JPH0668622B2 - 平版印刷版の製造法 - Google Patents
平版印刷版の製造法Info
- Publication number
- JPH0668622B2 JPH0668622B2 JP61093531A JP9353186A JPH0668622B2 JP H0668622 B2 JPH0668622 B2 JP H0668622B2 JP 61093531 A JP61093531 A JP 61093531A JP 9353186 A JP9353186 A JP 9353186A JP H0668622 B2 JPH0668622 B2 JP H0668622B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- lithographic printing
- microcapsules
- printing plate
- hydrophilic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1041—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/002—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、平版印刷版の製造方法に関し、更に詳細に
は、乾式処理により平版印刷版を製造する方法に関す
る。
は、乾式処理により平版印刷版を製造する方法に関す
る。
現在、一般的な平版印刷版の製法は、砂目立てをした親
水性アルミ支持体に、例えばポジ型印刷版の場合には、
o−キノンジアジド化合物とフェノール樹脂を塗布し、
パターン露光を施した後アルカリ現像液により露光を受
けた部分の感光層を溶出し、水洗し、更に感光層を取り
除いた部分のアルミ支持体表面が空気に曝され、その影
響により親水性が低下するのを防止するためにアラビア
ゴム等の塗布をおこなう工程よりなっている。
水性アルミ支持体に、例えばポジ型印刷版の場合には、
o−キノンジアジド化合物とフェノール樹脂を塗布し、
パターン露光を施した後アルカリ現像液により露光を受
けた部分の感光層を溶出し、水洗し、更に感光層を取り
除いた部分のアルミ支持体表面が空気に曝され、その影
響により親水性が低下するのを防止するためにアラビア
ゴム等の塗布をおこなう工程よりなっている。
上記の方式においては、パターン露光後更に多くの時間
が必要とされ、自動現像機のほかに、ガムコーター、現
像液、ガム液、流し台等の作業場も必要となる。更に現
像の際、残存するパターン面積を一定に保つには現像液
の温度、現像時間、現像液の補充、交換を適正におこな
う等の煩雑な管理が必要となる。また現像液の排出によ
る公害の危険、現像液の取扱い時の傷害の危険等があ
る。また自動現像機、ガムコーターの洗滌、メンテナン
スに多くの時間が必要である。
が必要とされ、自動現像機のほかに、ガムコーター、現
像液、ガム液、流し台等の作業場も必要となる。更に現
像の際、残存するパターン面積を一定に保つには現像液
の温度、現像時間、現像液の補充、交換を適正におこな
う等の煩雑な管理が必要となる。また現像液の排出によ
る公害の危険、現像液の取扱い時の傷害の危険等があ
る。また自動現像機、ガムコーターの洗滌、メンテナン
スに多くの時間が必要である。
このように従来の平版印刷版の製造工程はパターン露光
後の工程に多くの問題を有している。
後の工程に多くの問題を有している。
このようなわけで、パターン露光後簡易な乾式処理でパ
ターン形成のできる平版印刷版の製造方法が考えられて
いる。
ターン形成のできる平版印刷版の製造方法が考えられて
いる。
米国特許第3,374,094号明細書には、1)N−ビニルアミ
ン、2)ハロゲン化炭化水素、3)P、Bi、Sb、Asのトリア
リール化合物を親水性バインダー中に分散した層を支持
体上に設けた平版印刷原版にパターン露光し、露光部を
感脂性にし、ついで加熱し重合開始剤2)を気化させ定着
する方法が開示されている。また米国特許第3,505,371
号明細書には1)ビニル酢酸、2)ポリエン、ポリチオー
ル、重合促進剤を支持体上に設けた平版印刷原版にパタ
ーン露光後加熱して、樹脂を融解し、露光部を感脂性、
非露光部を親水性とする方法が開示されている。これら
の方法はいずれも画像部の感脂性、非画像部の親水性が
不充分であり、汚れのまったくないインク濃度の高い印
刷物を得ることは困難である。特開昭58−224753号公報
には、耐水性支持体上に光硬化型樹脂を主として内包す
る光硬化型マイクロカプセルを含有する層を塗布した平
版印刷原版にパターン露光を施したのち加圧し、再び全
面露光し、露光部を感脂性、非露光部を親水性とする方
法が開示されている。この方法は加圧によりマイクロカ
プセルを破壊するため大きな加圧装置を必要とし、また
実用可能の加圧装置でマイクロカプセルを破壊するには
マイクロカプセルの直径が数ミクロン以上という大きさ
であることが必要であり、マイクロカプセルの直径が大
きくなるとパターンの解像力が低下する。また取扱いの
際にマイクロカプセルが破壊し汚れの原因となる危険が
ある。
ン、2)ハロゲン化炭化水素、3)P、Bi、Sb、Asのトリア
リール化合物を親水性バインダー中に分散した層を支持
体上に設けた平版印刷原版にパターン露光し、露光部を
感脂性にし、ついで加熱し重合開始剤2)を気化させ定着
する方法が開示されている。また米国特許第3,505,371
号明細書には1)ビニル酢酸、2)ポリエン、ポリチオー
ル、重合促進剤を支持体上に設けた平版印刷原版にパタ
ーン露光後加熱して、樹脂を融解し、露光部を感脂性、
非露光部を親水性とする方法が開示されている。これら
の方法はいずれも画像部の感脂性、非画像部の親水性が
不充分であり、汚れのまったくないインク濃度の高い印
刷物を得ることは困難である。特開昭58−224753号公報
には、耐水性支持体上に光硬化型樹脂を主として内包す
る光硬化型マイクロカプセルを含有する層を塗布した平
版印刷原版にパターン露光を施したのち加圧し、再び全
面露光し、露光部を感脂性、非露光部を親水性とする方
法が開示されている。この方法は加圧によりマイクロカ
プセルを破壊するため大きな加圧装置を必要とし、また
実用可能の加圧装置でマイクロカプセルを破壊するには
マイクロカプセルの直径が数ミクロン以上という大きさ
であることが必要であり、マイクロカプセルの直径が大
きくなるとパターンの解像力が低下する。また取扱いの
際にマイクロカプセルが破壊し汚れの原因となる危険が
ある。
従って、本発明の目的は、簡易な乾式処理によって高解
像力、高感脂性の画像部と汚れのない非画像部の得られ
る平版印刷版の製法を提供することである。
像力、高感脂性の画像部と汚れのない非画像部の得られ
る平版印刷版の製法を提供することである。
本発明の目的は支持体上に光重合性モノマーおよび/ま
たは光硬化性感光性樹脂を内包するマイクロカプセルを
含有する層を塗布し、該塗層面にパターン露光を施した
のち加熱することを特徴とする平版印刷版の製法により
達成される。
たは光硬化性感光性樹脂を内包するマイクロカプセルを
含有する層を塗布し、該塗層面にパターン露光を施した
のち加熱することを特徴とする平版印刷版の製法により
達成される。
本発明の平版印刷版の製法は加熱により未露光部の熱軟
化性を有するマイクロカプセル壁および/またはマイク
ロカプセル中の光重合性モノマー、光硬化性感光性樹脂
等の内包物が混じり合って親油性の均一膜を作ることを
利用したものである。
化性を有するマイクロカプセル壁および/またはマイク
ロカプセル中の光重合性モノマー、光硬化性感光性樹脂
等の内包物が混じり合って親油性の均一膜を作ることを
利用したものである。
本発明に用いる光重合性モノマーおよび/または光硬化
性感光性樹脂を主として内包するマイクロカプセルは光
によって熱特性が制御できるマイクロカプセルで、通常
の取扱い時及び通常の条件下では安定であるが、材質に
依存した熱軟化温度、熱透過係数を持っている。露光を
受けるとマイクロカプセルが硬化し、熱軟化温度が大巾
に上昇する。このような性質を持ったマイクロカプセル
を支持体上に塗布した平版印刷原版にポジ原版を重ねて
メタルハライドランプ等にてパターン露光すると、露光
部すなわち非画像部に存在するマイクロカプセルは硬化
し、熱軟化温度が上昇する。一方未露光部すなわち画線
部に存在するマイクロカプセルはなんら熱軟化温度は変
らない。従ってパターン露光後、未硬化のマイクロカプ
セルの熱軟化温度以上、硬化したマイクロカプセルの熱
軟化温度以下の温度に加熱すると、画線部に存在するマ
イクロカプセルのみが軟化し、マイクロカプセル壁およ
び/あるいはマイクロカプセル中の光重合性モノマー、
光硬化性感光性樹脂等の内包物が混じり合って親油性の
均一膜となりインキ受容性となる。加熱時にロール等で
加圧しマイクロカプセル壁および/あるいはマイクロカ
プセル中の光重合性モノマー、光硬化性感光性樹脂の内
包物をより混じりやすくすることもできる。また加熱だ
けで印刷に充分耐えるだけの強度を持った画像部を作る
ことができるが、更に皮膜強度をあげ耐刷性を大きくす
るために、再び全面露光して用いることもできる。
性感光性樹脂を主として内包するマイクロカプセルは光
