JP2895214B2 - 陰画処理感光性印刷版の製作方法 - Google Patents

陰画処理感光性印刷版の製作方法

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JP2895214B2
JP2895214B2 JP2320519A JP32051990A JP2895214B2 JP 2895214 B2 JP2895214 B2 JP 2895214B2 JP 2320519 A JP2320519 A JP 2320519A JP 32051990 A JP32051990 A JP 32051990A JP 2895214 B2 JP2895214 B2 JP 2895214B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、陰画処理感光性化合物、および水には不溶
だが水性アルカリには可溶な重合性結合剤を含み、溶剤
混合物に溶解させた陰画処理感光性混合物を基材に塗布
し、続いて得られた層を乾燥させる、陰画処理感光性平
版印刷版の製作方法に関する。
平版印刷版の製作においては、細片の形で搬送される
感光性混合物を基材に連続的に塗布する。この被覆した
基材を乾燥させ、均一な厚さを有する薄いフィルムを形
成する。したがって、溶剤または溶剤の混合物は、塗布
した後、均一に乾燥し、良好な表面仕上げ（表面化粧）
を示す、すなわち、「フィッシュアイ」、析出物、およ
び「曇り」を抑える必要がある。さらに、溶剤または溶
剤混合物は、大量の残留物を残さずに蒸発できなければ
ならない。
好適な溶剤または溶剤混合物の必要条件は、混合物の
乾燥時間が短いことだけではなく、基材に塗布する前の
溶液の特性によっても限定される。このために、すべて
の層成分が、必要な濃度で理想的に溶解できることが最
も重要である。さらに、溶剤または溶剤混合物は、一定
期間−好ましくは数日間−分解、沈殿、および縮合反応
を起こさない、溶液の安定性を確保しなければならな
い。さらに、安価に入手でき、毒性もできるだけ低くな
ければならない。
DE−A 2,034,655（＝US−A3,790,385）は陰画処理感
光性複写材料用の溶剤混合物を提案しているが、これ
は、そこに記載されている実施例によれば、エチレング
リコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフランおよ
び酢酸ブチルからなる、すなわち、これらの溶剤のすべ
てが140℃以下の沸点を有する。しかし、その様な溶剤
混合物を含む陰画処理感光性混合物は耐性が低い、すな
わち僅か数時間後に沈殿および分解が起こることが分か
っている。その上塗布および乾燥特性があまり良くない
ことも分かっている。
DE−A 3,627,585は、感光性ジアゾニウム樹脂および
水性アルカリに可溶な高分子量結合剤が、沸点の異なる
複数の異なった溶剤に溶解し得る、陰画処理感光性混合
物を原料とする予め増感した平版印刷版の製作方法を記
載している。これらの溶剤の混合物も記載されている。
特に、溶剤の混合物は、EP−A0,184,804および0,152,
819（＝US−A 4,631,245）（２−メトキシエタノールと
テトラヒドロフラン）およびEP−A 0,031,481（酢酸ブ
チル、２−メトキシエタノールおよびテトラヒドロフラ
ン）に記載されている。
DE−A 3,807,406（＝GB−A 2,204,707）は、１−メト
キシ−２−プロパノール、乳酸メチルおよびメチルエチ
ルケトンからなる、陰画処理感光性平版印刷版用の溶剤
混合物を記載している。これらの低沸点溶剤には、高沸
点溶剤を２％まで加えることができる。しかし、上記の
溶剤混合物では、均質な溶液を得ることができず、固体
の一部が不溶のまま後に残る。
結局、先行技術では、非常に希釈した層成分の溶液し
か得られず、そのため、すべての層成分を溶解するに
は、極めて大量の溶剤が必要になる。また、溶剤混合物
により形成した層は、乾燥工程で層の沈殿、層の欠陥お
よび曇った外観を生じる。
本発明の目的は、上記の欠点が無い、陰画処理感光性
平版印刷版の製作方法を提供することである。
この目的は、前文に記載した種類の方法であって、溶
剤として、２重量％を超える、少なくとも一つのジエチ
レングリコールのモノエーテルと、沸点が200℃未満の
一つ以上の有機溶剤との混合物を使用することを特徴と
する方法により達成される。
本発明の溶剤混合物には、先行技術の欠点がない。反
対に、本発明の溶剤混合物は、望ましい高濃度の、安定
した感光性溶液を与え、層成分が早期に沈殿すること無
く、均一に乾燥し、これまで達成できなかった様な均質
な表面を形成し、感光性、現像能力および印刷工程にお
ける無着色性に関して均一な特性を有する平版印刷版を
製作することができる。
ジエチレングリコールのモノアルキルエーテル、特に
モノ（C1−C4）アルキルエーテルが好ましい。これらの
中で、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレング
リコールモノプロピルエーテル、およびジエチレングリ
コールモノブチルエーテルを挙げることができる。上記
のモノアルキルエーテルは、沸点が200℃を超えてい
る。
本発明により使用する混合物の、その他の溶剤とし
て、沸点が200℃未満の低沸点有機溶剤を使用する。特
に、これらの低沸点溶剤は、50〜150℃、好ましくは50
