JPS61281242A - オフセツト印刷版の製造法 - Google Patents
オフセツト印刷版の製造法Info
- Publication number
- JPS61281242A JPS61281242A JP60031239A JP3123985A JPS61281242A JP S61281242 A JPS61281242 A JP S61281242A JP 60031239 A JP60031239 A JP 60031239A JP 3123985 A JP3123985 A JP 3123985A JP S61281242 A JPS61281242 A JP S61281242A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monomer
- substrate
- exposing
- microcapsules
- base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/002—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明はオフセット印刷版の製造法に関するものであり
、特に乾式処理による印刷版の製造方法に関するもので
ある。
、特に乾式処理による印刷版の製造方法に関するもので
ある。
「従来の技術」
軽印刷として知られている分野では、種々の印刷法が用
いられているが、画像品質、耐刷性等の面で優れている
オフセット印刷方式が広く用いられるようになってきた
。特に有用なものは原稿よリレンズ光学系等で直接刷版
に焼き付けるダイレクト製版法であるが、一般に従来実
用されているものは湿式の現像処理を含み、機器の大型
化、現像液の管理が面倒など好ましくない面も持ってい
る。
いられているが、画像品質、耐刷性等の面で優れている
オフセット印刷方式が広く用いられるようになってきた
。特に有用なものは原稿よリレンズ光学系等で直接刷版
に焼き付けるダイレクト製版法であるが、一般に従来実
用されているものは湿式の現像処理を含み、機器の大型
化、現像液の管理が面倒など好ましくない面も持ってい
る。
また湿式処理の複雑な工程を廃止する方法として光硬化
型カプセルを用いる方法が特開昭ｊ−ｒ−２２４ｔ７Ｊ
２号公報に開示されている。この方法は光硬化型マイク
ロカプセルを含有する層を塗布し、この塗層面にパター
ン露光を施したのち加圧し、再び露光することによって
オフセット印刷版を得るものであり湿式処理を伴わない
。しかしこの方法はマイクロカプセル壁膜の親水性と光
硬化型樹脂の親油性を利用したものであり、マイクロカ
プセル壁膜が親水性である必要がある。従ってマイクロ
カプセルの壁材を選択するうえで制約を受ける。またマ
イクロカプセルの壁膜が親水性であっても、光硬化型樹
脂の親油性の性質が近い場合は、印刷の際湿し水と油性
インキが混りあって印刷画像が不鮮明になることがある
。
型カプセルを用いる方法が特開昭ｊ−ｒ−２２４ｔ７Ｊ
２号公報に開示されている。この方法は光硬化型マイク
ロカプセルを含有する層を塗布し、この塗層面にパター
ン露光を施したのち加圧し、再び露光することによって
オフセット印刷版を得るものであり湿式処理を伴わない
。しかしこの方法はマイクロカプセル壁膜の親水性と光
硬化型樹脂の親油性を利用したものであり、マイクロカ
プセル壁膜が親水性である必要がある。従ってマイクロ
カプセルの壁材を選択するうえで制約を受ける。またマ
イクロカプセルの壁膜が親水性であっても、光硬化型樹
脂の親油性の性質が近い場合は、印刷の際湿し水と油性
インキが混りあって印刷画像が不鮮明になることがある
。
「発明が解決しようとする問題点」
従って、解決すべき問題点は、乾式処理の簡易な工程で
かつ鮮明な印刷画像が得られるオフセット印刷版を製造
する方法を提供することである。
かつ鮮明な印刷画像が得られるオフセット印刷版を製造
する方法を提供することである。
「問題点を解決するための手段」
本発明は上述の問題点を解決できるオフセット印刷版の
製造法に関するものであり、そのステップは、支持体上
に光重合性モノマーを含有するマイクロカプセルを塗布
し、該塗層面に画像露光を施し、露光部のカプセルを硬
化後、親水性表面を有する基板と重ねて加圧し、未露光
部のカプセル中の光重合性モノマーを該基板に転写し、
転写された基板を全面露光することによりなる。
製造法に関するものであり、そのステップは、支持体上
に光重合性モノマーを含有するマイクロカプセルを塗布
し、該塗層面に画像露光を施し、露光部のカプセルを硬
化後、親水性表面を有する基板と重ねて加圧し、未露光
部のカプセル中の光重合性モノマーを該基板に転写し、
転写された基板を全面露光することによりなる。
本発明に用いる光重合性モノマー含有マイクロカプセル
は、光によって圧力破壊が制御できるマイクロカプセル
