JPS60233644A - 非銀感光性組成物の製造方法 - Google Patents

非銀感光性組成物の製造方法

Info

Publication number
JPS60233644A
JPS60233644A JP8934184A JP8934184A JPS60233644A JP S60233644 A JPS60233644 A JP S60233644A JP 8934184 A JP8934184 A JP 8934184A JP 8934184 A JP8934184 A JP 8934184A JP S60233644 A JPS60233644 A JP S60233644A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
photosensitive
acid
organic solvent
dispersion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8934184A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoru Hasegawa
哲 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP8934184A priority Critical patent/JPS60233644A/ja
Priority to DE19853516387 priority patent/DE3516387A1/de
Publication of JPS60233644A publication Critical patent/JPS60233644A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/008Azides
    • G03F7/012Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0125Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the macromolecular azides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は非銀感光性組成物の製造方法に関し、更に詳細
には、親油性水不溶性hb vマーを含有する非銀感光
性組成物の製造方法に関する。
〔従来技術〕
従来、非銀感光性組成物を製造するには、非銀感光性化
合物、ポリマーバインダー、染料及び各種添加剤を有機
溶剤に溶解している。
一方、特開昭47−9901号、特開昭52−2520
号公報には、感光性ジアゾ樹脂化合物、重クロム酸塩等
とポリ酢酸ビニル、アクリル系ラテックス重合体水分散
液を加える水現像可能な感光性樹脂組成物が開示されて
いる。また、特開昭59−10946号、特開昭59−
12432号公報には第4級窒素原子を有するラテック
ス重合体の水ないし極性溶剤分散液を加える水現像可能
な感光性樹脂組成物が開示されている。このように、ポ
リマーバインダーを有機溶剤の均一溶液になるように、
ないしは合成ラテックス重合体を分散液として感光性組
成物に加えることは公知である。
上記の如き非銀感光性組成物は何れも支持体等−に塗布
して感光性印刷版等の感光材料として用いられる。しか
し前者の場合は、感光材料を現像するのに、非画像部を
溶解し画像部は溶解しない有機溶剤を含有した現像液が
必要であり水系現像液を用いることができず、また、有
機溶剤を多量に含有する現像液は臭い毒性環境汚染の原
因となり好ましくない。後者の場合は合成ラテックス重
合体の水ないしは極性溶剤分散液に限られているため感
光材料とした場合に皮膜強度が弱かったり、親油性が低
かったりして感光材料の性能が劣る。
本発明者は、水系現像液を用いることができ、皮膜強度
がすぐれ、親油性が高い(印刷適性の優れた)非銀感光
材料を与え得る非銀感光性組成物を開発すべく種々検討
し、親油性水不溶性ポリマーの水性分散物を用いること
によって水系現像が可能で、すぐれた皮膜強度と親油性
を有する感光材料を与える感光性組成物が得られること
を見出し、このようなポリマーを含む非銀感光性組成物
の製造方法について検討した結果、本発明を達成した。
〔発明の目的〕
従って本発明の目的は、任意の親油性水不溶性ポリマー
を微粒子分散液として感光性組成物に加える方法を提供
することにある。他の目的は水系現像液で現像可能な非
銀感光性画像形成材料に適した感光性組成物の製造方法
を提供することにある。
〔発明の構成〕 本発明者は鋭意研究を進め、本発明の目的が感光性成分
を有機溶剤に溶解し、該有機溶剤溶液を水中で乳化分散
した液と親油性水不溶性ポリマーを有機溶剤に溶解し該
有機溶剤浴液を水中で乳化分散した液を混合することに
よって達成されることを見い出した。
本発明によって得られる感光性組成物塗布液は、支持体
上に塗設することによって感光層を構成して、平版印刷
版、校正用材料、丈にはプリント配線基板用のし夛スト
、−IC製造用のレジストとして用いるのに適切である
以下、本発明を更に詳細に説明する。
(非銀感光性組成物) 本発明に有用な非銀感光性成分には、次のようなものが
含まれる。
(1)ジアゾ樹脂からなる感光性成分 P−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドと
の縮合物に代表されるジアゾ樹脂は、水溶性のものでも
、水不溶性のものでも良いが、好ましくは、水不溶性か
つ通常の有機溶媒に可溶性のものが使用される。特に好
ましいジアゾ化合物としては、P−ジアゾフェニルアミ
ンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒrとの縮合物