〜100℃の沸点を有する。これらの溶剤は、アセトン、
２−ブタノン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノ
ール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−メトキ
シエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、２−
メトキシ−１−プロパノール、アミルアルコール、テト
ラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、水、トルエン、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエ
ーテル、２−メチルフラン、シクロヘキサノン、メチル
イソブチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソ
プロピルケトン、メチルブチルケトン、ギ酸エチル、ギ
酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジ
エチルエーテル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、γ−ブチロラクトンおよびジアセトンアルコ
ールからなる溶剤グループから選択した一つ以上の溶剤
である。
高沸点モノアルキルエーテルの中で、ジエチレングリ
コールのモノ（C1−C4）アルキルエーテルが特に好まし
い。
低沸点溶剤の中では、特に沸点が200℃未満の、テト
ラヒドロフラン、２−ブタノンおよびエタノールを挙げ
るべきである。
特に好ましいのは、ジエチレングリコールのモノエー
テルの種類の溶剤と、200℃未満の低沸点を有する一つ
以上の溶剤との混合物である。ジエチレングリコールの
高沸点モノエーテルは、溶剤混合物の総重量に対して、
２重量％を超える、特に10重量％を超える、ただし好ま
しくは50重量％未満の濃度で存在する。特に、ジエチレ
ングリコールの高沸点モノエーテルの、低沸点溶剤に対
する混合比は、1:1〜0.2:1、好ましくは1:1〜0.4:1（重
量比）である。
好適な感光性混合物の層組成は、かなり以前なら公知
である。ここでは、DE−A2,034,654（＝GB−A1,358,92
3）およびEP−A0,152,819だけを代表として挙げてお
く。
本発明に係わる方法では、ジアゾニウム塩重縮合生成
物、すなわち、縮合性芳香族ジアゾニウム塩、例えばジ
フェニルアミン−４−ジアゾニウム塩とアルデヒド、好
ましくはホルムアルデヒドとの縮合生成物を感光性化合
物として使用する。ジアゾニウム塩単位に加えて、縮合
性化合物に由来する他の非感光性単位、特に芳香族アミ
ン、フェノール、フェノールエーテル、芳香族チオエー
テル、芳香族炭化水素、芳香族複素環化合物および有機
酸アミドを含む共縮合生成物を使用するのが特に有利で
ある。これらの縮合生成物は、DE−A 2,024,244に記載
されている。DE−A 2,739,774に記載されているジアゾ
ニウム塩重縮合生成物もすべて好適である。
ジアゾニウム塩単位Ａ−N2Xは、好ましくは式（R8−R
9−）pR10−N2Xの化合物から誘導されるが、ここでＸは
ジアゾニウム化合物の陰イオンであり、ｐは１〜３の整
数であり、R8は、活性カルボニル化合物と縮合できる少
なくとも一つの位置を含む芳香族基であり、R10はフェ
ニレン基であり、 R9は単結合または基 −(CH2)q−NR11−、 −Ｏ−(CH2)r−NR11−、 −Ｓ−(CH2)r−NR11−、 −Ｓ−CH2CO−NR11−、 −Ｏ−R12−Ｏ−、 −Ｏ−、 −Ｓ−、または −CO−NR11− の一つであり、ここで ｑは０〜５の数であり、 ｒは２〜５の数であり、 R11は水素、１〜５個の炭素原子を含むアルキル基、７
〜12個の炭素原子を含むアラルキル基、あるいは６〜12
個の炭素原子を含むアリール基であり、 R12は６〜12個の炭素原子を含むアリーレン基である。
現像剤で現像できる混合物は、一般に、５〜90、好ま
しくは10〜70重量％のジアゾニウム化合物を含む。
本発明に関わる感光性混合物を安定化するには、それ
に酸の性質を有する化合物を加えるのが有利である。鉱
酸および強有機酸が適しているが、これらの中でリン
酸、硫酸、過塩素酸、ホウ酸あるいはｐ−トルエンスル
ホン酸が好ましい。特に適した酸はリン酸である。
この混合物には、さらに可塑剤、密着促進剤、染料、
顔料、および発色剤を加えることもできる。
これらの添加剤の性質および量は、感光性混合物の用
途により異なる。これに関して、添加する物質が架橋に
必要な活性線を過度に吸収し、それによって実際の感光
性が低下することが絶対にないようにする必要がある。
本発明で使用する感光性混合物は、さらに、コントラ
スト剤として、並びに層強化剤として作用できる染料お
よび／または顔料を含むことができる。好適な染料は、
例えば、US−A 3,218,167および3,884,693に記載されて
いる。特に好適なのは、例えば、ビクトリアピュアブル
ーFGA、レノールブルーB2G−Ｈ（C.I.74160）、クリス
タルバイオレットまたはローダミン6GDN（C.I.45160）
である。露出後の画像コントラストを増加させるには、
メタニルイエロー（C.I.13065）、メチルオレンジ（C.
