルキル硫酸エステ
ル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナ
フタレンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホこはく酸エ
ステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ナフタレンス
ルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキ
ル硫酸エステル塩類などのアニオン界面活性剤、及び例
えばアルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルアミン塩類などのカチオン界
面活性剤、フッ素系界面活性剤が挙げられる。これら分
散安定剤は単独で用いても、2種以上混合して使用して
もよい。
ル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類
、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、ソルゴクン脂
肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビクン脂肪酸
王ステル類、グリセリン脂肪酸エステル類などの非イオ
ン界面活性剤、例えば脂肪酸塩類、アルキル硫酸エステ
ル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナ
フタレンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホこはく酸エ
ステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ナフタレンス
ルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキ
ル硫酸エステル塩類などのアニオン界面活性剤、及び例
えばアルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルアミン塩類などのカチオン界
面活性剤、フッ素系界面活性剤が挙げられる。これら分
散安定剤は単独で用いても、2種以上混合して使用して
もよい。
乳化分散するために使用する乳化装置としては、処理液
に大きな剪断力を与えるものか、又は高強度の超音波エ
ネルギーを与えるものが適している。
に大きな剪断力を与えるものか、又は高強度の超音波エ
ネルギーを与えるものが適している。
特にコロイドミル、ホモジナイザー、毛細管式乳化装置
、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛
を有する乳化装置が良好な結果を与えることができる。
、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛
を有する乳化装置が良好な結果を与えることができる。
マイクロカプセルの塗布及びマイクロカプセルに親水性
を付与するのにバインダーが用いられる゛ がバイン
ダーは、単独であるいは組み合わせて用いることができ
る。このバインダーは主に親水性のものを用いることが
できる。親水性バインダーとしては、透明か半透明の親
水性バインダーが代表的であり、例えばゼラチン、ゼラ
チン誘導体、カルボキシメチルセルロース、メチルセル
ロース等のセルロース誘導体や、デンプン、アラビヤゴ
ム等の多糖類のような天然物質と、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、アクリルアミド重合体、ポ
リアクリル酸、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体等の水
溶性のポリビニル化合物のような合成重合物質を含む。
を付与するのにバインダーが用いられる゛ がバイン
ダーは、単独であるいは組み合わせて用いることができ
る。このバインダーは主に親水性のものを用いることが
できる。親水性バインダーとしては、透明か半透明の親
水性バインダーが代表的であり、例えばゼラチン、ゼラ
チン誘導体、カルボキシメチルセルロース、メチルセル
ロース等のセルロース誘導体や、デンプン、アラビヤゴ
ム等の多糖類のような天然物質と、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、アクリルアミド重合体、ポ
リアクリル酸、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体等の水
溶性のポリビニル化合物のような合成重合物質を含む。
本発明の平版印刷版の非画像部は、使用した親水性のカ
プセル壁および/または親水性バインダーの親水性を利
用することもできるし、親水性支持体の親水性を利用す
ることもできる。親水性支持体上にマイクロカプセル、
親水性バインダーを強く固着させることなく設けて、印
刷機上で光硬化したマイクロカプセル、親水性バインダ
ーを除去して露出する親水性支持体の親水性を利用する
場合特に良好な結果が得られる。
プセル壁および/または親水性バインダーの親水性を利
用することもできるし、親水性支持体の親水性を利用す
ることもできる。親水性支持体上にマイクロカプセル、
親水性バインダーを強く固着させることなく設けて、印
刷機上で光硬化したマイクロカプセル、親水性バインダ
ーを除去して露出する親水性支持体の親水性を利用する
場合特に良好な結果が得られる。
親水性カプセル壁、親水性バインダーの親水性を非画像
部として用いる場合には、メラミンホルムアルデヒド樹
脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、グリオギザール、その
他の架橋剤を感光液添加できる。
部として用いる場合には、メラミンホルムアルデヒド樹
脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、グリオギザール、その
他の架橋剤を感光液添加できる。
支持体としては、紙、プラスチックス(例えば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネ
ートされた紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含む
)、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタ
ールなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如き
金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラス
チックフィルムなどである。これら支持体は、必要に応
じて表面凹凸化処理、表面親水化処理などの表面処理が
ほどこされる。
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネ
ートされた紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含む