の塩、例tばフェノール塩、フルオロカプリン酸塩、及
びトリイソプロピルナフタレンスルホン酸、4.4−ビ
フェニルジスルホン酸、5−ニトロオルト−トルエンス
ルホン酸、5−スルホサリチル酸、2゜5−:)メチル
ベンゼンスルホン酸、2−ニトロインゼンスルホン酸、
3−クロロベンゼンスルホン酸、3−#ロモベンゼンス
ルホン酸、2−クロロ−5−ニド0(ンゼンスルホン酸
、2−フルオルカプリルナフタレンスルホン酸、1−ナ
フトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒト9
四オキシ−5−ペンゾイルーインゼンスルホン酸及びパ
ラトルエンスルホン酸などのスルホン酸の塩などのよう
に一分子中に2個以上のジアゾ基を有する化合物である
。この他望ましいジアゾ樹脂としては上記の塩を含む2
.5−ジメトキシ−4−p−トリルメルカプトンベンゼ
ンジアゾニウムとホルムアルデヒrの縮合物、2.5−
ジメトキシ−4−モルホリノでンゼンジアゾニウムとホ
ルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物が含
まれる。
また、英国特許第1,312,925号明細書に記載さ
れているジアゾ樹脂も好ましい。
ジアゾ樹脂は、単独でレジストの作成に使用される感光
物となり得るが、好ましくはバインダーと共に使用され
る。
かかるバインダーとしては、種々の高分子化合物が使用
され得るが、ヒドロキシ、アミン、カルボン酸、アミド
、スルホンアミド、活性メチレン、チオアルコール、エ
ポキシ等の基を含むものが好ましい。このような好まし
いバインダーには、英国特許第1,350,521号明
細書に記されているシェラツク、英国特許第1,460
,978号および米国特許第4,123,276号の各
明細書に記されているようなヒドロキシエチルアクリレ
ート単位またはヒドロキシエチルメタクリレート単位を
主なる繰り返し単位として含むポリマー、英国特許第1
,074,392号明細書に記されているフェノ−ル樹
脂等が包含される。
バインダーの含有量は、感光性レジスト形成性成分中に
40〜95重量%含まれているのが適当である。バイン
ダーの量が多くなれば(即ち、ジアゾ樹脂の量が少なく
なれば)感光性は当然大になるが、経時安定性が低下す
る。最適のバインダーの量は約70〜90重量%である
ジアゾ樹脂からなる成分には、更に、米国特許第3,2
36,646号明細書に記載されている燐酸、染料や顔
料などの添加剤を加えることができる。
(2)O−キノンジアジトイし金物からなる感光性成分
特に好ましい0−キノンジアジド化合物は0−ナフトキ
ノンジアジド化合物であり、例えば米国特許第2,76
6,118号、同第2,767,092号、同第2,7
72,972号、同第2,859,112号、同第2,
907,665号、同第3,046,110号、同第3
,046,111号、同第3,046,115号、同第
3,046,118号、同第3,046,119号、同
第3,046,120号、同第3,046,121号、
同第3,046,122号、同第3,046,123号
、同第3,061,430号、同第3,102,809
号、同第3,106,465号、同第3,635,70
9号、同第3,647,443号の各明細書をはじめ、
多数の刊行物に記されており、これらは好適に使用する
ことができる。これらの内でも、特に芳香族ヒト四キシ
化合物の0−す7トキノンジアジドスルホン酸エステル
または′0−す7トキノンジアジドカルボン酸エステル
、および芳香族アミノ化合物のO−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸アミド9または0−す7トキノンジアジド
カルボン酸アミドが好ましく、特に米国特許第3,63
5,709号明細書に記されているピルガ四−ルとアセ
トンとの縮合物にO−ナンドキノンジアジドスルホン酸
をエステル反応させたもの、米国特許第 4.028,111号明細書に記されている末端にヒド
ロキシ基を有するポリエステルに。−す7トキノンジア
ジドスルホン酸、または□−ナフトキノンジアジドカル
ボン酸をエステル反応させたもの、英国特許第1,49
4,043号明細書に記されてぃ6 J: 5 すp−
ヒトjキシスチレンのホモホリ−y −またはこれと他
の共重合し得るモノマーとの共重合体に0−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸またはO−ナンドキノンジアジド
カルボン酸をエステル反応させたものは非常にすぐれて
いる。
これらの0−キノンジアジド化合物は、単独で使用する
ことができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合して用いた
方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂には、ノボ2
ツク型フエノール樹脂が含まれ、・具体的には、フェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、o−pレゾールホルムアル
デヒra脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂など
が含まれる。更に米国特許第4,123,279号明細
書に記されている様に上記のようなフェノール樹脂と共
に、t−メチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のよう
な炭素数3〜8のアルキル基で置換されたフェノールま
たはクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用