I.13025）またはフェニルアゾジフェニルアミンを使用
できる。
分子内に少なくとも一つの光酸化性基およびできれば
少なくとも一つのウレタン基を含む重合性化合物を使用
することもできる。その様なモノマーは、DE−A 3,710,
279、3,710,281および3,710,282に記載されている。
以前の独国特許出願P 3825836.6およびP 3832032.0に
記載され、光酸化性基を含む化合物も使用できる。
光反応開始剤として数多くの物質を使用することがで
きる。その例としては、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ベンゾイン、ベンジル、ベンジルモノケタール、フ
ルオレノン、チオキサントン、多核キノン、アクリジン
およびキナゾリンの親物質から誘導される物質、および
トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−ハロメチル−
５−ビニル1,3,4−オキサジアゾール誘導体、トリクロ
ロメチル基で置換したハロオキサゾール、またはDE−A
3,333,450に記載されているような、トリハロメチル基
を含むカルボニルメチレン複素環式化合物がある。
好ましい光反応開始剤は、DE−A 3,710,281および3,7
10,282に記載されているような、光還元性染料を、特に
照明に当てることによって開裂し得るトリハロメチル化
合物と組合わせた、できれば光反応開始剤として活性の
あるアクリジン、フェナジンまたはキノキサリン化合物
と組合わせたものである。
重合開始剤の総量は、一般的に0.05〜20、好ましくは
0.1〜10重量％である。
意図する用途および望ましい特性に応じて、光重合性
層は、添加剤として各種の物質を含むことができる。そ
の例としては、モノマーの熱重合を防ぐ防止剤、水素供
与体、染料、着色または無色顔料、発色剤、指示薬、可
塑剤および連鎖移動剤がある。これらの成分は、反応開
始過程にとって重要な、活性線照射における吸収ができ
るだけ低くなる様に選択するのが好ましい。
本発明に係わる現像剤は、ジアゾニウム塩重縮合およ
び光重合性化合物の両方を含む陰画処理、感光性層の現
像にも適している。
使用できる結合剤の例としては、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、アルキル基が例えばメチ
ル、エチル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｎ−ヘキシルま
たは２−エチルヘキシルであるポリ（メタ）アクリル酸
アルキル、該（メタ）アクリル酸アルキルと少なくとも
一つのモノマー、例えばアクリロニトリル、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、スチレン、またはブタジエンとの
共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／アクリロニト
リル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン／
アクリロニトリル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニ
ルアルコール、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリ
ル／スチレン共重合体、アクリロニトリル／ブタジエン
／スチレン共重合体、ポリスチレン、ポリメチルスチレ
ン、ポリアミド（例えばナイロン−６）、ポリウレタ
ン、メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセ
ルロース、ポリビニルホルマールおよびポリビニルブチ
ラールがある。
特に好適な結合剤は、水に不溶で、有機溶剤に可溶
で、アルカリ水溶液に可溶もしくは少なくとも膨潤し得
る結合剤である。
特に、カルボキシル基を含む結合剤としては、例え
ば、（メタ）アクリル酸および／またはクロトン酸の様
なそれらの不飽和同族体の共重合体、無水マレイン酸ま
たはその半エステルの共重合体、水酸基を含む重合体と
無水ジカルボン酸との反応生成物およびそれらの混合物
を上げることができる。
さらに、Ｈ−酸基を有し、活性イソシアネートと完全
に、または部分的に反応した重合体の反応生成物、例え
ば水酸基を含む重合体と脂肪族または芳香族スルホニル
イソシアネートまたはホスフィン酸イソシアネートとの
反応生成物が好適である。
さらに、十分な数の遊離OH基を含む、またはアルカリ
水溶液に溶解できるように変性してある水酸基を含む重
合体、例えば（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルの
共重合体、アリルアルコールの共重合体、ビニルアルコ
ールの共重合体、ポリウレタンまたはエポキシ樹脂の様
なポリエステル、あるいは芳香族基と結合した水酸基を
有する重合体、例えば縮合性カルボニル化合物、特にホ
ルムアルデヒド、アセトアルデヒドまたはアセトンとフ
ェノールとの縮合生成物、またはヒドロキシスチレンの
共重合体が好適である。最後に、（メタ）アクリルアミ
ドと（メタ）アクリル酸アルキルとの共重合体も使用で
きる。
上記の重合体は、分子量が500〜200,000以上、好まし