)、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタ
ールなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如き
金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラス
チックフィルムなどである。これら支持体は、必要に応
じて表面凹凸化処理、表面親水化処理などの表面処理が
ほどこされる。
たとえば、アルミ支持体は次のように表面処理がほどこ
される。アルミ板をたとえば塩酸または硝酸電解液中で
電気を流し、砂目立てする電気化学的砂目立て法、及び
アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブ
ラシダレイン法、研摩法と研摩剤でアルミニウム表面を
砂目立てするポールグレイン法、ナイロンブラシと研摩
剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械
的砂目立て法を単独あるいは組合せて用いて砂目立てす
る。
される。アルミ板をたとえば塩酸または硝酸電解液中で
電気を流し、砂目立てする電気化学的砂目立て法、及び
アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブ
ラシダレイン法、研摩法と研摩剤でアルミニウム表面を
砂目立てするポールグレイン法、ナイロンブラシと研摩
剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械
的砂目立て法を単独あるいは組合せて用いて砂目立てす
る。
このように、砂目立て処理したアルミニウムは酸又はア
ルカリにより化学的にエツチングされる。
ルカリにより化学的にエツチングされる。
酸をエツチング剤として用いた場合は、微細構造を破壊
するのに、非常に時間がかかり、工業的に適用するに際
しては不利であるが、アルカリをエツチング剤として用
いることにより改善できる。
するのに、非常に時間がかかり、工業的に適用するに際
しては不利であるが、アルカリをエツチング剤として用
いることにより改善できる。
これらの目的に好適に用いられるアルカリ剤は苛性ソー
ダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メク珪酸ソーダ、
燐酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用い
、濃度と温度の好ましい範囲は、それぞれ1〜50重量
%、20〜100℃であり、^lの溶解量が5〜20g
/m’となるような条件が好ましい。
ダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メク珪酸ソーダ、
燐酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用い
、濃度と温度の好ましい範囲は、それぞれ1〜50重量
%、20〜100℃であり、^lの溶解量が5〜20g
/m’となるような条件が好ましい。
アルカリエツチングのあと表面に残留する汚れ(スマッ
ト)を除去するために酸洗いが行なわれる。用いられる
酸は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ぶつ酸、はうふ
つ化水素酸等が用いられる。
ト)を除去するために酸洗いが行なわれる。用いられる
酸は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ぶつ酸、はうふ
つ化水素酸等が用いられる。
また、電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理には
、好ましくは、特開昭53−12739号公報に記載さ
れているような50〜90℃の温度の15〜65重量%
の硫酸と接触させる方法及び特公昭48−28123号
公報に記されているアルカリエツチングする方法である
。
、好ましくは、特開昭53−12739号公報に記載さ
れているような50〜90℃の温度の15〜65重量%
の硫酸と接触させる方法及び特公昭48−28123号
公報に記されているアルカリエツチングする方法である
。
以上のようにして処理されたアルミニウム板を使用する
ことができるが、更に、陽極酸化皮膜処理、化成処理な
どの処理を施すこともできる。
ことができるが、更に、陽極酸化皮膜処理、化成処理な
どの処理を施すこともできる。
陽極酸化処理は、この分野で従来より行なわれている方
法で行なうことができる。具体的には、硫酸、りん酸、
クロム酸、蓚酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸
等あるいはこれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は
非水溶液中でアルミニウムに直流または交流の電流を流
すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成させ
ることができる。
法で行なうことができる。具体的には、硫酸、りん酸、
クロム酸、蓚酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸
等あるいはこれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は
非水溶液中でアルミニウムに直流または交流の電流を流
すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成させ
ることができる。
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変
化するので一概には決定され得ないが、一般的には電解
液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度
0.5〜60アンペア/dm”、電圧1−100V、電
解時間10〜100秒の範囲が適当である。
化するので一概には決定され得ないが、一般的には電解
液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度
0.5〜60アンペア/dm”、電圧1−100V、電
解時間10〜100秒の範囲が適当である。
これらの陽極酸化皮膜処理の内でも、特に英国特許第1
.412.768号明細書に記載されている発明で使用
されている、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及
び米国特許第3.511.661号明細書に記載されて
いる燐酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
.412.768号明細書に記載されている発明で使用
されている、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及
び米国特許第3.511.661号明細書に記載されて
いる燐酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
陽極酸化されたアルミニウム板は、更に米国特許第2.