によって熱特性が制御できるマイクロカプセルで、通常
の取扱い時及び通常の条件下では安定であるが、材質に
依存した熱軟化温度、熱透過係数を持っている。露光を
受けるとマイクロカプセルが硬化し、熱軟化温度が大巾
に上昇する。このような性質を持ったマイクロカプセル
を支持体上に塗布した平版印刷原版にポジ原版を重ねて
メタルハライドランプ等にてパターン露光すると、露光
部すなわち非画像部に存在するマイクロカプセルは硬化
し、熱軟化温度が上昇する。一方未露光部すなわち画線
部に存在するマイクロカプセルはなんら熱軟化温度は変
らない。従ってパターン露光後、未硬化のマイクロカプ
セルの熱軟化温度以上、硬化したマイクロカプセルの熱
軟化温度以下の温度に加熱すると、画線部に存在するマ
イクロカプセルのみが軟化し、マイクロカプセル壁およ
び/あるいはマイクロカプセル中の光重合性モノマー、
光硬化性感光性樹脂等の内包物が混じり合って親油性の
均一膜となりインキ受容性となる。加熱時にロール等で
加圧しマイクロカプセル壁および/あるいはマイクロカ
プセル中の光重合性モノマー、光硬化性感光性樹脂の内
包物をより混じりやすくすることもできる。また加熱だ
けで印刷に充分耐えるだけの強度を持った画像部を作る
ことができるが、更に皮膜強度をあげ耐刷性を大きくす
るために、再び全面露光して用いることもできる。
本発明の平版印刷版の製法は、パターン露光後加熱によ
り親油性の均一膜よりなる画像を作るものであって、使
用するマイクロカプセルの粒径を通常加圧破壊に用いら
れているマイクロカプセルより著るしく小さくすること
ができるので、パターンの細部を忠実に再現できる高解
像力の平版印刷版を製造できるというすぐれた特徴を持
っている。
り親油性の均一膜よりなる画像を作るものであって、使
用するマイクロカプセルの粒径を通常加圧破壊に用いら
れているマイクロカプセルより著るしく小さくすること
ができるので、パターンの細部を忠実に再現できる高解
像力の平版印刷版を製造できるというすぐれた特徴を持
っている。
本発明でいう重合性モノマーは、ビニル又はビニリデン
基を一個以上好ましくは複数個有する化合物であり、例
えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、
不飽和ポリエステル基、ビニルオキシ基、アクリルアミ
ド基などを有する化合物があげらえる。最も代表的なも
のは、ポリオール、ポリアミン又はアミノアルコール等
と不飽和カルボン酸との反応物、ヒドロキシル基をもつ
アクリレート又はメタクリレートとポリイソシアネート
との反応物などである。
基を一個以上好ましくは複数個有する化合物であり、例
えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、
不飽和ポリエステル基、ビニルオキシ基、アクリルアミ
ド基などを有する化合物があげらえる。最も代表的なも
のは、ポリオール、ポリアミン又はアミノアルコール等
と不飽和カルボン酸との反応物、ヒドロキシル基をもつ
アクリレート又はメタクリレートとポリイソシアネート
との反応物などである。
たとえば、代表的な化合物としてポリエチレングリコー
ルジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメ
チロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,2−
ブタンジオールジアクリレート、テトラキスβ−アクリ
ロキシエチルエチレンジアミン、エポキシ樹脂とアクリ
ル酸との反応物、メタクリル酸とペンタエリスリトール
とアクリル酸との反応物、マレイン酸とジエチレングリ
コールとアクリル酸の縮合物、メチルメタクリレート、
ブチルメタクリレート、スチレン、ジビニルベンゼン、
ジアリールナフタレンなどである。これらの単量体につ
いては、特開昭49−52889号、同48−68641号、同48−32
586号、特公昭49−7115号等に開示されているものから
も選ぶことができる。これらは目的に応じて複数個併用
することもできる。
ルジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメ
チロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,2−
ブタンジオールジアクリレート、テトラキスβ−アクリ
ロキシエチルエチレンジアミン、エポキシ樹脂とアクリ
ル酸との反応物、メタクリル酸とペンタエリスリトール
とアクリル酸との反応物、マレイン酸とジエチレングリ
コールとアクリル酸の縮合物、メチルメタクリレート、
ブチルメタクリレート、スチレン、ジビニルベンゼン、
ジアリールナフタレンなどである。これらの単量体につ
いては、特開昭49−52889号、同48−68641号、同48−32
586号、特公昭49−7115号等に開示されているものから
も選ぶことができる。これらは目的に応じて複数個併用
することもできる。
これらのモノマーは通常300nm以下の紫外部に吸収を有
するので紫外〜可視光源に対し感光性を付与するために
紫外〜可視光を吸収し、モノマーを重合させるような感
光性物質を併用するのが望ましい。その例としては一般
に光重合開始剤として知られているものがあり、既に成
書に詳しく、たとえば、コーサー著、ライト・センシテ
ィブ・システムズ(Kosar“Light Sensitive Systems”
John Wiley&Sons)、藁科ら“感光性樹脂”日刊工業新
聞社、角田ら“感光性樹脂”印刷学会などに開示されて
いる。
するので紫外〜可視光源に対し感光性を付与するために
紫外〜可視光を吸収し、モノマーを重合させるような感
光性物質を併用するのが望ましい。その例としては一般
に光重合開始剤として知られているものがあり、既に成
書に詳しく、たとえば、コーサー著、ライト・センシテ
ィブ・システムズ(Kosar“Light Sensitive Systems”
John Wiley&Sons)、藁科ら“感光性樹脂”日刊工業新
聞社、角田ら“感光性樹脂”印刷学会などに開示されて
いる。
具体的な光重合開始剤の例として芳香族ケトン、キノン
化合物、エーテル化合物、ニトロ化合物があげられる。
化合物、エーテル化合物、ニトロ化合物があげられる。
具体的には、ベンゾキノン、フェナンスレンキノン、ナ
フトキノン、ジイソプロピルフェナンスレンキノン、ベ
ンゾイソブチルエーテル、ベンゾイン、フロインブチル
エーテル、ミヒラーケトン、ミヒラーチオケトン、テト
ラフェニルロフインダイマー、フルオレノン、トリニト
ロフルオレノン、β−ベンゾイルアミノナフタレンなど
が含まれる。
フトキノン、ジイソプロピルフェナンスレンキノン、ベ
ンゾイソブチルエーテル、ベンゾイン、フロインブチル
エーテル、ミヒラーケトン、ミヒラーチオケトン、テト
ラフェニルロフインダイマー、フルオレノン、トリニト
ロフルオレノン、β−ベンゾイルアミノナフタレンなど
が含まれる。
これらはビニル化合物に対し0.1%ないし30%程度添加
される。
される。
更に光重合による硬化を効率的に行なうために特願昭60
−151864号明細書、特公昭46−32714号公報、特公昭49
−34041号公報に記載された重合体をマイクロカプセル
中に含有させることができる。
−151864号明細書、特公昭46−32714号公報、特公昭49
−34041号公報に記載された重合体をマイクロカプセル
中に含有させることができる。
以上の重合性モノマー、光重合開始剤、光硬化性感光性
樹脂などをカプセル化するに際しては溶剤を併用するこ
とができる。溶剤としては天然又は合成油を単独または
併用して用いることができる。溶媒の例としては、綿実
油、灯油、脂肪族ケトン、脂肪族エステル、パラフィ
ン、ナフテン油、アルキル化ビフェニル、アルキル化タ
ーフェニル、塩素化パラフィン、アルキル化ナフタレ
ン、1−フェニル−1−キシリルエタン、1−フェニル
−1−p−エチルフェニルエタン、1,1′−ジトリルエ
タン等のジアリールエタンなどを挙げることができる。
樹脂などをカプセル化するに際しては溶剤を併用するこ
とができる。溶剤としては天然又は合成油を単独または
併用して用いることができる。溶媒の例としては、綿実
油、灯油、脂肪族ケトン、脂肪族エステル、パラフィ
ン、ナフテン油、アルキル化ビフェニル、アルキル化タ
ーフェニル、塩素化パラフィン、アルキル化ナフタレ
ン、1−フェニル−1−キシリルエタン、1−フェニル
−1−p−エチルフェニルエタン、1,1′−ジトリルエ
タン等のジアリールエタンなどを挙げることができる。
また、光硬化性感光性樹脂としては、ポリビニルアルコ
ールのケイ皮酸エステル、アジド化合物と環化ゴム、ま
たはスチレン−ブタジエン共重合体からなる感光性樹
脂、ジアゾ感光性樹脂、ポリビニルアセトフェノンとベ
ンズアルデヒドから成る光硬化性感光性樹脂等がある。
ールのケイ皮酸エステル、アジド化合物と環化ゴム、ま
たはスチレン−ブタジエン共重合体からなる感光性樹
脂、ジアゾ感光性樹脂、ポリビニルアセトフェノンとベ
ンズアルデヒドから成る光硬化性感光性樹脂等がある。
以上の他に更に熱重合防止剤を加えておくことができ
る。例えばハイドロキノン、p−メトキシフェノール、
ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−
ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス
(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−
メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノー
ル)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用であ
る。また、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料
や焼出剤としてpH指示薬、特開昭60−120354号公報に記
載の色素をマイクロカプセル中に含有させることができ
る。
る。例えばハイドロキノン、p−メトキシフェノール、
ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−
ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス
(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−
メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノー
ル)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用であ
る。また、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料
や焼出剤としてpH指示薬、特開昭60−120354号公報に記
載の色素をマイクロカプセル中に含有させることができ
る。
また画像部を着色させるために光硬化型マイクロカプセ
ル発色剤または発色剤と接触して着色物質を生成させる
顕色剤の少なくとも一方を含有させることができる。発
色剤とはエレクトロンを供与して、或いは酸などのプロ
トンを受容して発色する性質を有するものであって、と
くに限定されないが、通常ほぼ無色で、ラクトン、ラク
タム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミドなど
の部分骨格を有し、顕色剤と接触してこれらの部分骨格
が開環もしくは開裂する化合物が用いられる。具体的に
は、クリスタルバイオレットラクトン、ベンゾイルロイ
コメチレンブルー、マラカイトグリーンラクトン、ロー
ダミンβラクタム、1,3,3−トリメチル−6′−エチル
−8′−ブトキシインドリノベンゾスピロピランなどが
ある。
ル発色剤または発色剤と接触して着色物質を生成させる
顕色剤の少なくとも一方を含有させることができる。発
色剤とはエレクトロンを供与して、或いは酸などのプロ
トンを受容して発色する性質を有するものであって、と
くに限定されないが、通常ほぼ無色で、ラクトン、ラク
タム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミドなど
の部分骨格を有し、顕色剤と接触してこれらの部分骨格
が開環もしくは開裂する化合物が用いられる。具体的に
は、クリスタルバイオレットラクトン、ベンゾイルロイ
コメチレンブルー、マラカイトグリーンラクトン、ロー
ダミンβラクタム、1,3,3−トリメチル−6′−エチル
−8′−ブトキシインドリノベンゾスピロピランなどが
ある。
これらの発色剤に対する顕色剤としては、フェノール化
合物、有機酸もしくはその金属塩、オキシ安息香酸エス
テル、粘土類などが用いられる。
合物、有機酸もしくはその金属塩、オキシ安息香酸エス
テル、粘土類などが用いられる。
特に融点が50°〜250℃であり、特に好ましくは60°〜2
00℃の水に難溶性のフェノール、有機酸が望ましい。
00℃の水に難溶性のフェノール、有機酸が望ましい。
フェノール化合物の例を示せば、4,4′−イソプロピリ
デン−ジフェノール(ビスフェノールA)、p−tert−
ブチルフェノール、2,4−ジニトロフェノール、3,4−ジ
クロロフェノール、4,4′−メチレン−ビス(2,6−ジ−
tert−ブチルフェノール)、p−フェニルフェノール、
4,4−シクロヘキシリデンジフェノール、2,2′−メチレ
ンビス(4−tert−ブチルフェノール)、2,2′−メチ
レンビス(α−フェニル−p−クレゾール)チオジフェ
ノール、4,4′−チオビス(6−tert−ブチル−m−ク
レゾール)、スルホニルジフェノール、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−n−ドデカン、4,4−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−1−ペンタン酸エチルエ
ステルのほか、p−tert−ブチルフェノール−ホルマリ
ン縮合物、p−フェニルフェノールホルマリン縮合物な
どがある。
デン−ジフェノール(ビスフェノールA)、p−tert−
ブチルフェノール、2,4−ジニトロフェノール、3,4−ジ
クロロフェノール、4,4′−メチレン−ビス(2,6−ジ−
tert−ブチルフェノール)、p−フェニルフェノール、
4,4−シクロヘキシリデンジフェノール、2,2′−メチレ
ンビス(4−tert−ブチルフェノール)、2,2′−メチ
レンビス(α−フェニル−p−クレゾール)チオジフェ
ノール、4,4′−チオビス(6−tert−ブチル−m−ク
レゾール)、スルホニルジフェノール、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−n−ドデカン、4,4−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−1−ペンタン酸エチルエ
ステルのほか、p−tert−ブチルフェノール−ホルマリ
ン縮合物、p−フェニルフェノールホルマリン縮合物な
どがある。
有機酸としては、3−tert−ブチルサリチル酸、3,5−t
ert−ブチルサリチル酸、5−α−メチルベンジルサリ
チル酸、3,5−ジ−α−メチルベンジルサリチル酸、3
−tert−オクチルサリチル酸、5−α,γ−ジメチル−
α−フェニル−γ−フェニルプロピルサリチル酸等が有
用である。
ert−ブチルサリチル酸、5−α−メチルベンジルサリ
チル酸、3,5−ジ−α−メチルベンジルサリチル酸、3
−tert−オクチルサリチル酸、5−α,γ−ジメチル−
α−フェニル−γ−フェニルプロピルサリチル酸等が有
用である。
オキシ安息香酸エステルとしては、p−オキシ安息香酸
エチル、p−オキシ安息香酸ブチル、p−オキシ安息香
酸ヘプチル、p−オキシ安息香酸ベンジル等がある。
エチル、p−オキシ安息香酸ブチル、p−オキシ安息香
酸ヘプチル、p−オキシ安息香酸ベンジル等がある。
更に、加熱によるカプセルの内包物の混じり合いを効果
的におこなうために光硬化型マイクロカプセル中に発泡
剤を含有させることができる。
的におこなうために光硬化型マイクロカプセル中に発泡
剤を含有させることができる。
発泡剤としてはニトロソ系化合物、有機スルホン酸のヒ
ドラジン誘導体であるスルホヒドラジド系化合物、ヒド
ラゾ化合物およびアゾ化合物を使用することができる。
ドラジン誘導体であるスルホヒドラジド系化合物、ヒド
ラゾ化合物およびアゾ化合物を使用することができる。
有機発泡剤の具体例としては、ニトロソ系化合物として
ジニトロソペンタメチレンテトラミン、N,N′−ジメチ
ル−N,N′−ジニトロソテレフタラミド、トリニトロソ
トリメチレントリアミン等があげられる。
ジニトロソペンタメチレンテトラミン、N,N′−ジメチ
ル−N,N′−ジニトロソテレフタラミド、トリニトロソ
トリメチレントリアミン等があげられる。
またスルホヒドラジド系化合物としてはp−トルエンス
ルホヒドラジド、ベンゼンスルホヒドラジド、p,p′−
オキシビス(ベンゼンスルホヒドラジド)、ベンゼン−
1,3−ジスルホヒドラジド、3,3′−ジスルホヒドラジド
フェニルスルホン、トルエン−2,4−ジスルホヒドラジ
ド、p,p′−チオビス(ベンゼンスルホヒドラジド)等
があげられる。ヒドラゾ化合物としてはヒドラゾジカル
ボアミド、N,N′−ジベンゾイルヒドラジン、β−アセ
チルフェニルヒドラジン、バイユリア、1,1−ジフェニ
ルヒドラジン等があげられる。
ルホヒドラジド、ベンゼンスルホヒドラジド、p,p′−
オキシビス(ベンゼンスルホヒドラジド)、ベンゼン−
1,3−ジスルホヒドラジド、3,3′−ジスルホヒドラジド
フェニルスルホン、トルエン−2,4−ジスルホヒドラジ
ド、p,p′−チオビス(ベンゼンスルホヒドラジド)等
があげられる。ヒドラゾ化合物としてはヒドラゾジカル
ボアミド、N,N′−ジベンゾイルヒドラジン、β−アセ
チルフェニルヒドラジン、バイユリア、1,1−ジフェニ
ルヒドラジン等があげられる。
アゾ化合物としてはアゾビスイソブチロニトリル、アゾ
ジカルボンアミド(アゾビスホルムアミド)、ジアゾア
ミノベンゼン、アゾカルボン酸ジエチルエステル(ジエ
チルアゾジカルボキシレート)等があげられる。
ジカルボンアミド(アゾビスホルムアミド)、ジアゾア
ミノベンゼン、アゾカルボン酸ジエチルエステル(ジエ
チルアゾジカルボキシレート)等があげられる。