くは1,000〜100,000であり、酸価が10〜250、好ましく
は20〜200、あるいはヒドロキシル価が50〜750、好まし
くは100〜500である場合に特に好適である。
アルカリに可溶な好ましい結合剤としては、（メタ）
アクリル酸と、（メタ）アクリル酸アルキル、（メタ）
アクリロニトリル、等との共重合体、クロトン酸と、
（メタ）アクリル酸アルキル、（メタ）アクリロニトリ
ル、等との共重合体、酢酸ビニルと（メタ）アクリル酸
アルキルとの共重合体、無水マレイン酸と、所望により
置換したスチレン、不飽和炭化水素、不飽和エーテルま
たはエステルとの共重合体、ムスイマレイン酸の共重合
体のエステル化生成物、水酸基を含む重合体とジ−また
はポリカルボン酸無水物とのエステル化生成物、（メ
タ）アクリル酸ヒドロキシアルキルと（メタ）アクリル
酸アルキル、（メタ）アクリロニトリル、等との共重合
体、アリルアルコールと所望により置換したスチレンと
の共重合体、ビニルアルコールと（メタ）アクリル酸ア
ルキルまたは他の重合可能な不飽和化合物との共重合
体、十分な数の遊離OH基を含むポリウレタン、エポキシ
樹脂、ポリエステル、部分的にけん化した酢酸ビニル共
重合体、遊離OH基を含むポリビニルアセタール、ヒドロ
キシスチレンと（メタ）アクリル酸アルキル、等との共
重合体、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、例えばノ
ボラックを挙げることができる。
感光性層中の結合剤の量は、一般に20〜90重量％、好
ましくは40〜80重量％である。
本発明により使用する感光性混合物を塗布する好適な
基材は、寸法安定性の高い基材が好適である。これら
は、通常、印刷版基材を含む。紙、プラスチックフィル
ム、例えばポリエチレンテレフタレートまたは酢酸セル
ロース上にラミネート処理したものを含めて、アルミニ
ウムまたはその合金、金属板、例えば鋼、亜鉛、および
銅板、およびプラスチックフィルムも好適である。特に
好ましいのは、アルミニウム基材である。
アルミニウム基材では、その表面を粗くしたものが好
ましい。当業者には公知の各種の粗粒化方法、特に機械
的、化学的、および電気分解および組み合わせ方法があ
る。続いて、硫酸、リン酸または硝酸等を使用して直流
または交流により表面を陽極酸化することができる。特
に、この様にして前処理したアルミニウム表面を、ポリ
ビニルホスホン酸で後処理する（DE−C 1,134,093、GB
−A 1,230,447）。しかし、例えば、ケイ酸塩、フルオ
ロジルコニウム酸カリウム、リンモリブデン酸塩、ポリ
アクリル酸、ホスホン酸またはフィチン酸による他の後
処理方法も可能である。特に好ましいのは、ポリビニル
スルホン酸の0.1％濃度の水溶液による後処理である。
本発明により使用する陰画処理感光性混合物は、感光
性混合物の全成分に対して、0.3〜5.0g/m2、特に0.5〜
3.5g/m2の量で基材に塗布する。この感光性混合物は、
ハニカム、バー、スプレー、カーテン、ナイフ、または
スピンコーティングなどの公知の方法により塗布する。
低温で予備乾燥することもできる。
本発明で使用する感光性複写材料は、乾燥後、活性線
に露出する。この説明の範囲内では、活性線照射とは、
そのエネルギーが少なくとも可視光線のエネルギーに匹
敵する照射を意味する。特に、可視光線および長波長UV
照射、単波長UV照射、レーザー、電子線およびＸ線照射
も好ましい。感光性は薬200nm〜800nmの範囲であり、非
常に広い範囲に渡っている。
本発明で使用する複写材料のスペクトル感度が広いの
で、当業者には良く知られている光源、例えば管状ラン
プ、キセノンパルスランプ、ハロゲン化金属でドーピン
グした水銀高圧ランプおよびカーボンアークランプを使
用することができる。さらに、標準的な投影および拡大
装置中で、金属フィラメントランプの光による露出およ
び通常の白熱電球による接触露出も可能である。また、
レーザーからの干渉光で露出することもできる。本発明
の目的には正しい出力を有するレーザー、特に150〜650
nmの光を発する、例えばアルゴンイオン、クリプトンイ
オン、染料、ヘリウム／カドミウムおよびヘリウム／ネ
オンレーザーが好適である。レーザー光線は、特別にプ
ログラム化したラインおよびラスタ運動により制御する
ことができる。
本発明に係わる材料の可能な用途としては、凸版印
刷、平版印刷、グラビア印刷、およびスクリーン印刷用
の平版板、エンボスコピー、例えばブレイル（brail）
文字の製作、個別複写、なめし画像、カーボン画像、等
を写真機械的に製作するための複写層を挙げることがで
きる。この混合物は、さらに、エッチングレジスト、例
えばネームプレート、およびプリント回路の写真機械的
製作、および化学的加工にも使用できる。本発明に係わ
る混合物は、平版印刷版製作およびフォトレジスト技術
用の複写層として特に重要である。
層をさらに効果的に使用するために、露出の後に後加
熱を行うことができる。現像目的には、好適な現像剤溶
液、例えば有機溶剤、好ましくは弱アルカリ性水溶液で
処理を行う。現像剤のpHは、８〜12である。現像剤溶液
は、少量の、好ましくは２重量％未満の、水と混合可能
な有機溶剤を含むことができる。
以下に、本発明の実施例を示す。これらの実施例の中
で、重量部（pbw）および体積部（pbv）は、ｇおよびcm