’714.066号及び同第3.131.461号の
各明細書に記されている様にアルカリ金属シリケート、
例えば珪酸ナトリウムの水溶液で浸漬などの方法により
処理したり、米国特許第3.860.426号明細書に
記載されているように水溶性金属塩(例えば酢酸亜鉛な
ど)を含む親水性セルロース(例えば、カルボキシメチ
ルセルロースなど)の下塗り層を設けることもできる。
’714.066号及び同第3.131.461号の
各明細書に記されている様にアルカリ金属シリケート、
例えば珪酸ナトリウムの水溶液で浸漬などの方法により
処理したり、米国特許第3.860.426号明細書に
記載されているように水溶性金属塩(例えば酢酸亜鉛な
ど)を含む親水性セルロース(例えば、カルボキシメチ
ルセルロースなど)の下塗り層を設けることもできる。
支持体に塗布するに際しては、パターン焼付は時の真空
密着性をよくするように、タルク粉末、ガラス粉末、粘
土、デンプン、小麦粉、とうもろこし粉、テフロン粉末
、ポリエチレン粉末などの充てん剤を加えてもよい。
密着性をよくするように、タルク粉末、ガラス粉末、粘
土、デンプン、小麦粉、とうもろこし粉、テフロン粉末
、ポリエチレン粉末などの充てん剤を加えてもよい。
又、従来より記録系に用いられる種々の添加剤、バイン
ダー、酸化防止剤、分散剤、消泡剤、顔料、染料、界面
活性剤や塗布方法、使用方法等についてはよ(知られて
おり、米国特許第2. ’711.375号、同第3.
625.736号、英国特許第1.232.347号、
特開昭50−44012号、同50−50112号、同
50−127718号、同50−30515号、米国特
許第3.836.383号、同第3.846.331号
などに開示があり、それらの手法を利用できる。
ダー、酸化防止剤、分散剤、消泡剤、顔料、染料、界面
活性剤や塗布方法、使用方法等についてはよ(知られて
おり、米国特許第2. ’711.375号、同第3.
625.736号、英国特許第1.232.347号、
特開昭50−44012号、同50−50112号、同
50−127718号、同50−30515号、米国特
許第3.836.383号、同第3.846.331号
などに開示があり、それらの手法を利用できる。
また平版印刷原版の表面物性コントロールのために、保
護層やマット層を設けてもよい。
護層やマット層を設けてもよい。
上記のようにしてつくられた平版印刷原版は活性光線に
露光されたのち加熱される。活性光線の光源としては例
えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ
、ケミカルランプ、カーボンアーク灯などがある。また
高密度エネルギービーム(レーザービーム又は電子線)
による走査露光も本発明に使用することができる。この
ようなレーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザ
−、アルゴンレーデ−、クリプトンイオンレーザ−、ヘ
リウム・カドミウムレーザーなどがある。
露光されたのち加熱される。活性光線の光源としては例
えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ
、ケミカルランプ、カーボンアーク灯などがある。また
高密度エネルギービーム(レーザービーム又は電子線)
による走査露光も本発明に使用することができる。この
ようなレーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザ
−、アルゴンレーデ−、クリプトンイオンレーザ−、ヘ
リウム・カドミウムレーザーなどがある。
加熱に用いる加熱装置としてはたとえば、ヒーターを内
蔵した熱ローラーで感光面と接触しながら加熱する方法
、熱板に接触させる方法、リボンヒーター、シーズヒー
ター、赤外ヒーター等の加熱源を搬送中のプレート表面
近傍に配する方法、加熱空気を吹き付ける方法、加熱液
体中に浸漬または接触させる方法等、直接プレートを加
熱する方法と電子線、高周波、その他の電磁波の照射に