これらの有機発泡剤はすべて加熱によって分解し、窒素
ガスを発生する。また化合物によっては窒素ガス以外に
若干の一酸化炭素、二酸化炭素および水蒸気を発生する
ものもあるが、発生ガスの少なくとも60%は窒素ガスで
ある。また発生ガス量はおおむね100〜300m/gであ
る。
ガスを発生する。また化合物によっては窒素ガス以外に
若干の一酸化炭素、二酸化炭素および水蒸気を発生する
ものもあるが、発生ガスの少なくとも60%は窒素ガスで
ある。また発生ガス量はおおむね100〜300m/gであ
る。
これら有機発泡剤の熱分解温度は80℃程度から300℃程
度までにわたっている。
度までにわたっている。
有機発泡剤の分解温度を低下させるために、本発明にお
いて熱分解助剤をも使用することができる。
いて熱分解助剤をも使用することができる。
熱分解助剤としては、尿素および尿素誘導体、亜鉛華、
炭酸鉛、ステアリン酸鉛、グリコール酸等が有効であ
る。これらのなかで、尿素および尿素誘導体、例えば尿
素エタノールアミン、グアニール尿素、アミノグアニジ
ン炭酸塩等が特に好ましい。熱分解助剤の添加量は有機
発泡剤に対して約30〜60重量%とすることが好ましい。
炭酸鉛、ステアリン酸鉛、グリコール酸等が有効であ
る。これらのなかで、尿素および尿素誘導体、例えば尿
素エタノールアミン、グアニール尿素、アミノグアニジ
ン炭酸塩等が特に好ましい。熱分解助剤の添加量は有機
発泡剤に対して約30〜60重量%とすることが好ましい。
例えば、アゾジカルボンアミドの化学品純品の分解温度
は230℃といわれているが、種々の熱分解助剤を加える
ことにより、約120℃に下げることができる。
は230℃といわれているが、種々の熱分解助剤を加える
ことにより、約120℃に下げることができる。
本発明に用いるマイクロカプセルは当業界公知の方法で
つくることができる。例えば米国特許第2,800,457号、
同第2,800,458号にみられるような親水性壁形成材料の
コアセルベーションを利用した方法、米国特許第3,287,
154号、英国特許第990,443号、特公昭38−19574号、同4
2−446号、同42−711号にみられるような界面重合法、
米国特許第3,418,250号、同第3,660,304号にみられるポ
リマーの析出による方法、米国特許第3,796,669号にみ
られるイソシアネートポリオール壁材料を用いる方法、
米国特許第3,914,511号にみられるイソシアネート壁材
料を用いる方法、米国特許第4,001,140号、同第4,087,3
76号、同第4,089,802号にみられる尿素−ホルムアルデ
ヒド系あるいは尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール
系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4,025,455号に
みられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシ
プロピルセルロース等の壁形成材料を用いる方法、特公
昭36−9163号、特開昭51−9079号にみられるモノマーの
重合によるin situ法、英国特許第952,807号、同第965,
074号にみられる電解分散冷却法、米国特許第3,111,407
号、英国特許第930,422号にみられるスプレードライニ
ング法などがある。これらに限定されるものではない
が、芯物質を乳化した後マイクロカプセル壁として高分
子膜を形成することが好ましい。
つくることができる。例えば米国特許第2,800,457号、
同第2,800,458号にみられるような親水性壁形成材料の
コアセルベーションを利用した方法、米国特許第3,287,
154号、英国特許第990,443号、特公昭38−19574号、同4
2−446号、同42−711号にみられるような界面重合法、
米国特許第3,418,250号、同第3,660,304号にみられるポ
リマーの析出による方法、米国特許第3,796,669号にみ
られるイソシアネートポリオール壁材料を用いる方法、
米国特許第3,914,511号にみられるイソシアネート壁材
料を用いる方法、米国特許第4,001,140号、同第4,087,3
76号、同第4,089,802号にみられる尿素−ホルムアルデ
ヒド系あるいは尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール
系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4,025,455号に
みられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシ
プロピルセルロース等の壁形成材料を用いる方法、特公
昭36−9163号、特開昭51−9079号にみられるモノマーの
重合によるin situ法、英国特許第952,807号、同第965,
074号にみられる電解分散冷却法、米国特許第3,111,407
号、英国特許第930,422号にみられるスプレードライニ
ング法などがある。これらに限定されるものではない
が、芯物質を乳化した後マイクロカプセル壁として高分
子膜を形成することが好ましい。
マイクロカプセル壁となる高分子物質の具体例として
は、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエス
テル、ポリカーボネート、尿素−ホルムアルデヒド樹
脂、メラミン樹脂、ポリスチレン、スチレンメタクリレ
ート共重合体、スチレン−アクリレート共重合体、ゼラ
チン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール等
が挙げられる。
は、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエス
テル、ポリカーボネート、尿素−ホルムアルデヒド樹
脂、メラミン樹脂、ポリスチレン、スチレンメタクリレ
ート共重合体、スチレン−アクリレート共重合体、ゼラ
チン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール等
が挙げられる。
高分子物質は2種以上併用することもできる。好ましい
高分子物質はポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、
ポリエステル、ポリカーボネートであり、更に好ましく
はポリウレタン及びポリウレアである。
高分子物質はポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、
ポリエステル、ポリカーボネートであり、更に好ましく
はポリウレタン及びポリウレアである。
マイクロカプセルの粒径は30μ以下、0.01μ以上に調整
されることが好ましく、特に取り扱い性の点から10μ以
下が好ましく、パターンの解像力の点から5μ以下が特
に好ましい。
されることが好ましく、特に取り扱い性の点から10μ以
下が好ましく、パターンの解像力の点から5μ以下が特
に好ましい。
カプセルを作るときに、水溶性高分子、界面活性剤を用
いることができるが水溶性高分子とは水溶性のアニオン
性高分子、ノニオン性高分子、両性高分子を含んでおり
アニオン性高分子としては、天然のものでも合性のもの
でも用いることができ、例えば−COO−、−SO3 −基等
を有するものが挙げられる。具体的なアニオン性の天然
高分子としてはアラビアゴム、アルギン酸などがあり、
半合成品としてはカルボキシメチルセルローズ、フタル
化ゼラチン、硫酸化デンプン、硫酸化セルロース、リグ
ニンスルホン酸などがある。
いることができるが水溶性高分子とは水溶性のアニオン
性高分子、ノニオン性高分子、両性高分子を含んでおり
アニオン性高分子としては、天然のものでも合性のもの
でも用いることができ、例えば−COO−、−SO3 −基等
を有するものが挙げられる。具体的なアニオン性の天然
高分子としてはアラビアゴム、アルギン酸などがあり、
半合成品としてはカルボキシメチルセルローズ、フタル
化ゼラチン、硫酸化デンプン、硫酸化セルロース、リグ
ニンスルホン酸などがある。
又合成品としては無水マレイン酸系(加水分解したもの
も含む)共重合体、アクリル酸系(メタクリル酸系も含
む)重合体及び共重合体、ビニルベンゼンスルホン酸系
重合体及び共重合体、カルボキシ変性ポリビニルアルコ
ールなどがある。
も含む)共重合体、アクリル酸系(メタクリル酸系も含
む)重合体及び共重合体、ビニルベンゼンスルホン酸系
重合体及び共重合体、カルボキシ変性ポリビニルアルコ
ールなどがある。
両性の化合物としてはゼラチン等がある。
界面活性剤としてはポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
類、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、ソルビタン
脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル類、グリセリン脂肪酸エステル類などの非イ
オン界面活性剤、例えば脂肪酸塩類、アルキル硫酸エス
テル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキル
ナフタレンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホこはく酸
エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ナフタレン
スルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアル
キル硫酸エステル塩類などのアニオン界面活性剤、及び
例えばアルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類、
ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類などのカチオン
界面活性剤、フッ素界面活性剤が挙げられる。これら分
散安定剤は単独で用いても、2種以上混合して使用して
もよい。
ル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
類、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、ソルビタン
脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル類、グリセリン脂肪酸エステル類などの非イ
オン界面活性剤、例えば脂肪酸塩類、アルキル硫酸エス
テル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキル
ナフタレンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホこはく酸
エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ナフタレン
スルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアル
キル硫酸エステル塩類などのアニオン界面活性剤、及び
例えばアルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類、
ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類などのカチオン
界面活性剤、フッ素界面活性剤が挙げられる。これら分
散安定剤は単独で用いても、2種以上混合して使用して
もよい。
乳化分散するために使用する乳化装置としては、処理液
に大きな剪断力を与えるものか、又は高強度の超音波エ
ネルギーを与えるものが適している。特にコロイドミ
ル、ホモジナイザー、毛細管式乳化装置、液体サイレ
ン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化
装置が良好な結果を与えることができる。
に大きな剪断力を与えるものか、又は高強度の超音波エ
ネルギーを与えるものが適している。特にコロイドミ
ル、ホモジナイザー、毛細管式乳化装置、液体サイレ
ン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化
装置が良好な結果を与えることができる。
マイクロカプセルの塗布及びマイクロカプセルに親水性
を付与するのにバインダーが用いられるがバインダー
は、単独であるいは組み合わせて用いることができる。
このバインダーは主に親水性のものを用いることができ
る。親水性バインダーとしては、透明か半透明の親水性
バインダーが代表的であり、例えばゼラチン、ゼラチン
誘導体、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロー
ス等のセルロース誘導体や、デンプン、アラビヤゴム等
の多糖類のような天然物質と、ポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン、アクリルアミド重合体、ポリア
クリル酸、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体等の水溶性
のポリビニル化合物のような合成重合物質を含む。
を付与するのにバインダーが用いられるがバインダー
は、単独であるいは組み合わせて用いることができる。
このバインダーは主に親水性のものを用いることができ
る。親水性バインダーとしては、透明か半透明の親水性
バインダーが代表的であり、例えばゼラチン、ゼラチン
誘導体、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロー
ス等のセルロース誘導体や、デンプン、アラビヤゴム等
の多糖類のような天然物質と、ポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン、アクリルアミド重合体、ポリア
クリル酸、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体等の水溶性
のポリビニル化合物のような合成重合物質を含む。
本発明の平版印刷版の非画像部は、使用した親水性のカ
プセル壁および/または親水性バインダーの親水性を利
用することもできるし、親水性支持体の親水性を利用す
ることもできる。親水性支持体上にマイクロカプセル、
親水性バインダーを強く固着させることなく設けて、印
刷機上で光硬化したマイクロカプセル、親水性バインダ
ーを除去して露出する親水性支持体の親水性を利用する
場合特に良好な結果が得られる。
プセル壁および/または親水性バインダーの親水性を利
用することもできるし、親水性支持体の親水性を利用す
ることもできる。親水性支持体上にマイクロカプセル、
親水性バインダーを強く固着させることなく設けて、印
刷機上で光硬化したマイクロカプセル、親水性バインダ
ーを除去して露出する親水性支持体の親水性を利用する
場合特に良好な結果が得られる。
親水性カプセル壁、親水性バインダーの親水性を非画像
部として用いる場合には、メラミンホルムアルデヒド樹
脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、グリオギザール、その
他の架橋剤を感光液添加できる。
部として用いる場合には、メラミンホルムアルデヒド樹
脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、グリオギザール、その
他の架橋剤を感光液添加できる。
支持体としては、紙、プラスチックス(例えば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネ
ートされた紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含
む)、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタールなどのようなプラスチックのフイルム、上記の
如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプ
ラスチックフイルムなどである。これら支持体は、必要
に応じて表面凹凸化処理、表面親水化処理などの表面処
理がほどこされる。
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネ
ートされた紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含
む)、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタールなどのようなプラスチックのフイルム、上記の
如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプ
ラスチックフイルムなどである。これら支持体は、必要
に応じて表面凹凸化処理、表面親水化処理などの表面処
理がほどこされる。
たとえば、アルミ支持体は次のように表面処理がほどこ
される。アルミ板をたとえば塩酸または硝酸電解液中で
電気を流し、砂目立てする電気化学的砂目立て法、及び
アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブ
ラシグレイン法、研摩球と研摩剤でアルミニウム表面を
砂目立てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研摩
剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械
的砂目立て法を単独あるいは組合せて用いて砂目立てす
る。
される。アルミ板をたとえば塩酸または硝酸電解液中で
電気を流し、砂目立てする電気化学的砂目立て法、及び
アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブ
ラシグレイン法、研摩球と研摩剤でアルミニウム表面を
砂目立てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研摩
剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械
的砂目立て法を単独あるいは組合せて用いて砂目立てす
る。
このように、砂目立て処理したアルミニウムは酸又はア
ルカリにより化学的にエッチングされる。酸をエッチン