3の関係にある。百分率および量的な比率は、他に指示
が無い限り、重量の単位とする。
実施例１ 50pbwの、分子量が薬70,000〜80,000で、ビニルブチ
ラール71％、酢酸ビニル２％およびビニルアルコール単
位27％を含むポリビニルブチラール、および4pbwの無水
マレイン酸を725pbwのメチルエチルケトンに加熱しなが
ら溶解する。この透明な溶液に1pbwのトリエチルアミン
を加え、この溶液を還流下で、５時間加熱する。冷却
後、この溶液を濾過し、10,000pbwの蒸留水に滴下して
加える。生じた白色の繊維状の生成物を吸引濾別し、真
空中、40℃で、重量が一定になるまで乾燥させる。
重合体の収量は52pbw（分析:C 61.9％、H 9.3％）
で、酸価が30である。
62pbwの上記の重合体、 21pbwの、85％濃度のリン酸中で、１モルの硫酸３−メ
トキシジフェニルアミン−４−ジアゾニウムおよび１モ
ルの4,4′−ビス（メトキシ）ジフェニルエーテルから
調製し、スルホン酸メシチレンとして分離したジアゾニ
ウム塩重縮合生成物、 2.5pbwの、リン酸（85％濃度）、 3pbwの、ビクトリアピュアブルーFGA（C.I.ベーシック
ブルー81）および 0.7pbwの、フェニルアゾジフェニルアミンを 1,600pbwの、ジエチレングリコールモノメチルエーテル
および 1,750pbwの、テトラヒドロフラン に溶解した溶液を、水性研磨材分散物とブラシにより粗
粒化し、0.1％濃度のポリビニルホスホン酸水溶液で前
処理したアルミニウムホイルに塗布し、乾燥させる。
この様にして得られた、層の重量が0.95g/m2である複
写層を、陰原画の下で、出力5kWのハロゲン化金属ラン
プを使用して30s露出する。
この露出した層を、 5pbwのオクチル硫酸ナトリウム、 1.5pbwのメタケイ酸ナトリウム五水和物、 1pbwのリン酸三ナトリウム十二水和物、 0.5pbwのリン酸水素二ナトリウム十二水和物、および 92pbwの水 の組成の現像剤溶液で、パッドを使用して処理する。こ
の工程で、露出していない層区域はきれいに除去され、
次いで水洗し、乾燥させる。
複写では、密度範囲が0.15〜1.50で、密度勾配が0.15
の銀フィルム半階調段階くさびの第四段まで完全に被覆
されている。
この様にして得たオフセット印刷版から、自動オフセ
ット印刷機で、数千枚のきれいな印刷物が得られる。
実施例２ 24pbwの、54％のアリルアルコール単位を含み、OH価
が192であるスチレンとアリルアルコールの共重合体を3
50pbwのメチルエチルケトンに溶解する。この透明な溶
液に1pbwの無水マレイン酸を加える。無水マレイン酸が
溶解した後、0.5pbwのトリエチルアミンを加え、その混
合物を還流温度で加熱する。５時間冷却した後、大体透
明な溶液を濾過し、5,000pbwの蒸留水の中に滴下して加
える。得られた白色粉末状の生成物を吸引濾別し、実施
例１と同様に乾燥させる。
重合体の収量は25pbwで、酸価は16である。
86.5pbwの上記の結合剤、 29pbwの、実施例１に記載するジアゾニウム塩重縮合生
成物 3.5pbwの、リン酸（85％濃度）、 4.3pbwの、ビクトリアピュアブルーFGAおよび 2,000pbwの、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、 2,000pbwの２−エタノールおよび 600pbwの２−ブタノン からなる塗布溶液を、硝酸中で電気化学的に粗粒化し、
次いで陽極酸化し、ポリビニルホスホン酸で後処理した
アルミニウムホイルに塗布する。乾燥重量は1.02g/m2で
ある。
実施例１と同様に露出、処理する。インクの吸着が良
く、非画像区域には油性のインクが付かない印刷版が得
られる。
この印刷版を自動オフセット印刷機にかけ、数千部の
良好な印刷物が得られる。
実施例３ 表面をワイヤブラシで機械的に粗くしたアルミニウム
ホイルに、20gの2,4−ビス（２′−クロロフェニル）−
５−（４″−ジエチルアミノフェニル）オキサゾールお
よび30gのスチレンと無水マレイン酸との共重合体を、2
00mlのジエチレングリコールモノメチルエーテルおよび
250mlの２−ブタノンに溶解し、この溶液に、1gのアス
トラゾンイエロー7GLL（C.I.ベーシックイエロー21）お
よび0.1gのローダミンFB（C.I.45170）を含むメタノー
ル性増感剤溶液20mlを加えた溶液を塗布する。溶剤が蒸
発した後、約５μｍ厚の光導電体層が得られるが、この
層を暗所でコロナを使用し、約450V負に帯電させる。こ
の帯電した光導電体層をレプロカメラ中で、各500Wのオ
ートフォトランプ８個を使用する場合は露出時間15sで
露出する。使用した原画は、青の整列線および組み込み
の黄色抜粋を備えた、標準新聞印刷張り合わせ原画であ
る。得られた帯電潜像を市販のトナーで処理した後、き
れいな、背景の無い、縁部がはっきりした原画の画像が
得られるので、これを加熱して定着させる。印刷版へ転
写するために、トナーの付いた光導電体層を備えたこの
アルミニウムホイルを、35gのメタケイ酸ナトリウム９
水和物を、140mlの20％含水グリセロール、550mlのエチ
レングリコールおよび140mlのエタノールに溶解した溶
液を含むセル中に置く。１分後、トナーの付いていない
区域で溶解した光導電体層は、水の噴流を当て、穏やか