より自己発熱させる方式等が利用できる。
蔵した熱ローラーで感光面と接触しながら加熱する方法
、熱板に接触させる方法、リボンヒーター、シーズヒー
ター、赤外ヒーター等の加熱源を搬送中のプレート表面
近傍に配する方法、加熱空気を吹き付ける方法、加熱液
体中に浸漬または接触させる方法等、直接プレートを加
熱する方法と電子線、高周波、その他の電磁波の照射に
より自己発熱させる方式等が利用できる。
加熱の温度、時間は、マイクロカプセルの壁材質、壁の
厚さ、光重合性モノマー、感光性樹脂などのマイクロカ
プセル中の内包物の種類などにより決定されるものであ
り、特定の数値に限定されるものではないが、70℃〜
300℃の範囲が有効であり、好ましい範囲は80℃〜
250℃、より好ましくは90℃〜220℃の範囲であ
る。
厚さ、光重合性モノマー、感光性樹脂などのマイクロカ
プセル中の内包物の種類などにより決定されるものであ
り、特定の数値に限定されるものではないが、70℃〜
300℃の範囲が有効であり、好ましい範囲は80℃〜
250℃、より好ましくは90℃〜220℃の範囲であ
る。
70℃以下では均一な親油性の皮膜が得がたく、300
℃以上では汚れが発生する危険がある。加熱時間は、1
720〜20分間の範囲が有効であるが、好ましい範囲
は1715〜15分間、より好ましくは1/10〜IO
分間である。
℃以上では汚れが発生する危険がある。加熱時間は、1
720〜20分間の範囲が有効であるが、好ましい範囲
は1715〜15分間、より好ましくは1/10〜IO
分間である。
加圧を併用する場合は、ヒーターを内蔵した2個の熱ロ
ール間を通すことにより簡単におこなうこともできるし
、加熱直後あるいは加熱ゾーンの中で2個のロール間を
通すことによってもおこなうことができる。加えられる
圧力は特定の数値に限定されるものではないが、実用的
には約500kg/cd以下が好ましい。
ール間を通すことにより簡単におこなうこともできるし
、加熱直後あるいは加熱ゾーンの中で2個のロール間を
通すことによってもおこなうことができる。加えられる
圧力は特定の数値に限定されるものではないが、実用的
には約500kg/cd以下が好ましい。
本発明によって得た平版印刷版は更に印刷適性を向上さ
せる目的で、版面上の非画線部の親水化処理あるいは画
線部の親油化処理を行なうこともある。親水化処理に使
用される処理液としては一般にアラビアゴムのような親
水性樹脂、リン酸塩、アルミニウム明ばん化合物および
酸の少なくとも1種を主体としたもの、およびフェロシ
アン化合物またはフェリシアン化合物を主体としたもの
などがある。親油化処理に使用される処理液として□
は、親木基を有するポリマーまたはその金属塩等を
主体としたものなどがある。
せる目的で、版面上の非画線部の親水化処理あるいは画
線部の親油化処理を行なうこともある。親水化処理に使
用される処理液としては一般にアラビアゴムのような親
水性樹脂、リン酸塩、アルミニウム明ばん化合物および
酸の少なくとも1種を主体としたもの、およびフェロシ
アン化合物またはフェリシアン化合物を主体としたもの
などがある。親油化処理に使用される処理液として□
は、親木基を有するポリマーまたはその金属塩等を
主体としたものなどがある。
以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこれに限定さ
れるものではない。
れるものではない。
実施例1
(1)支持体を以下の如く作製した。
特開昭56−28893号公報に開示された方法により
基板を作製した。即ち、厚さ0.24順のアルミニウム
板をナイロンブラシと400メツシユのパミストンの水
懸濁液を用い、その表面を砂目室てした後、よく水で清
浄した。次いで10%水酸化ナトリウムに70℃で60
秒間浸漬してエツチングした後、流水で水洗後20%)
INO,で中和洗浄し、水洗した。これを陽極特電圧が
12. T Vで陽極時電気量に対する陰極特電気量の
比が0.8の条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1