グ剤として用いた場合は、微細構造を破壊するのに、非
常に時間がかかり、工業的に適用するに際しては不利で
あるが、アルカリをエッチング剤として用いることによ
り改善できる。
ルカリにより化学的にエッチングされる。酸をエッチン
グ剤として用いた場合は、微細構造を破壊するのに、非
常に時間がかかり、工業的に適用するに際しては不利で
あるが、アルカリをエッチング剤として用いることによ
り改善できる。
これらの目的に好適に用いられるアルカリ剤は苛性ソー
ダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタ珪酸ソーダ、
燐酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用
い、濃度と温度の好ましい範囲は、それぞれ1〜50重量
%、20〜100℃であり、Aの溶解量が5〜20g/m2とな
るような条件が好ましい。
ダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタ珪酸ソーダ、
燐酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用
い、濃度と温度の好ましい範囲は、それぞれ1〜50重量
%、20〜100℃であり、Aの溶解量が5〜20g/m2とな
るような条件が好ましい。
アルカリエッチングのあと表面に残留する汚れ(スマッ
ト)を除去するために酸洗いが行なわれる。用いられる
酸は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ふっ酸、ほうふ
っ化水素酸等が用いられる。
ト)を除去するために酸洗いが行なわれる。用いられる
酸は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ふっ酸、ほうふ
っ化水素酸等が用いられる。
また、電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理に
は、好ましくは、特開昭53−12739号公報に記載されて
いるような50〜90℃の温度の15〜65重量%の硫酸と接触
させる方法及び特公昭48−28123号公報に記されている
アルカリエッチングする方法である。
は、好ましくは、特開昭53−12739号公報に記載されて
いるような50〜90℃の温度の15〜65重量%の硫酸と接触
させる方法及び特公昭48−28123号公報に記されている
アルカリエッチングする方法である。
以上のようにして処理されたアルミニウム板を使用する
ことができるが、更に、陽極酸化皮膜処理、化成処理な
どの処理を施すこともできる。
ことができるが、更に、陽極酸化皮膜処理、化成処理な
どの処理を施すこともできる。
陽極酸化処理は、この分野で従来より行なわれている方
法で行なうことができる。具体的には、硫酸、りん酸、
クロム酸、蓚酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸
等あるいはこれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は
非水溶液中でアルミニウムに直流または交流の電流を流
すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成させ
ることができる。
法で行なうことができる。具体的には、硫酸、りん酸、
クロム酸、蓚酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸
等あるいはこれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は
非水溶液中でアルミニウムに直流または交流の電流を流
すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成させ
ることができる。
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変
化するので一概には決定され得ないが、一般的には電解
液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度0.5
〜60アンペア/dm2、電圧1〜100V、電解時間10〜100秒
の範囲が適当である。
化するので一概には決定され得ないが、一般的には電解
液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度0.5
〜60アンペア/dm2、電圧1〜100V、電解時間10〜100秒
の範囲が適当である。
これらの陽極酸化皮膜処理の内でも、特に英国特許第1,
412,768号明細書に記載されている発明で使用されてい
る、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特
許第3,511,661号明細書に記載されている燐酸を電解浴
として陽極酸化する方法が好ましい。
412,768号明細書に記載されている発明で使用されてい
る、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特
許第3,511,661号明細書に記載されている燐酸を電解浴
として陽極酸化する方法が好ましい。
陽極酸化されたアルミニウム板は、更に米国特許第2,71
4,066号及び同第3,181,461号の各明細書に記されている
様にアルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウムの
水溶液で浸漬などの方法により処理したり、米国特許第
3,860,426号明細書に記載されているように水溶性金属
塩(例えば酢酸亜鉛など)を含む親水性セルロース(例
えば、カルボキシメチルセルロースなど)の下塗り層を
設けることもできる。
4,066号及び同第3,181,461号の各明細書に記されている
様にアルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウムの
水溶液で浸漬などの方法により処理したり、米国特許第
3,860,426号明細書に記載されているように水溶性金属
塩(例えば酢酸亜鉛など)を含む親水性セルロース(例
えば、カルボキシメチルセルロースなど)の下塗り層を
設けることもできる。
支持体に塗布するに際しては、パターン焼付け時の真空
密着性をよくするように、タルク粉末、ガラス粉末、粘
土、デンプン、小麦粉、とうもろこし粉、テフロン粉
末、ポリエチレン粉末などの充てん剤を加えてもよい。
密着性をよくするように、タルク粉末、ガラス粉末、粘
土、デンプン、小麦粉、とうもろこし粉、テフロン粉
末、ポリエチレン粉末などの充てん剤を加えてもよい。
又、従来より記録系に用いられる種々の添加剤、バイン
ダー、酸化防止剤、分散剤、消泡剤、顔料、染料、界面
活性剤や塗布方法、使用方法等についてはよく知られて
おり、米国特許第2,711,375号、同第3,625,736号、英国
特許第1,232,347号、特開昭50−44012号、同50−50112
号、同50−127718号、同50−30515号、米国特許第3,83
6,383号、同第3,846,331号などに開示があり、それらの
手法を利用できる。
ダー、酸化防止剤、分散剤、消泡剤、顔料、染料、界面
活性剤や塗布方法、使用方法等についてはよく知られて
おり、米国特許第2,711,375号、同第3,625,736号、英国
特許第1,232,347号、特開昭50−44012号、同50−50112
号、同50−127718号、同50−30515号、米国特許第3,83
6,383号、同第3,846,331号などに開示があり、それらの
手法を利用できる。
また平版印刷原版の表面物性コントロールのために、保
護層やマット層を設けてもよい。
護層やマット層を設けてもよい。
上記のようにしてつくられた平版印刷原版は活性光線に
露光されたのち加熱される。活性光線の光源としては例
えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンラン
プ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯などがある。ま
た高密度エネルギービーム(レーザービーム又は電子
線)による走査露光も本発明に使用することができる。
このようなレーザービームとしてはヘリウム・ネオンレ
ーザー、アルゴンレーザー、クリプトンイオンレーザ
ー、ヘリウム・カドミウムレーザーなどがある。
露光されたのち加熱される。活性光線の光源としては例
えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンラン
プ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯などがある。ま
た高密度エネルギービーム(レーザービーム又は電子
線)による走査露光も本発明に使用することができる。
このようなレーザービームとしてはヘリウム・ネオンレ
ーザー、アルゴンレーザー、クリプトンイオンレーザ
ー、ヘリウム・カドミウムレーザーなどがある。
加熱に用いる加熱装置としてはたとえば、ヒーターを内
蔵した熱ローラーで感光面と接触しながら加熱する方