に擦ることによって、洗い流される。この版は即使用で
きる。使用した基材のために、印刷回数は約80,000であ
る。印刷を後で行う場合には、この板は、市販の保存剤
またはゴム溶液で保護しなければならない。
実施例４ 4.0pbwの、酸価が110の、メタクリル酸メチル／メタク
リル酸（82:18）の共重合体、 4.0pbwの、トリアクリル酸トリメチロールエタン、 0.07pbwの、４−ジメチルアミノ−４′−メチルジベン
ザルアセトン、 0.1pbwの、９−フェニルアクリジン、 0.1pbwの、2,4−ビストリクロロメチル−６−（４−ス
チリルフェニル）−ｓ−トリアジン、 0.04pbwの、1,4−ジニトロ−６−クロロベンゼンジアゾ
ニウム塩および２−メトキシ−５−アセチルアミノシア
ノエチル−Ｎ−ヒドクロキシエチルアニリンからなるア
ゾ染料、24pbwの、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、 24pbwの２−エタノール、および 7.3pbwの２−ブタノン からなる溶液を、電気化学的に粗粒化し、陽極酸化硬化
した0.3mm厚のアルミニウムにスピンコーティングによ
り塗布、乾燥して、層重量2.5g/m2を得る。
乾燥後、この光重合性層に、5pbwの、Ｋ価が８で、12
％の光けん化アセチル基を有するポリビニルアルコール
を95pbwの脱イオン水に溶解した溶液で上塗りし、2.5g/
m2最上層を得る。次いで、実施例１と同様に露出する。
インクの吸着が良く、非画像区域には油性のインクが付
かない印刷版が得られる。
この印刷版を自動オフセット印刷機にかけ、数千部の
良好な印刷物が得られる。
実施例５ 下記の成分から感光性層を調製する。
0.45pbwの、82％メタクリル酸メチルと18％メタクリル
酸の共重合体（酸価117）、 1.05pbwの、分子量が約70,000〜80,000で、71％のビニ
ルブチラール、２％の酢酸ビニルおよび27％のビニルア
ルコール単位を含むポリビニルブチラール、無水マレイ
ン酸、メチルエチルケトンおよびトリメチルアミンを使
用し、還流加熱により調製した重合体 0.45pbwの、実施例１のジアゾニウム塩重縮合生成物、 0.04pbwの、85％濃度リン酸、 0.09pbwの、ビクトリアピュアブルーFGA（C.I.ベーシッ
クブルー81） 1.5pbwのテトラアクリル酸／トリアクリル酸ペンタエリ
トリトール（工業用混合物）、 0.007pbwの、フェニルアゾジフェニルアミン 0.12pbwの、２−（４−スチリルフェニル）−4,6−ビス
トリクロロメチル−ｓ−トリアジンを、 24pbwのジエチレングリコールモノエチルエーテル、 24pbwのテトラヒドロフラン、および 48pbwのブタノンに溶解する。
乾燥後の層重量は1.8g/m2である。
次いで、この板に、15％濃度のポリビニルアルコール
（12％残留アセチル基、Ｋ値４）水溶液を塗布する。乾
燥後、重量1g/m2最上層が得られる。
以下、実施例１と同様に処理する。現像した版から、
オフセット印刷機で数千部の完璧な印刷物が得られる。
比較例１ （DE−A 3,807,406の溶剤混合物） 実施例１と同様に、下記の組成の塗布溶液を調製す
る。
62pbwの、実施例１の重合体、 21pbwの、実施例１のジアゾニウム塩重縮合生成物 2.5pbwの、リン酸（85％濃度）、 3pbwの、ビクトリアピュアブルーFGAおよび 0.7pbwの、フェニルアゾジフェニルアミンを 905pbwの１−メトキシ−２−プロパノール、 1,100pbwの乳酸メチル、 1,300pbwのメチルエチルケトンおよび 45pbwのジエチレングリコール物メチルエーテルに溶
解。
実施例１と異なり、この混合物からは、長時間攪拌して
も、均質な溶液は得られなかった。固体の一部が不溶の
まま後に残る。
ここで使用した、およびDE−A 3,807,406に記載され
ている溶剤混合物は、溶剤混合物の成分に対して、高沸
点のジエチレングリコール物メチルエーテルの含有量が
２重量％未満（1.3重量％）であり、そのために、本発
明で使用する混合物と比較して明らかな欠点を示す。高
沸点溶剤の比率を高めることによってこれらの欠点を克
服できることは実に驚くべきことである。
比較例２ （DE−A 2,034,655の溶剤混合物） 実施例１と同様に、下記の組成の塗布溶液を調製す
る。
62pbwの、実施例１の重合体、 21pbwの、実施例１のジアゾニウム塩重縮合生成物 2.5pbwの、リン酸（85％濃度）、 3pbwの、ビクトリアピュアブルーFGAおよび 0.7pbwの、フェニルアゾジフェニルアミンを 2,010pbwの、エチレングリコールモノメチルエーテル 1,005pbwの、テトラヒドロフランおよび 335pbwの酢酸ブチルに溶解。
ここで使用した溶剤混合物は、DE−A 2,034,655から
公知である。実施例１の塗布溶液をここで使用する溶液
と比較すると、下記のことが分かる。
比較例２の溶液の保存寿命は、実施例１のそれよりも
著しく短い。比較例の溶液は、成分の沈殿および分解の
ために数時間しか使用できない。しかし、実施例１の溶
液は、同じ条件下で数日間使用できる。
その上、本発明で使用する溶剤混合物により、溶剤体
積に対して、より多くの固体を溶解することができる。
溶剤混合物の塗装および乾燥特性を比較すると、本発明