で、内容物をとり出したい時は、通常のマイクロカプセ
ルと同様に外部より圧力等を加えることによりマイクロ
カプセル壁を破壊し、内容物を放出させることができる
。また、内容物をそのままマイクロカプセル内に包み込
んでおきたい時は、マイクロカプセルに光を当て、必要
ならば加熱、その他の工程を経て、内容物を硬化させる
。従って光硬化後のマイクロカプセルは通常の圧力では
破壊されず、内容物の放出は起こらない。このような感
光性マイクロカプセルを支持体に塗布し、画像露光を施
し、露光部を硬化後、親水性表面を有する基板と重ねて
加圧すると、未露光部のカプセル中の光重合性上ツマ−
が該基板に転写される。ついで転写された基板に全面露
光を施すと、親水性表面を有する基板上に重合性モノマ
ーが光重合して親油性の画像が得られ、この基板をオフ
セット印刷版として使うことができる。
は、光によって圧力破壊が制御できるマイクロカプセル
で、内容物をとり出したい時は、通常のマイクロカプセ
ルと同様に外部より圧力等を加えることによりマイクロ
カプセル壁を破壊し、内容物を放出させることができる
。また、内容物をそのままマイクロカプセル内に包み込
んでおきたい時は、マイクロカプセルに光を当て、必要
ならば加熱、その他の工程を経て、内容物を硬化させる
。従って光硬化後のマイクロカプセルは通常の圧力では
破壊されず、内容物の放出は起こらない。このような感
光性マイクロカプセルを支持体に塗布し、画像露光を施
し、露光部を硬化後、親水性表面を有する基板と重ねて
加圧すると、未露光部のカプセル中の光重合性上ツマ−
が該基板に転写される。ついで転写された基板に全面露
光を施すと、親水性表面を有する基板上に重合性モノマ
ーが光重合して親油性の画像が得られ、この基板をオフ
セット印刷版として使うことができる。
画像露光及び全面露光の光源としては、ケミカルランプ
、キセノンランプ、水銀灯等が用いられる。加圧の方法
としては加圧ローラーの間を通過させる等の方法でマイ
クロカプセルを破壊できればよい。
、キセノンランプ、水銀灯等が用いられる。加圧の方法
としては加圧ローラーの間を通過させる等の方法でマイ
クロカプセルを破壊できればよい。
本発明に用いられる光重合性モノマーは、例えば、アク
リロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、
不飽和ポリエステル基、ビニルオキシ基、アクリルアミ
ド基、マレイン酸残基などを有する化合物があげられる
。最も代表的なものは、ポリオール、ポリアミン又はア
ミノアルコール等と不飽和カルボン酸との反応物、ヒド
ロキシル基をもつアクリレート又はメタクリレートとポ
リイソシアネートとの反応物などである。
リロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、
不飽和ポリエステル基、ビニルオキシ基、アクリルアミ
ド基、マレイン酸残基などを有する化合物があげられる
。最も代表的なものは、ポリオール、ポリアミン又はア
ミノアルコール等と不飽和カルボン酸との反応物、ヒド
ロキシル基をもつアクリレート又はメタクリレートとポ
リイソシアネートとの反応物などである。
これらのモノマーは、通常３００１ｗ１以下の紫外部に
吸収を有するので、紫外〜可視光源に対し感光性を付与
するために紫外〜可視光を吸収し、モノマーを重合させ
るような感光性物質を併用するのが望ましい。その例と
しては一般に光重合開始剤として知られているものがあ
り、例えば芳香族ケトン、キノン化合物、ヘキサアリー
ルビイミダゾール等が挙げられる。特に特願昭！ター／
２／１３ｒ号明細書に記載した光重合開始剤は感度が高
く好ましい。その他、公知の熱重合防止剤や、特願昭ｊ
ター／２／６３ｒ号明細書に記載した発色反応を起こす
成分をマイクロカプセル中に含有することができる。
吸収を有するので、紫外〜可視光源に対し感光性を付与
するために紫外〜可視光を吸収し、モノマーを重合させ
るような感光性物質を併用するのが望ましい。その例と
しては一般に光重合開始剤として知られているものがあ
り、例えば芳香族ケトン、キノン化合物、ヘキサアリー
ルビイミダゾール等が挙げられる。特に特願昭！ター／
２／１３ｒ号明細書に記載した光重合開始剤は感度が高
く好ましい。その他、公知の熱重合防止剤や、特願昭ｊ
ター／２／６３ｒ号明細書に記載した発色反応を起こす
成分をマイクロカプセル中に含有することができる。
以上のエチレン性不飽和化合物、光重合開始剤等をカプ
セル化するに際しては、溶剤を併用することができる。
セル化するに際しては、溶剤を併用することができる。
溶剤としては、天然または合成油を単独または併用して
用いることができる。溶剤の例としては、綿実油、灯油
、脂肪族ケトン、脂肪族エステル、パラフィン、ナフテ
ン油、アルキル化ビフェニル、アルキル化ターフェニル
、塩素化パラフィン、アルキル化ナフタレン、および／
−フェニル−／−キシリルエタン、／−フェニル−／−