%硝酸水溶液中で160クロ一ン/dm” の陽極時電
気量で電解粗面化処理を行なった。このときの表面粗さ
を測定したところ0.6μ(Ra表示)であった。ひき
つづいて30%の硫酸中に浸漬し55℃で2分間デスマ
ットした後、20%硫酸中、電流密度2 A 76m”
において厚さが2.7 g 76m” になるように陽
極酸化処理した。その後70℃の珪酸ソーダ2.5%水
溶液に1分間浸漬後水洗乾燥した。
基板を作製した。即ち、厚さ0.24順のアルミニウム
板をナイロンブラシと400メツシユのパミストンの水
懸濁液を用い、その表面を砂目室てした後、よく水で清
浄した。次いで10%水酸化ナトリウムに70℃で60
秒間浸漬してエツチングした後、流水で水洗後20%)
INO,で中和洗浄し、水洗した。これを陽極特電圧が
12. T Vで陽極時電気量に対する陰極特電気量の
比が0.8の条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1
%硝酸水溶液中で160クロ一ン/dm” の陽極時電
気量で電解粗面化処理を行なった。このときの表面粗さ
を測定したところ0.6μ(Ra表示)であった。ひき
つづいて30%の硫酸中に浸漬し55℃で2分間デスマ
ットした後、20%硫酸中、電流密度2 A 76m”
において厚さが2.7 g 76m” になるように陽
極酸化処理した。その後70℃の珪酸ソーダ2.5%水
溶液に1分間浸漬後水洗乾燥した。
(2)次に感光液を以下の如く作製した。
2.2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフエノン5g
をトリメチロールプロパントリアクリレート40gに溶
解し、更にタケネート DllON(武田薬品@製)l
Ogを溶解混合させオイル相とした。
をトリメチロールプロパントリアクリレート40gに溶
解し、更にタケネート DllON(武田薬品@製)l
Ogを溶解混合させオイル相とした。
このオイル相を2%ポリビニルアルコールPVA−20
5(クラレ■製〉水溶液50gに乳化分散した。この乳
化液を室温で攪拌しつつジエチレントリアミン1.67
%水溶液20gを加え、引き続き攪拌した。30分後々
0℃迄昇温し、更に1時間攪拌後冷却した。得られたマ
イクロカプセルの平均粒子サイズは2.8μであった。
5(クラレ■製〉水溶液50gに乳化分散した。この乳
化液を室温で攪拌しつつジエチレントリアミン1.67
%水溶液20gを加え、引き続き攪拌した。30分後々
0℃迄昇温し、更に1時間攪拌後冷却した。得られたマ
イクロカプセルの平均粒子サイズは2.8μであった。
(3) こうして得たマイクロカプセル液50gに水
100g、白色デキストリン(日澱化学■製)Igを加
え感光液を得た。コーティングロッド#14を用いて乾
燥後の塗布重量が4.6 g / m″になるように上
記のアルミ支持体に塗布し、乾燥させて平版印刷原版を
得た。
100g、白色デキストリン(日澱化学■製)Igを加
え感光液を得た。コーティングロッド#14を用いて乾
燥後の塗布重量が4.6 g / m″になるように上
記のアルミ支持体に塗布し、乾燥させて平版印刷原版を
得た。
(4) この印刷原版にポジフィルムを重ね、真空密着
させ、ヌアーク社製E T 26 V UDNS UL
TRA−PL[IS FLIP−TOP PLATE
!JAKERにより露光したのち、160℃の空気恒温
槽中で2分間加熱し、平版印刷版を得た。
させ、ヌアーク社製E T 26 V UDNS UL
TRA−PL[IS FLIP−TOP PLATE
!JAKERにより露光したのち、160℃の空気恒温
槽中で2分間加熱し、平版印刷版を得た。
(5) これをハイデルベルグG、 7.0型印別機
に取付は印刷したところ汚れのない解像力のすぐれた印
刷物が得られた。
に取付は印刷したところ汚れのない解像力のすぐれた印
刷物が得られた。
実施例2
(1)感光液を以下の如く作製した。
トリメチロールプロパントリアクリレート30g、2.