で使用する混合物により、本質的により均質な塗膜が得
られる。その結果、微細な半階調区域を印刷するとき
に、明らかにより良好な均質性およびより良好な印刷品
質を達成できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジークフリート、ニュルンベルガー ドイツ連邦共和国エルトビル‐マルチン シュタール、アム、シュタインベルク、 ３ (72)発明者 ザビーネ、ピルガー ドイツ連邦共和国バハラッハ‐シュテー ク ヒンターウエーク、５ (56)参考文献 特開 平２−242253（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−1141（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−80250（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−141355（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−219248（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 7/004 G03F 7/021

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】芳香族ジアゾニウム塩と非感光性芳香族ア
    ミン、フェノール、フェノールエーテル、芳香族チオエ
    ーテル、芳香族炭化水素、芳香族複素環化合物または有
    機酸アミドとの縮合生成物を含む陰画処理感光性化合
    物、および水には不溶でありかつ水性アルカリ溶液には
    可溶な重合性結合剤を含み、溶剤混合物に溶解させた陰
    画処理感光性混合物を基材に塗布し、続いて得られた層
    を乾燥させる、陰画処理感光性平版印刷版の製作方法で
    あって、溶剤として、２重量％を超える、少なくとも一
    つのジエチレングリコールのモノエーテルと、沸点が20
    0℃未満の一つ以上の有機溶剤との混合物を使用するこ
    とを特徴とする方法。
  2. 【請求項２】ジエチレングリコールのモノ（C1−C4）ア
    ルキルエーテルを含むことを特徴とする、請求項１に記
    載する方法。
  3. 【請求項３】モノアルキルエーテルの沸点が200℃を超
    えることを特徴とする、請求項１または２のいずれか１
    項に記載する方法。
  4. 【請求項４】低沸点有機溶剤の沸点が50〜150℃である
    ことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載
    する方法。
  5. 【請求項５】ジエチレングリコールの高沸点モノアルキ
    ルエーテルが、溶剤混合物の成分に対して、10重量％を
    超えるが、特に50重量％未満の濃度で存在することを特
    徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載する方
    法。
  6. 【請求項６】混合物中に含まれる、ジエチレングリコー
    ルのモノエーテルの、他の有機溶剤に対する重量比が、
    1:1〜0.2:1、特に1:1〜0.4:1であることを特徴とする、
    請求項１〜５のいずれか１項に記載する方法。
  7. 【請求項７】低沸点溶剤を、アセトン、２−ブタノン、
    メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロ
    パノール、ｎ−ブタノール、２−メトキシエタノール、
    １−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシ−１−
    プロパノール、アミルアルコール、テトラヒドロフラ
    ン、1,4−ジオキサン、水、トルエン、ジエチルエーテ
    ル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、２−
    メチルフラン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケ
    トン、メチルプロピルケトン、メチルイソプロピルケト
    ン、メチルブチルケトン、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
    ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
    酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、エチレングリコール
    ジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
    ル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、γ
    −ブチロラクトンおよびジアセトンアルコールからなる
    溶剤グループから選択することを特徴とする、請求項１
    〜６のいずれか１項に記載する方法。
  8. 【請求項８】陰画処理感光性混合物の乾燥層の量が0.7
    〜5g/m2、特に0.5〜3.5g/m2であることを特徴とする、