すると、より一層好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、感光性レジスト形成性成分の全
重量を基準として中に約50〜約85重量%、より好ま
しくは60〜80重量%、含有させられる。
0−キノンジアジド9化合物からなる感光性成分には、
必要に応じて更に顔料や染料、可塑剤などを含有させる
ことができる。
(3)感光性アジド化合物からなる感光性成分適当な感
光性アジド化合物としてはアジド基が直接又はカルボニ
ル基又はスルホニル基を介して芳香環に結合している芳
香族アジド化合物がある。
これらは光によりアジド9基が分解して、ナイトレンを
生じ、ナイトレンが種々の反応を起こして不溶化するも
のである。好ましい芳香族アジド化合物としては、アジ
ドフェニル、アジドスチリル、アジドはンザル、アジド
インジイル及びアジドシンナモイルの如き基を1個又は
それ以上含む化合物で、たとえば4,4′−ジアジドカ
ルプン、4−アジド−4’−(4−アジドベンゾイルエ
トキシ)カルコン、N、N−ヒス−p−アジドベンザル
−P−フェニレンジアミン、1,2.6−()す(4′
−アジドベンゾキシ)ヘキサン、2−アジド−3−クロ
ロ−ベンゾキノン、2.4−ジアジド−4′−エトキシ
アゾインゼ/、2.6−ジ(4′−アジドベンザル)−
4−メチルシクロヘキサノン、4.4′−ジアジドベン
ゾフェノン、2,5−ジアジド−3,6−シクロロベン
ゾキノン、2,5−ビス(4−アジビスチリル)−1,
3,4−オキサジアゾール、2−(4−アジドシンナモ
イル)チオフェン、2,5−ジ(4/−アジドベンザル
)シクロヘキサノン、4.4’−ジアジドジフェニルメ
タン、1−(4−アジドフェニル)−5−フリル−2−
ペンタ−2,4−ジエン−1−オン、1−(4−アジド
フェニル)−S−(4−メトキシフェニル)−ペンタ−
1,4−ジエン−3−オン、1−(4−アジドフェニル
)−3=(1−ナフチル)プロペン−1−オン、1−(
4−アジドフェニル)−3−(4−ジメチルアミノフェ
ニル)−プロパンー1−オン、1−(4−アジド9フエ
ニル)−5−フェニル−1,4−ペンタジェン−3−、
オン、1−(4−アジドフェニル)−3−(4−ニトロ
フェニル)−2−プロペン−1−オン、1−(4−アジ
ドフェニル)−3−(2−フリル)−2−プロイン−1
−オン、1.2.6−トリ(4′−アジドベンゾキシ)
ヘキサン、2.6−ビス−(4−アジド9ベンジリジン
−p−t−ブチル)シクロヘキサノン、4.4’−シア
:)ドベンザルアセトン、4−4’−ジアジドスチルベ
ン−2,2’−ジスルホン酸、4′−アジド9ベンザル
アセトフェノン−2−スルホン酸、4.4′−ジアジド
9スチルベン−α−カルボン酸、ジー(4−アジド−2
′−ヒドロキシインザル)アセトン−2−スルホン酸、
4−アジドベンザルアセトフェノン−2−スルホン酸、
2−アシtj−1,4−ジベンゼンスルホニルアミノナ
7タレン、4,4′−ジアジビースチルベン−2,2′
−ジスルホン酸アニリド等をあげることが出来る。
またこれらの低分子量芳香族アジド化合物以外にも特公
昭44−9047号、同44−31837号、同45−
9613号、同45−24915号、同45−2571
3号、特開昭50−5102号、同50−84302号
、同50−84303号、同53−12984号の各公
報に記載のアジド基含有ポリマーも適当である。
これらの感光性アジド化合物は、好ましくはバインダー
としての高分子化合物と共に使用される。
好ましいノ2インダーとしてはアルカリ可溶性樹脂があ
り、例えばシェラツク、ロジンなどの天然樹脂、例えば
フェノールホルムアルデヒド樹脂、等−クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂ナトのノボ2ツク型フエノール樹脂、
例えばポリアクリA[、ポリメタクリル酸、メタクリル
酸−スチレン共重合体、メタクリル酸−アクリル酸メチ
ル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体などの
不飽和カルボン酸の単蝕重合体またはこれと他の共重合
し得るモノマーとの共重合体、ポリ酢酸ビニルの部分ま
たは完全けん化物を例えば、ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、カルボキシベンズアルデヒドなどのアルデヒドで部
分アセタール化した樹脂、ポリヒドロキシスチレンなど
が含まれる。
バインダーは、感光性アジド化合物からなる組成物の全
重量に対して約10重量%から約90重量−の範囲で含
有させることが好ましい。
感光性アジド化合物からなる成分には、更に染料や顔料
、例えばフタル酸エステル、燐酸エステル、脂肪族カル
ボン酸エステル、グリコール類、スルフォンアミド類な
どの可塑剤、例えばミヒラーケトン、9−フルオレノン
、1−ニド四ピレン、1.8−ジニト四ピレン、2−り
no−1,2−(ンズアントラキノン、2−プロモー1
.2−ベンズアンドンキノン、ピレン−1,6−キノン
、2−クロロ−1,8−7タ四イルナフタレン、シアノ
アクリジンなどの増感剤などの添加剤を加えることかで
重合体主鎖又は側鎖に感光性基として の(2−プロはリデン)マロン酸化合物及び二官能性グ
リコール類から誘導される感光性ポリエステル類を主成
分としたもの(例えば米国特許第2.956,878号
及び同第3,173,787号の各明細書に記載されて
いるような感光性重合体);ポリビニールアルコール、
 澱粉、セルロース及びその類似物のような水酸基含有
重合体のケイ皮酸エステル類(例えば米国特許第2,6
90,966号、同第2,752,372号、同第2,
732,301号等の各明細書に記載されているような
感光性重合体)及び特公昭57−42858号の明細書
に記載されているような感光性重合体等が包含される。
これらの成分中には他に増感剤、安定化剤、可凰剤、顔