法、熱板に接触させる方法、リボンヒーター、シーズヒ
ーター、赤外ヒーター等の加熱源を搬送中のプレート表
面近傍に配する方法、加熱空気を吹き付ける方法、加熱
液体中に浸漬または接触させる方法等、直接プレートを
加熱する方法と電子線、高周波、その他の電磁波の照射
により自己発熱させる方式等が利用できる。
蔵した熱ローラーで感光面と接触しながら加熱する方
法、熱板に接触させる方法、リボンヒーター、シーズヒ
ーター、赤外ヒーター等の加熱源を搬送中のプレート表
面近傍に配する方法、加熱空気を吹き付ける方法、加熱
液体中に浸漬または接触させる方法等、直接プレートを
加熱する方法と電子線、高周波、その他の電磁波の照射
により自己発熱させる方式等が利用できる。
加熱の温度、時間は、マイクロカプセルの壁材質、壁の
厚さ、光重合性モノマー、感光性樹脂などのマイクロカ
プセル中の内包物の種類などにより決定されるものであ
り、特定の数値に限定されるものではないが、60℃〜30
0℃の範囲が有効であり、好ましい範囲は70℃〜250℃、
より好ましくは80℃〜220℃の範囲である。60℃以下で
は均一な親油性の皮膜が得がたく、300℃以上では汚れ
が発生する危険がある。加熱時間は、1/20〜20分間の範
囲が有効であるが、好ましい範囲は1/15〜15分間、より
好ましくは1/10〜10分間である。
厚さ、光重合性モノマー、感光性樹脂などのマイクロカ
プセル中の内包物の種類などにより決定されるものであ
り、特定の数値に限定されるものではないが、60℃〜30
0℃の範囲が有効であり、好ましい範囲は70℃〜250℃、
より好ましくは80℃〜220℃の範囲である。60℃以下で
は均一な親油性の皮膜が得がたく、300℃以上では汚れ
が発生する危険がある。加熱時間は、1/20〜20分間の範
囲が有効であるが、好ましい範囲は1/15〜15分間、より
好ましくは1/10〜10分間である。
加圧を併用する場合は、ヒーターを内蔵した2個の熱ロ
ール間を通すことにより簡単におこなうこともできる
し、加熱直後あるいは加熱ゾーンの中で2個のロール間
を通すことによってもおこなうことができる。加えられ
る圧力は特定の数値に限定されるものではないが、実用
的には約500kg/cm2以下が好ましい。
ール間を通すことにより簡単におこなうこともできる
し、加熱直後あるいは加熱ゾーンの中で2個のロール間
を通すことによってもおこなうことができる。加えられ
る圧力は特定の数値に限定されるものではないが、実用
的には約500kg/cm2以下が好ましい。
本発明によって得た平版印刷版は更に印刷適性を向上さ
せる目的で、版面上の非画線部の親水化処理あるいは画
線部の親油化処理を行なうこともある。親水化処理に使
用される処理液としては一般にアラビアゴムのような親
水性樹脂、リン酸塩、アルミニウム明ばん化合物および
酸の少なくとも1種を主体としたもの、およびフェロシ
アン化合物またはフェリシアン化合物を主体としたもの
などがある。親油化処理に使用される処理液としては、
親水基を有するポリマーまたはその金属塩等を主体とし
たものなどがある。
せる目的で、版面上の非画線部の親水化処理あるいは画
線部の親油化処理を行なうこともある。親水化処理に使
用される処理液としては一般にアラビアゴムのような親
水性樹脂、リン酸塩、アルミニウム明ばん化合物および
酸の少なくとも1種を主体としたもの、およびフェロシ
アン化合物またはフェリシアン化合物を主体としたもの
などがある。親油化処理に使用される処理液としては、
親水基を有するポリマーまたはその金属塩等を主体とし
たものなどがある。
以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこれに限定さ
れるものではない。
れるものではない。
実施例1 (1)支持体を以下の如く作製した。
特開昭56−28893号公報に開示された方法により基板を
作製した。即ち、厚さ0.24mmのアルミニウム板をナイロ
ンブラシと400メッシュのパミストンの水懸濁液を用
い、その表面を砂目立てした後、よく水で清浄した。次
いで10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッ
チングした後、流水で水洗後20%HNO3で中和洗浄し、水
洗した。これを陽極時電圧が12.7Vで陽極時電気量に対
する陰極時電気量の比が0.8の条件下で正弦波の交番波
形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クローン/dm2の
陽極時電気量で電解粗面化処理を行なった。このときの
表面粗さを測定したところ0.6μ(Ra表示)であった。
ひきつづいて30%の硫酸中に浸漬し55℃で2分間デスマ
ットした後、20%硫酸中、電流密度2A/dm2において厚さ
が2.7g/dm2になるように陽極酸化処理した。その後70℃
の珪酸ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬後水洗乾燥し
た。
作製した。即ち、厚さ0.24mmのアルミニウム板をナイロ
ンブラシと400メッシュのパミストンの水懸濁液を用
い、その表面を砂目立てした後、よく水で清浄した。次
いで10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッ
チングした後、流水で水洗後20%HNO3で中和洗浄し、水
洗した。これを陽極時電圧が12.7Vで陽極時電気量に対
する陰極時電気量の比が0.8の条件下で正弦波の交番波
形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クローン/dm2の
陽極時電気量で電解粗面化処理を行なった。このときの
表面粗さを測定したところ0.6μ(Ra表示)であった。
ひきつづいて30%の硫酸中に浸漬し55℃で2分間デスマ
ットした後、20%硫酸中、電流密度2A/dm2において厚さ
が2.7g/dm2になるように陽極酸化処理した。その後70℃
の珪酸ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬後水洗乾燥し
た。
(2)次に感光液を以下の如く作製した。
2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン5gをト
リメチロールプロパントリアクリレート40gに溶解し、
更にタケネート D110N(武田薬品(株)製)10gを溶解
混合させオイル相とした。
リメチロールプロパントリアクリレート40gに溶解し、
更にタケネート D110N(武田薬品(株)製)10gを溶解
混合させオイル相とした。
このオイル相を2%ポリビニルアルコールPVA−205(ク
ラレ(株)製)水溶液50gに乳化分散した。この乳化液
を室温で攪拌しつつジエチレントリアミン1.67%水溶液
20gを加え、引き続き攪拌した。30分後40℃迄昇温し、
更に1時間攪拌後冷却した。得られたマイクロカプセル
の平均粒子サイズは2.8μであった。
ラレ(株)製)水溶液50gに乳化分散した。この乳化液
を室温で攪拌しつつジエチレントリアミン1.67%水溶液
20gを加え、引き続き攪拌した。30分後40℃迄昇温し、
更に1時間攪拌後冷却した。得られたマイクロカプセル
の平均粒子サイズは2.8μであった。
(3)こうして得たマイクロカプセル液50gに水100g、白色
デキストリン(日澱化学(株)製)1gを加え感光液を得
た。コーティングロッド#14を用いて乾燥後の塗布重量
が4.6g/m2になるように上記のアルミ支持体に塗布し、
乾燥させて平版印刷原版を得た。
デキストリン(日澱化学(株)製)1gを加え感光液を得
た。コーティングロッド#14を用いて乾燥後の塗布重量
が4.6g/m2になるように上記のアルミ支持体に塗布し、
乾燥させて平版印刷原版を得た。
(4)この印刷原版にポジフイルムを重ね、真空密着さ
せ、ヌアーク社製ET26V UDNS ULTRA-PLUS FLIP-TOP PL
ATE MAKERにより露光したのち、160℃の空気恒温槽中で
2分間加熱し、平版印刷版を得た。
せ、ヌアーク社製ET26V UDNS ULTRA-PLUS FLIP-TOP PL
ATE MAKERにより露光したのち、160℃の空気恒温槽中で
2分間加熱し、平版印刷版を得た。
(5)これをハイデルベルグG.T.O型印刷機に取付け印刷し
たところ汚れのない解像力のすぐれた印刷物が得られ
た。
たところ汚れのない解像力のすぐれた印刷物が得られ
た。
実施例2 (1)感光液を以下の如く作製した。
トリメチロールプロパントリアクリレート30g、2,2−ジ
メトキシ−2−フェニルアセトフェノン3g、バーノック
DN950(大日本インキ(株)製)15g、エチレンジクロラ
イド20gを混合させオイル相とした。
メトキシ−2−フェニルアセトフェノン3g、バーノック
DN950(大日本インキ(株)製)15g、エチレンジクロラ
イド20gを混合させオイル相とした。
このオイル相を2%のメチルセルロース水溶液に乳化分
散した。この乳化液を室温で攪拌しつつジエチレントリ
アミン1.67%水溶液10gを加え、引き続き攪拌した。30
分後40℃迄昇温し、更に30分間攪拌後冷却した。得られ
たマイクロカプセルの平均粒子サイズは2.4μであっ
た。