ｐ−エチルフェニルエタン、／、／′−ジトリルエタン
等のごときジアリールエタンなどを挙げることができる
。
用いることができる。溶剤の例としては、綿実油、灯油
、脂肪族ケトン、脂肪族エステル、パラフィン、ナフテ
ン油、アルキル化ビフェニル、アルキル化ターフェニル
、塩素化パラフィン、アルキル化ナフタレン、および／
−フェニル−／−キシリルエタン、／−フェニル−／−
ｐ−エチルフェニルエタン、／、／′−ジトリルエタン
等のごときジアリールエタンなどを挙げることができる
。
これらの化合物をカプセル化する方法としては、公知の
カプセル化法が適用できる。例えばカプセルの製造方法
としては、米国特許コ、？０θ、４ｔ！７号、同コ、♂
００．４ｔ／ｒ号にみられるコアセルベーションを利用
した方法、英国特許タタθ。
カプセル化法が適用できる。例えばカプセルの製造方法
としては、米国特許コ、？０θ、４ｔ！７号、同コ、♂
００．４ｔ／ｒ号にみられるコアセルベーションを利用
した方法、英国特許タタθ。
４ｔ４ｔ３号、米国特許３．コ♂７．／！ダ号にみられ
る界面重合法による方法、米国特許３，４ｔ／ｒ。
る界面重合法による方法、米国特許３，４ｔ／ｒ。
−１０号、同Ｊ、６６０，３０４を号にみられるポリマ
ーの析出による方法、米国特許３，７λぶ。
ーの析出による方法、米国特許３，７λぶ。
？θり号、米国特許３，７デ６、≦６り号にみられる油
滴内部からのりアクタントの重合等がある。
滴内部からのりアクタントの重合等がある。
特にポリマーの析出による方法及び油滴内部からのりア
クタントの重合によるカプセル化法を使用した場合、そ
の効果が大きい。即ち、短時間に、均一な粒径をもつ感
光材料として好ましいカプセルを得ることができる。カ
プセルの粒径は２０μ以下特に保存時の取り扱い性の点
から７０μ以下が好しい。
クタントの重合によるカプセル化法を使用した場合、そ
の効果が大きい。即ち、短時間に、均一な粒径をもつ感
光材料として好ましいカプセルを得ることができる。カ
プセルの粒径は２０μ以下特に保存時の取り扱い性の点
から７０μ以下が好しい。
支持体としては、プラスチックフィルム、合成紙、アル
ミもしくは鉄等の金属、紙あるいはこれらの複合体など
が使用される。
ミもしくは鉄等の金属、紙あるいはこれらの複合体など
が使用される。
支持体に塗布するに際しては、ＰＶＡ又はラテックスの
如きバインダーデンプンの如き保護剤などが用いられる
。又、従来より記録系に用いられる種々の添加剤、バイ
ンダー、酸化防止剤、スマツジ防止剤、界面活性剤や塗
布方法、使用方法等についてはよく知られており、米国
特許コ、７／／、３７ｊ、同３，６コｔ、７３＆、英国
特許／。
如きバインダーデンプンの如き保護剤などが用いられる
。又、従来より記録系に用いられる種々の添加剤、バイ
ンダー、酸化防止剤、スマツジ防止剤、界面活性剤や塗
布方法、使用方法等についてはよく知られており、米国
特許コ、７／／、３７ｊ、同３，６コｔ、７３＆、英国
特許／。
２３２ 、ｊ４ｔ７、特開昭ｊ０−ググ、０７２号、同
１０−１０．／／２号、同６０−／２７，７／ｒ号、同
３０−３０．６１ｊ号、米国特許３．／３ｇ、３ｒ３号
、同３．♂グぶ、３３／号などに開示があり、それらの
手法を利用できる。
１０−１０．／／２号、同６０−／２７，７／ｒ号、同
３０−３０．６１ｊ号、米国特許３．／３ｇ、３ｒ３号
、同３．♂グぶ、３３／号などに開示があり、それらの
手法を利用できる。
また、転写される親水性表面を有する基板としては、セ
ルロースアセテートフィルム、セルロースアセテートブ
チレートフィルム、セルロースアセテートブチレートフ
ィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム
、ポリスチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレート
フィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスチック
フィルムや鉄やアルミニラ等の金属板あるいはそれらと
プラスチックフィルム、金属板、紙等との積層板の表面
を親水化処理して用いられる。
ルロースアセテートフィルム、セルロースアセテートブ
チレートフィルム、セルロースアセテートブチレートフ
ィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム
、ポリスチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレート
フィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスチック
フィルムや鉄やアルミニラ等の金属板あるいはそれらと
プラスチックフィルム、金属板、紙等との積層板の表面
を親水化処理して用いられる。
プラスチックフィルムの親水化処理としては、コロナ放