料や染料等を含ませることができる。
(5)付加重合性不飽和化合物からなる光重合性成分 この成分は、好ましくは、(α)少なくとも2個の末端
ビニル基を有するビニル単量体、(b)光重合開始剤及
び(C)バインダーとしての高分子化合物からなる。
(α)のビニル単量体としては、特公昭35−5093
号、特公昭35−14719号、特公昭44−2872
7号の各公報等に記載される、ポリオールのアクリル酸
またはメタクリル酸エステル、すなわちジエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプキパントリ(
メタ)アクリレート等、あるいはメチレンビス(メタ)
アクリルアミド、エチレンビス(メタ)アクリルアミド
の様なビス(メタ)アクリルアミド類、あるいはウレタ
ン基を含有する不飽和単量体、例えばジー(2′−メタ
クリロキシエチル)−2,4−トリレンジウレタン、ジ
ー(2′−7クリロキシエチル)トリメチレンジウレタ
ン等の様なジオールモノ(メタ)アクリレートとジイソ
シアネートとの反応生成物等が掲げられる。
(b)の光重合開始剤としては、例えば、J、コーサー
著「ライト・センシティブ・システムズJ第5章に記載
されているようなカルボニル化合物、有機硫黄化合物、
過硫化物、レドックス系化合物、アゾ並びにジアゾ化合
物、ハロゲン化合物、光還元性色素などがある。更に具
体的には英国特許第1.459,563号明細書の中に
開示されている。
一方、(C)のバインダーとして公知の種々のポリマー
を使用することができる。具体的なバインダーの詳細は
、米国特許第4,072,527号明細書に記されてい
る。更に英国特許第1,459,563号明細書に記さ
れている塩素化ポリオレフィンは、特に好ましいバイン
ダーである。
(α)と(C)は重量比で1:9から6:4の範囲で組
合せ含有される。また成分(b)は成分(cL)を基準
として、0.5〜10重量%の範囲で含有させられる。
光重合性成分には、更に、熱重合禁止剤、可塑剤、染料
や顔料を含着させることができる。
(6)酸により分解する化合物よりなる感光性成分 この成分は、好ましくは、(α)活性光線の照射により
酸を発性する化合物、<b>酸により分解する化合物、
(C)バインダーとしての高分子化合物からなる。
(α)の活性光線の照射により酸を発生する化合物とし
ては、ジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム、及
びヨードニウムのBF″4.PF″6.SAF;。
F3iF、、−,010’、などの塩、有機ハロゲン化
合物、オルトキノンジアジドスルホニルクルリド、有機
金属/有機ハロゲン化合物組合せ物、米国特許第3.7
79,778号及び西ドイツ国特許第2.610,84
2号の明細書に記載された光分解により酸を発生する化
合物等が掲げられる。
(A)ノ酸により分解する化合物としては、アセタール
又はO,N−7セタ一ル化合物(特開昭48−8900
3号)、オルトエステル又はアミドアセタール化合物(
特開昭51−120714号)、主鎖に7セタール又は
ケタール基を有するポリマーC特開昭53−13342
9号)、エノールエーテル化合物(特開昭55−129
95号公報)、N−アシルイミノ炭酸化合物(特開昭5
5−126236号公報)、及び主鎖にオルトエステル
基を有するポリマーC特開昭56−17345号公報)
、ツルエーテル基を有する化合物(特願昭58−146
095号)等が挙げられる。
(C)のバインダーとしてはアルカリ可溶性樹脂が好ま
しい。好適なアルカリ可溶性樹脂には、ノボラック屋フ
ェノール樹脂が含まれ、具体的には、フェノールホルム
アルデヒド9樹脂、O−クレゾールホルムアルデヒド9
樹脂、簿−クレゾールホルムアルデヒド樹脂などが含ま
れる。更に米国特許第4.123,279号明細書に記
されている様に上記のようなフェノール樹脂と共に、t
−プチルフェノールホルムアルデヒr樹脂のような炭素
数3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたはク
レゾールとホルムアルデヒド゛との縮合物とを併用する
と、より一層好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、感光性
レジスト形成性組成物の全重量を基準として中に約30
〜約90重量%、より好ましくは50〜80重量%、含
有させられる。
必要に応じて、更に染料、顔料、可塑剤及び前記酸を発
生し得る化合物の酸発生効率を増大させる化合物(所謂
増感剤)などを含有させることができる。好適な染料と
しては油溶性染料及び塩基性染料がある。具体的には、
オイルイエローナ101、オイルイエローナ130、オ
イルピンフナ312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBO8,オイルプルーナ603、オイルブラックBY
、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以
上、オリエント化学工業株式会社製)クリスタルバイオ
レット(CI42555)、メチルバイオレット1I4
2535)、ローダミンB(CI45170B)、マラ
カイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(
CI52015)などをあげることができる。
(親油性水不溶ポリマー) 一方、本発明に有用な親油性水不溶ポリマーは水との接
触角が50°以上であることが好ましく、水不溶性は2
5Cの純水に対して0.1%以下であることが好ましく
、次のようなものが含まれる。
各種のビニル重合体、例えばポリアクリル酸エステル、
ポリメタアクリル酸エステル、メタアクリル酸/メタア