    請求項１〜７のいずれか１項に記載する方法。
  9. 【請求項９】層を50〜120℃で乾燥することを特徴とす
    る、請求項１〜８のいずれか１項に記載する方法。
  10. 【請求項１０】層を乾燥させた後、その層を活性線照射
    により画像に対して露出し、次いで水性アルカリ現像剤
    で現像することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか
    １項に記載する方法。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19602307A1 (de) * 1996-01-23 1997-07-24 Roland Man Druckmasch Druckmaschine
JP3978255B2 (ja) * 1997-06-24 2007-09-19 Ａｚエレクトロニックマテリアルズ株式会社 リソグラフィー用洗浄剤
US5900345A (en) * 1997-10-06 1999-05-04 Kodak Polychrome Graphics, Llc Surfactant in precoat for lithographic plates
US6200945B1 (en) * 1999-05-20 2001-03-13 Mcdonnell Douglas Corporation Environmentally safe solvent composition
EP1400349B1 (en) * 2002-09-17 2007-04-18 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Heat-sensitive lithographic printing plate and image forming method
WO2004081662A2 (en) * 2003-03-14 2004-09-23 Creo Inc. Development enhancement of radiation-sensitive elements
JP5593790B2 (ja) * 2009-04-27 2014-09-24 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7109179A (ja) * 1970-07-13 1972-01-17
DE2034654C2 (de) * 1970-07-13 1982-08-26 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Negativ arbeitende Kopierlösung und deren Verwendung zur Herstellung von Druckplatten
DE2949826A1 (de) * 1979-12-12 1981-06-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Material fuer elektrophotographische reproduktion
DE3404366A1 (de) * 1984-02-08 1985-08-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch auf basis eines diazoniumsalz-polykondensationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3445276A1 (de) * 1984-12-12 1986-06-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform
JPS6238471A (ja) * 1985-08-14 1987-02-19 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の製造方法
JPH083630B2 (ja) * 1986-01-23 1996-01-17 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPS63186248A (ja) * 1987-01-28 1988-08-01 Konica Corp 公害性、塗布性等が改良される感光性平版印刷版の製造方法
JPH07117746B2 (ja) * 1987-04-16 1995-12-18 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
DE3924812A1 (de) * 1989-07-27 1991-01-31 Hoechst Ag Loesemittelgemisch und beschichtungsloesung fuer die herstellung negativ arbeitender lichtempfindlicher aufzeichnungsmaterialien
JPH03170931A (ja) * 1989-08-07 1991-07-24 Konica Corp 感光性塗布液

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