電・紫外線照射、火災処理等が挙げられる。また金属表
面の処理としては、シリケート処理、陽極酸化処理等が
挙げられる。通常のオフセット印刷において基板として
使われるものをそのまま用いることができる。これらの
基板は使用のつど目的とする耐刷性、画質等を考慮し自
由に選択することができる。この点も本発明の特長の一
つである。
電・紫外線照射、火災処理等が挙げられる。また金属表
面の処理としては、シリケート処理、陽極酸化処理等が
挙げられる。通常のオフセット印刷において基板として
使われるものをそのまま用いることができる。これらの
基板は使用のつど目的とする耐刷性、画質等を考慮し自
由に選択することができる。この点も本発明の特長の一
つである。
「実施例」
以下本発明の実施例を示すが、本発明はこれに限定され
るものではない。
るものではない。
実施例／
（１） 感光性マイクロカプセルを以下の如く作製し
た。
た。
トリメチロールプロパントリアクリレートλ！りへｇ、
ｘｒ−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンθ、！ｉ
および２−メルカプト−！−メチルチオ−７、！、４ｔ
−チアジアゾール０、！２を溶解させる。またコ、２′
−ビス（〇−クロロフェニル）−グ、 ４ｔｒ 、
ｔ 、 ｔ’−テトラフェニルビイミダゾール／、ｊ、
Ｆを！ｄの塩化メチレンに溶解し、先のモノマーに混合
し、オイル相とした。
ｘｒ−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンθ、！ｉ
および２−メルカプト−！−メチルチオ−７、！、４ｔ
−チアジアゾール０、！２を溶解させる。またコ、２′
−ビス（〇−クロロフェニル）−グ、 ４ｔｒ 、
ｔ 、 ｔ’−テトラフェニルビイミダゾール／、ｊ、
Ｆを！ｄの塩化メチレンに溶解し、先のモノマーに混合
し、オイル相とした。
一方７０％アラビアガム水溶液／７Ｊｐ、７２％イソブ
チレン／無水マレイン酸水溶液／♂、／Ｐ１蒸留水２６
．♂りの混合物を硫酸でｐＨ３，ｊに調整し、更に尿素
グ。ｔｙ、レゾルミンＯ０にノを加え、この溶液に先の
オイル相を乳化分散した。ついで３乙チホルマリン／コ
、りｙを加え攪拌しつつ６θ０Ｃまで昇温し、７時間後
に！チ硫酸アンモニウム水溶液９Ｆを加え、更に乙０°
Ｃに保ちつつ７時間攪拌後冷却した。その後ＮａＯＨに
よりｐＨを７．０とした０ （２）こうして得たカプセル液！りに／ｊ％ＰＶＡ水溶
液／、！３７．蒸留水３，４ｔ７ｐ、でんぷん０．Ｊ−
７１を加え塗布液とした。これをコーティングロッド＃
／θを用いてアート紙に塗布し、７００°Ｃでコ分間乾
燥させ、感光シートを得た。
チレン／無水マレイン酸水溶液／♂、／Ｐ１蒸留水２６
．♂りの混合物を硫酸でｐＨ３，ｊに調整し、更に尿素
グ。ｔｙ、レゾルミンＯ０にノを加え、この溶液に先の
オイル相を乳化分散した。ついで３乙チホルマリン／コ
、りｙを加え攪拌しつつ６θ０Ｃまで昇温し、７時間後
に！チ硫酸アンモニウム水溶液９Ｆを加え、更に乙０°
Ｃに保ちつつ７時間攪拌後冷却した。その後ＮａＯＨに
よりｐＨを７．０とした０ （２）こうして得たカプセル液！りに／ｊ％ＰＶＡ水溶
液／、！３７．蒸留水３，４ｔ７ｐ、でんぷん０．Ｊ−
７１を加え塗布液とした。これをコーティングロッド＃
／θを用いてアート紙に塗布し、７００°Ｃでコ分間乾
燥させ、感光シートを得た。
（８） ／！ＯＷ超高圧水銀灯、レンズ、ミラーより
なる露光装置により、反射原稿の像を上述の感光シート
に焼き付けた後、表面を常法により砂目立てし、陽極酸
化したアルミニウム板と、カプセル塗層側と陽極酸化し
た側が対向するよう重ねて加圧ローラーを通した。未露
光部のカプセルは破壊され、その内容物が転写された。
なる露光装置により、反射原稿の像を上述の感光シート
に焼き付けた後、表面を常法により砂目立てし、陽極酸
化したアルミニウム板と、カプセル塗層側と陽極酸化し
た側が対向するよう重ねて加圧ローラーを通した。未露
光部のカプセルは破壊され、その内容物が転写された。
ついで全面露光を施してオフセット印刷版を得た。
（４） このようにして得られたオフセット印刷版を
用いて印刷した結果、非常に良好な画像を得た。
用いて印刷した結果、非常に良好な画像を得た。
また耐刷性も３，０００枚以上であった。
Claims (1)
- 支持体上に光重合性モノマーを含有するマイクロカプセ
ルを塗布し、該塗層面に画像露光を施し、露光部のカプ
セルを硬化後、親水性表面を有する基板と重ねて加圧し
、未露光部のカプセル中の光重合性モノマーを該基板に
転写し、転写された基板を全面露光することによりなる
オフセット印刷版の製造法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60031239A JPS61281242A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | オフセツト印刷版の製造法 |