クリル酸エステル共重合体、アクリル酸/アクリル酸エ
ステル共重合体、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、メタ
アクリル酸/アクリル酸エステル共重合体、ポリアクリ
ロニトリル、塩化ビニリデン/アクリロニトリル共重合
体、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアセ
タール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミr樹脂、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリイソプレン、ポリシタ
ジエン、ポリクロロプレンアルキッド樹脂、エポキシ樹
脂、ポリサルファイド、線状ポリウレタン、酢酸上ルp
−ス、セルロースアルキルエーテル、セルp−スアセテ
ート7タレート、ネオプレンブナN、ブナS、有機シリ
コーン含有樹脂等がある。これらポリマーは1種又は2
s以上混合して使用することができる。更にこれらポリ
マーには染料、可塑剤等の添加剤、及び感光性成分のバ
インダーとして使用する各種ポリマー・を加えることが
できる。親油性水不溶ポリマーの含有量は、全感光性組
成物中に2〜90重量%含まれているのが適当である。
親油性水不溶ポリマーの量が多くなれば現偉液に対する
溶出性が劣る。最適の親油性水不溶ポリマーの量は全感
光組成物の2〜70重量%である。
〔支持体〕
本発明に使用できる支持体としては、適当な表面処理を
施したアルミニウム、紙、プラスチックフィルム、及び
それらの積層体があげられる。プラスチックフィルムの
材質は例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル等のビニ
ル重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
−2,6−す7タレート等のポリエステル、セルロース
トリアセテート等のセルロースアセテートがあげられる
。積層体としては、紙の両脚を、表面処理を施したアル
ミニウムで被覆したもの、ポリエチレンテレフタレート
フィルムの両側もしくは片側を、表面処理を施したアル
ミニウムで被覆したもの、ポリプロピレンフィルムの両
側もしくは片側を、表面処理を施したアルミニウムで被
覆したもの等があげられる。
〔感光性組成物水分散液〕
本発明になる感光性組成物の水分散液は一般的に次のよ
うにして製造する。前記の非銀感光性成分及び親油性水
不溶性ポリマーをそれぞれ適当な1種または2種以上の
有機溶剤に溶解し、有機溶剤溶液とする。好ましい溶剤
としては水に対する溶解度が大きくなく<25Cで40
96以下)、沸点が低い(1気圧で150tl’以下)
か又は水と共沸して水より沸点が低く、上記成分を溶解
すればどのような溶剤でもよい。例えば、エチレンジク
ロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、エ
チレンクリコールモノメチルエーテル、エチレンクリコ
ールモノエチルエーテル、ジメチルホルムアミド9、ジ
エチルホルムアミド、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、テトラヒト90フラン、メチルセロソルゾ、ブチル
アルコール、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロルエ
タン、インイン、メチルイソジチルケトン等が挙げられ
る。有機溶剤溶液中の溶剤以外の成分の濃度は一般に2
〜80重量%が好ましい。
次いで上記の2種類の有機溶剤溶液をそれぞれ水中で乳
化分散する。乳化分散する際に分散安定剤として親水性
コロイド、界面活性剤を使用することが有利な場合があ
る。親水性コロイドとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導
体(例えばアセチル化ゼラチン、フタル化ゼラチン等)
、アルブミン、カゼイン等の蛋白質類、コ四ジオン、ア
ラビアガム、寒天、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、ポリアクリル酸塩、ポリメタアクリル酸塩
等が挙げられる。界面活性剤としてはポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル類、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル
類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレン
ソルビタン脂肪酸エステル類、グリセリン脂肪酸エステ
ル類などの非イオン界面活性剤、例えば脂肪酸塩類、ア
ルキル硫酸エステル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸
塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、ジアルキル
スルホこはく酸エステル塩類、アルキル燐酸:tスfk
塩IR1f7fiレンスルホン酸ホルマリン縮金物、ポ
リオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩類などのアニ
オン界面活性剤、及び例えばアルキルアミン塩類、第4
級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミ
ン塩類などのカチオン界面活性剤が挙げられる。これら
分散安定剤は単独で用いても、2種以上混合して使用し
てもよい。これら分散安定剤は有機溶剤溶液または水中
のいづれか一方、あるいは両者に添加して使用する。使
用量は有機溶剤溶液の0.01〜10重量−が好ましい