散した。この乳化液を室温で攪拌しつつジエチレントリ
アミン1.67%水溶液10gを加え、引き続き攪拌した。30
分後40℃迄昇温し、更に30分間攪拌後冷却した。得られ
たマイクロカプセルの平均粒子サイズは2.4μであっ
た。
(2)こうして得たマイクロカプセル液を乾燥後の塗布重
量が4.2g/m2になるように実施例1に記載のアルミ支持
体に塗布し乾燥させて平版印刷原版を得た。
量が4.2g/m2になるように実施例1に記載のアルミ支持
体に塗布し乾燥させて平版印刷原版を得た。
(3)この印刷原版にポジフイルムを重ね、真空密着さ
せ、ヌアーク社製ET26VUDNS ULTRA-PLUS FLIP-TOP PLAT
E MAKERにより露光したのち、150℃の空気恒温槽中で1
分間加熱した後マイクロカプセル面を全面露光し、平版
印刷版を得た。
せ、ヌアーク社製ET26VUDNS ULTRA-PLUS FLIP-TOP PLAT
E MAKERにより露光したのち、150℃の空気恒温槽中で1
分間加熱した後マイクロカプセル面を全面露光し、平版
印刷版を得た。
(4)これをハイデルベルグG.T.O型印刷機に取付け印刷し
たところ汚れのない解像力のすぐれた印刷物が得られ
た。
たところ汚れのない解像力のすぐれた印刷物が得られ
た。
Claims (1)
- 【請求項1】支持体上に光重合性モノマー及び/または
光硬化性感光性樹脂を内包するマイクロカプセルを含有
する層を塗布し、該塗層面にパターン露光を施したのち
加熱することよりなる平版印刷版の製造法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61093531A JPH0668622B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | 平版印刷版の製造法 |
EP19870105885 EP0242863B1 (en) | 1986-04-23 | 1987-04-22 | Process for manufacturing lithographic printing plates |
DE19873780062 DE3780062T2 (de) | 1986-04-23 | 1987-04-22 | Verfahren zur herstellung von flachdruckplatten. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61093531A JPH0668622B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | 平版印刷版の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62250453A JPS62250453A (ja) | 1987-10-31 |
JPH0668622B2 true JPH0668622B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=14084878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61093531A Expired - Lifetime JPH0668622B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | 平版印刷版の製造法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0242863B1 (ja) |
JP (1) | JPH0668622B2 (ja) |
DE (1) | DE3780062T2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0911155B1 (en) * | 1997-10-24 | 2003-01-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Plate making device and printer and printing system using the plate making device |
EP1459887A3 (en) * | 2003-03-20 | 2005-03-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming method and image exposure apparatus |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH395152A (fr) * | 1959-07-16 | 1965-07-15 | Ncr Co | Procédé d'impression |
BE626399A (ja) * | 1961-12-23 | |||
US3342622A (en) * | 1962-07-20 | 1967-09-19 | Gestetner Ltd | Typewriter ribbon impregnated with ink comprising heat-polymerizable ester monomer |
DE2049019A1 (de) * | 1970-09-25 | 1972-03-30 | Ritzerfeld Gerhard | Verfahren zur Bilderzeugung auf einer lithographischen Druckformfohe |
US4399209A (en) * | 1981-11-12 | 1983-08-16 | The Mead Corporation | Transfer imaging system |
JPH0231663B2 (ja) * | 1982-06-24 | 1990-07-16 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Ofusetsutoinsatsuhannoseizoho |
JPH0235665B2 (ja) * | 1982-06-29 | 1990-08-13 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Ofusetsutoinsatsuhannoseizoho |
JPS5991438A (ja) * | 1982-11-17 | 1984-05-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光感熱記録材料 |
JPS59174394A (ja) * | 1983-03-23 | 1984-10-02 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | オフセツト印刷版 |
EP0157783B1 (en) * | 1983-07-25 | 1989-12-20 | The Mead Corporation | Thermal development of photosensitive materials employing microencapsulated radiation sensitive compositions |
DE3605120A1 (de) * | 1985-02-19 | 1986-08-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Verfahren zur herstellung von offset-druckplatten |
US5045430A (en) * | 1985-10-25 | 1991-09-03 | Shackle Dale R | Method for making printing plates and assembly useful therein |
-
1986
- 1986-04-23 JP JP61093531A patent/JPH0668622B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-04-22 DE DE19873780062 patent/DE3780062T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-04-22 EP EP19870105885 patent/EP0242863B1/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62250453A (ja) | 1987-10-31 |
EP0242863A2 (en) | 1987-10-28 |
EP0242863B1 (en) | 1992-07-01 |
EP0242863A3 (en) | 1988-07-06 |
DE3780062T2 (de) | 1992-12-24 |
DE3780062D1 (de) | 1992-08-06 |
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Legal Events
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