| DE19863605120 DE3605120A1 (de) | 1985-02-19 | 1986-02-18 | Verfahren zur herstellung von offset-druckplatten |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60031239A JPS61281242A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | オフセツト印刷版の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61281242A true JPS61281242A (ja) | 1986-12-11 |
Family
ID=12325837
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60031239A Pending JPS61281242A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | オフセツト印刷版の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61281242A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63260029A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-10-27 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 高周波電力を使用した処理装置 |
| JPH02176663A (ja) * | 1988-09-05 | 1990-07-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS539519A (en) * | 1976-07-14 | 1978-01-28 | Ricoh Co Ltd | Photosensitive material for forming color image |
| JPS5315906A (en) * | 1976-07-26 | 1978-02-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method of producing photoosensitive lithographic press plate |
| JPS58224752A (ja) * | 1982-06-24 | 1983-12-27 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | オフセツト印刷版の製造法 |
-
1985
- 1985-02-19 JP JP60031239A patent/JPS61281242A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS539519A (en) * | 1976-07-14 | 1978-01-28 | Ricoh Co Ltd | Photosensitive material for forming color image |
| JPS5315906A (en) * | 1976-07-26 | 1978-02-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method of producing photoosensitive lithographic press plate |
| JPS58224752A (ja) * | 1982-06-24 | 1983-12-27 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | オフセツト印刷版の製造法 |
Cited By (2)
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| JPS63260029A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-10-27 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 高周波電力を使用した処理装置 |
| JPH02176663A (ja) * | 1988-09-05 | 1990-07-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
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