。使用する水の量は有機溶剤溶液1重量に対して0,2
〜20重量%が好ましい。
乳化分散するために使用する乳化装置としては、処理液
に大きな剪断力を与えるものか、又は高強度の超音波エ
ネルギーを与えるものが適している。
%にコロイドミル、ホモジナイザー、毛細管式乳化装置
、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛
を有する乳化装置が良好な結果を与えることができる。
好ましくは得られた乳化分散液を攪拌しながら加熱する
ことによって使用した有機溶剤を除去する。除去する有
機溶剤の量は20重量−以上、好ましくは50重量%以
上である。除去する有機溶剤の量が少ないと微粒子分散
液とし添加した効果が小さくなる。有機溶剤の除去は減
圧下で行なうことにより低温で効率よく行なえる。感光
性成分分散液及び親油性水不溶ポリマー分散液それぞれ
別々に有機溶剤を除去してから所定の割合に混合しても
よいし、両者を所定の割合に混合してから有機溶剤を除
去してもよい。
本発明の分散物の粒径は、約ionμ以下のものは調整
困難であり実用的ではない。通常は10mμ〜5μ、好
ましくは10mμ〜3μ程度で、乳化の条件を適当に選
んで調整することができる。
粒径が大きいと最終的に得られた画像の解像力が悪くな
る。
乳化分散物の水中にしめる割合は2〜70重量−が適当
である。
〔画像形成材料〕
本発明によって得られた感光性組成物水分散液による感
光層の塗布量は、0.117m 2〜10117m 2
の範囲がよく、より好ましくは0.211/m 2〜6
み珈2の範囲である。塗布量が少なくなるにつれて感光
性現像性はすぐれるが、感光膜の物性は低下する。
本発明に係る感光性組成物水分散液を用いて画像形成材
料を製造するには、グラビアコート、バーコード、リバ
ース四−ルコート、ホ”)イラ−1スピーテー、カーテ
ン、エクストルージョンヒ−1、スライスピード等の塗
布装置を用いて塗布し乾燥する。
上記のようにしてつくられた画像形成材料は、まず活性
光線により露光される。活性光線の光源としては例えば
、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、チ
ミカルランプ、カーボンアーク灯などがある。また高密
度エネルギービーム(レーザービーム又は電子線)によ
る走査露光も本発明に使用することができる。このよう
なレーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザ−、
アルビンレーザー、クリプトンイオンレーザ−、ヘリウ
ム・カドミウムレーザーなどである。
露光後の画像形成材料は、適当な水系現像液に浸漬して
現像する。本発明に係る水系現像液は次のようなものが
含まれる。pH8〜13.5を有するアルカリ水溶液。
アルカリ性は水溶性の無機塩基化合物(例えばアルカリ
金属の水酸化物、リン酸塩、硫酸塩、ケイ酸塩、炭酸塩
およびこれらの混合物)、塩基性の水溶性の水溶性有機
化合物、例えばアミン類(例えばトリエタノールアミン
、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール等)及び
これらの組合により付与する。水と有機溶媒との混合溶
液で有機溶媒が約20重量−以下含有している溶液。有
機溶媒としては、アルコール(例LkL /+)セロー
ル、ベンジルアルコール、2−フェノキシエタノール、
2−ブトキシェタノール、1、2− フロパンジオール
、5ec−ifルアルコール、アルキレングリコール等
)、酢酸ブチルのよ5 f、エステル、メチルセロソル
ブのようなエーテル、シクロヘキサノン及びアセトンの
ようなケトン等が挙げられる。
更に界面活性剤を約20重量−以下含有している溶液。
界面活性剤としてはアニオン界面活性剤、ノニオン界面
活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤を用いる
ことができる。更にサルチル酸のような酸を含有してい
る溶液。そしてこれらすべての化合物を1種又は2種以
上混合して用いる。現像の際、スポンジ等の適当な材料
を用いて材料表面を擦接することにより現像をより効果
的に行なうことができる。
〔本発明の効果〕
本発明による感光性組成物の製造方法により、任意の親
油性水不溶性ポリマーを微粒子分散液として感光性組成
物中に加えることができ、得られた感光性画像形成材料
は水系現像液で現像することができる。
実施例1 特開昭56−28893号公報に開示された方法により
基板を作製した。即ち、厚さ0.241にのアルミニウ
ム板をナイロンブラシと40oメツシユのパミヌトンの
水懸濁液を用い、その表面を砂目型てした後、よく水で
洗浄した。次いで1(1水酸化ナトリウムに70Cで6
0秒間浸漬してエツチングした後、流水で水洗後20%
HNO3で中和洗浄し、水洗した。これを陽極時電圧が
12.7Vで陽極特電気量に対する陰極特電気量の比が
0.8の条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1チ硝
酸水溶液中で160り一四ン/d m 2の電気量で電
解粗面化処理を行った。このときの表面粗さを測定した
ところ0.6μ(Rα表示)であった。
ひきつづいて30%の硫酸中に浸漬し55cで2分間テ
スマットした後、20チ硫酸中、電流密度2 A/ム2
において厚さが2.7117m2になるように2分間陽
極酸化処理した。その後70cの珪酸ソーダ2.5チ水
溶液に1分間浸漬後水洗乾燥した。
このようにして準備された基板の上に、次のようにして
調液した水分散感光液を乾燥後の皮膜が2.5μになる
よ5被驕して試料を得た。
(感光性成分を含む水分散液) 下記の有機溶剤溶液(5)を調液した。
ペンタエリスリトールナト2アクリレ−) 17.5.