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン3g1バ
ーノツクDN950(大日本インキ■製>15g、エチ
レンジクロライド20gを混合させオイル相とした。
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン3g1バ
ーノツクDN950(大日本インキ■製>15g、エチ
レンジクロライド20gを混合させオイル相とした。
このオイル相を2%のメチルセルロース水溶液に乳化分
散した。この乳化液を室温で攪拌しつつジエチレントリ
アミン1.67%水溶液l。
散した。この乳化液を室温で攪拌しつつジエチレントリ
アミン1.67%水溶液l。
gを加え、引き続き攪拌した。30分後々0℃迄昇温し
、更に30分間攪拌後冷却した。得られたマイクロカプ
セルの平均粒子サイズは2.4μであった。
、更に30分間攪拌後冷却した。得られたマイクロカプ
セルの平均粒子サイズは2.4μであった。
(2) こうして得たマイクロカプセル液を乾燥後の
塗布重量が4.2 g / m’になるように実施例1
に記載のアルミ支持体に塗布し乾燥させて平版印刷原版
を得た。
塗布重量が4.2 g / m’になるように実施例1
に記載のアルミ支持体に塗布し乾燥させて平版印刷原版
を得た。
(3) この印刷原版にポジフィルムを重ね、真空密
着させ、ヌアーク社製ET26VυDNS ULTRA
−PLUS FLIP−TOP PLATE MAにE
Rニより露光したのち、150℃の空気恒温槽中で1分
間加熱した後マイクロカプセル面を全面露光し、平版印
刷版を得た。
着させ、ヌアーク社製ET26VυDNS ULTRA
−PLUS FLIP−TOP PLATE MAにE
Rニより露光したのち、150℃の空気恒温槽中で1分
間加熱した後マイクロカプセル面を全面露光し、平版印
刷版を得た。
(4) これをハイデルベルグG、T、O型印刷機に
取付は印刷したところ汚れのない解像力のすぐれた印刷
物が得られた。
取付は印刷したところ汚れのない解像力のすぐれた印刷
物が得られた。
昭和 年 月 日
3、補正をする者
事件との関係 出願人
名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
(1) 明細書第28頁第9行の“70℃”を「60
℃」と訂正する。
理人 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
(1) 明細書第28頁第9行の“70℃”を「60
℃」と訂正する。
(2)同書第28頁第10行の“80℃”を「70℃」
と訂正する。
と訂正する。
(3)同書第28頁第11行の“90℃”を「80℃」
と訂正する。
と訂正する。
(4)同書第28頁第12行の“70℃”を「60℃」
と訂正する。
と訂正する。
Claims (1)
- 支持体上に光重合性モノマー及び/または感光性樹脂を
内包するマイクロカプセルを含有する層を塗布し、該塗
層面にパターン露光を施したのち加熱することよりなる
平版印刷版の製造法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61093531A JPH0668622B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | 平版印刷版の製造法 |
DE19873780062 DE3780062T2 (de) | 1986-04-23 | 1987-04-22 | Verfahren zur herstellung von flachdruckplatten. |
EP19870105885 EP0242863B1 (en) | 1986-04-23 | 1987-04-22 | Process for manufacturing lithographic printing plates |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61093531A JPH0668622B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | 平版印刷版の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62250453A true JPS62250453A (ja) | 1987-10-31 |
JPH0668622B2 JPH0668622B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=14084878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61093531A Expired - Lifetime JPH0668622B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | 平版印刷版の製造法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0242863B1 (ja) |
JP (1) | JPH0668622B2 (ja) |
DE (1) | DE3780062T2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6079331A (en) * | 1997-10-24 | 2000-06-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Plate making device and printer and printing system using the plate making device |
EP1459887A3 (en) * | 2003-03-20 | 2005-03-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming method and image exposure apparatus |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58224752A (ja) * | 1982-06-24 | 1983-12-27 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | オフセツト印刷版の製造法 |
JPS592845A (ja) * | 1982-06-29 | 1984-01-09 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | オフセツト印刷版の製造法 |
JPS5991438A (ja) * | 1982-11-17 | 1984-05-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光感熱記録材料 |
Family Cites Families (9)
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CH395152A (fr) * | 1959-07-16 | 1965-07-15 | Ncr Co | Procédé d'impression |
BE626399A (ja) * | 1961-12-23 | |||
US3342622A (en) * | 1962-07-20 | 1967-09-19 | Gestetner Ltd | Typewriter ribbon impregnated with ink comprising heat-polymerizable ester monomer |
DE2049019A1 (de) * | 1970-09-25 | 1972-03-30 | Ritzerfeld Gerhard | Verfahren zur Bilderzeugung auf einer lithographischen Druckformfohe |
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