9油溶性青色染料(C,1,42595) 0.8.9
ジラウリルスルホこはぐ酸ナトリウ゛、A :1エチレ
ンジクロ2イド 150II メチルエチルケトン 150.9 次いで、該溶液図1009に水1009を加えてホモジ
ナイザーを用いて5分間高速攪拌を行ない乳化分散液を
作った。この乳化分散液を攪拌しなから85rに加熱し
有機溶剤を除去した。これに水を加え固形分濃度を10
%に調整し、安定な水分散液(I)を得た。
(親油性水不溶性ポリマー水分散液) 次に下記の有機溶剤溶液(B)を調液したポリメチルメ
タアクリレート 50I ジラウリルスルホコノ1り酸ナトリウム 3Iエチレン
ジクロライド 150I メチルエチルケトン 150g 該溶液(s)zoosに水10 ’0 、Pを加えてホ
モジナイザーを用いて5分間高速攪拌を行ない乳化分散
液を作った。この乳化分散液を攪拌しなから85Cに加
熱し、有機溶剤を除去した。加水し、固形分濃度を10
チに調整し、安定な水分散液(l[)を得た。
水分散液(I)を60重量部と水分散液(1)を40重
量部とを混合し、前記支持体に塗布しサンプル?)を得
た。比較のために有機溶剤溶液(8)との)を各々の固
形分重量比が60 : 40になるように混合し前記支
持体に塗布し比較試料Qを得た。
これらのサンプルP)および(Q)の上にネガ画像フィ
ルムを重ねて米国バーキーテクニカル社製バーキープリ
ンター(アイコーアダルックス2KW)で露光し、次に
示す現像液に室温で50秒間浸漬し脱脂綿で表面を軽く
こすり現像し印刷版を得た。
亜硫酸ナトリウム 5.9 ベンジルアルコール 30.9 炭酸ナトリウム 5g イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム 12y
水 1000F サンプル(ト)は非画像部が完全に除去でき、枚葉オフ
セット印刷機にかけて上質紙に印刷したところ汚れのな
い良好な印刷物が得られた。一方比較サンプル(qは非
画像部が除去できなかった。
実施例2 実施例1と同じ基板の上に、次のようにして調液した水
分散感光液を乾燥後の皮膜が2.5μになるよう被覆し
て試料を得た。
(lG光性成分を含む水分散液) 下記の有機溶剤溶液0を調液した。
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート 411エ
チレンジクロ2イド 500.9 1 2−メトキシエタノール 250# 上記有上記剤溶液を用い前記と同じ方法で水分散液(2
)を得た。
水分散液(2)を70重量部と水分散液(][)330
重量とを混合し、前記支持体に塗布しサンプル向を得た
。比較のために有機溶剤溶液(qとの)を各々の固形分
重量比が70 : 30になるように混合し前記支持体
に塗布し、比較試料β)を得た。これらのサンプル@お
よび(S)の上にネガ画像フィルムを重ねバーキープリ
ンターで露光し、次に示す現像液に室温で60秒間浸漬
し脱脂綿で表面を軽くこすり現像し、印刷版を得た。
ベンジルアルコール 3011 トリエタノールアミン 1oI 亜硫酸ナトリウム 2g ニトリロトリ酢酸ナトリウム 0.5,9水 950I サンプル(5)は非画像部が完全に除去でき、枚葉オフ
セット印刷機にかけて上質紙に印刷したところ汚れのな
い良好な印刷物が得られた。一方比較すンプル但)は非
画像部が除去できなかった。
実施例3 厚さ0.24mのIsアルミニウム板を8Orに保った
第3燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸漬して脱
脂し、ナイロンズラシで砂目型てした後、アルミン酸ナ
トリウムの25%(NcLOHとして)水溶液で約10
秒間エツチングして、硫酸水素ナトリウム3%水溶液で
デスマット処理を行った。このアルミニウム板を20チ
硫酸中で電流密度2A/chyz2において2分間陽極
酸化を行いアルミニウム板を作った。このようにして準
備された基板の上に、次のようにして調液した水分散液
を乾燥後の皮膜が2,5μになるよう被板して試料を得
た。
(感光性成分を含む水分散液) 下記の有機溶剤溶液の)を調液した。
油溶性染料(CI42595) 0.619メチルエチ
ルケトン 300.9 該溶液(D)100gに水150gを加えて、実施例1
と同様にして10チ水分散液(■)を得た。
←親油性水不溶性ポリマー水分散液) 次に下記の有機溶剤溶液(6)を調液した。
メチルエチルケトン 3009 該溶液但)10011に水150.9を加え実施例1と
同じ方法で水分散液(7)を得た。
水分散液(ff) 85重量部と水分散液(V)15重
量部とを混合し、前記支持体に塗布しサンプルα)を得
た。比較のために有機溶剤溶液の)と(ト)を各々の固
形分重量比が85:15になるように混合し、前記支持
体に塗布し、比較試料側を得た。
これらのサンプルα)および側の上にポジ画像フィルム
を重ねてバーキープリンターで露光し、現像液(S龜0
2/Nα20=1.2(モル比)でsio□の含量が1
.5%の珪酸ナトリウム水溶液)に室温で30秒間浸漬
し脱脂綿で表面を軽くこすり現像し、印刷版を得た。
サンプルσ)は非画像部が完全に除去でき、枚葉オフセ
ット印刷機にかけて上質紙に印刷したところ汚れのない
良好な印刷物が得られた。一方、比較サンプル側は非画
像部が除去できなかった。
ヘ ノ 手続補正書 昭和59年8 月2ψ日 昭和59年特許願第 89341 号 2、発明の名称 非鉄感光性組成物の製造カフt 3、補正をする者 事件との関係゛特許出願人 名称 (520) 富士写真フィルム株式会社霞が関ビ
ル内郵便局・私書箱第49号 栄光特許事務所 電話(581)−9601(代表) 
□7、補正の対象 「発明の詳細な説明」の欄 1)明細書の発明の詳細な説明の欄を下記の通り補正す
る。
0第2頁下から7行目の「場合は、」の後に「水不溶性
ポリマーを添加すると、」を加入する。
0第2頁下から3行目の「臭い毒性環境汚染」f[臭い
、毒性、環境汚染」と補正する。
O第18頁下から5行目の「ツルエーテル基」を「シリ
エーテル基」と補正する。
0第21頁6行目の「ポリクロロプレンアルキッド」を
[ポリクロロプレン、アルキッド」と補正する。
O第22頁8行目の「両脚を、」全「両側を、」と補正
する。
O第25頁5行目の「0.2〜203量%」を「0.2
〜20重量」と補正する。
O第25頁下から4行目の「分散液とし」を「分散液と
して」と補正する、 0第25真下から1行目の「親油性水不溶ポリマー」を
「親油性水不溶性ポリマー」と補正する。
0第27頁7行目の「ケミカルランプ」を「ケミカルラ
ンプ」と補正する、 O第28頁3行目の「組合により」を「組合せにより」
と補正する、 0第30頁6行目の「デスマット」を「デスマット」と
補正する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 非釧感光性成分を有機溶剤に溶解し、該有機溶剤を水中
    で乳化分散した液と親油性水不溶性ポリマーを有機溶剤
    に溶解し、該有機溶剤を水中で乳化分散した液を混合す
    ることを特徴とする非銀感光性組成物の製造方法。
JP8934184A 1984-05-07 1984-05-07 非銀感光性組成物の製造方法 Pending JPS60233644A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8934184A JPS60233644A (ja) 1984-05-07 1984-05-07 非銀感光性組成物の製造方法
DE19853516387 DE3516387A1 (de) 1984-05-07 1985-05-07 Lichtempfindliche zusammensetzungen und aufzeichnungsmaterialien

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8934184A JPS60233644A (ja) 1984-05-07 1984-05-07 非銀感光性組成物の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60233644A true JPS60233644A (ja) 1985-11-20

Family

ID=13967992

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8934184A Pending JPS60233644A (ja) 1984-05-07 1984-05-07 非銀感光性組成物の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60233644A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4299912A (en) Process for the production of printing plates
US5368973A (en) Light-sensitive element and process for preparation thereof
US4511640A (en) Aqueous developable diazo lithographic printing plates with admixture of polyvinyl acetate and styrene maleic acid ester copolymer
JP2578020B2 (ja) 現像剤濃縮物、およびそれから調製した、最上層を有する露出陰画処理再生層用の現像剤
JPH0455501B2 (ja)
JPH04162040A (ja) ポジ型フォトレジスト組成物
US4822723A (en) Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates
EP0450199A1 (en) Water developable diazo based lithographic printing plate
JPH09249712A (ja) 感光性組成物に有用な酸無水物改質ポリビニルアセタールの製造法
JP2677460B2 (ja) アルカリ現像性感光性樹脂組成物
EP0256256A2 (de) Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten
DE3915141C2 (de) Entwicklerzusammensetzung für vorsensibilisierte Platten und Verfahren zu deren Entwicklung
JPS6120939A (ja) 平版印刷版用感光性組成物
JPH09235438A (ja) 画像コントラストの改良された水性現像可能なネガ型の感光性組成物
US4539285A (en) Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for photolithography
US4326018A (en) Lithographic printing plate
JP2895214B2 (ja) 陰画処理感光性印刷版の製作方法
JPS60233644A (ja) 非銀感光性組成物の製造方法
JP3004508B2 (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JP3262450B2 (ja) ネガ型感光性平版印刷版の製造方法
US4942109A (en) Light-sensitive composition
JPH0652425B2 (ja) 感光性組成物
EP4229482B1 (en) Polyvinyl acetate based photopolymer
US5081003A (en) Developer compositions for newspaper plates
JPS60233645A (ja) 非銀感光性平版印刷版