JPS592845A - オフセツト印刷版の製造法 - Google Patents

オフセツト印刷版の製造法

Info

Publication number
JPS592845A
JPS592845A JP11210782A JP11210782A JPS592845A JP S592845 A JPS592845 A JP S592845A JP 11210782 A JP11210782 A JP 11210782A JP 11210782 A JP11210782 A JP 11210782A JP S592845 A JPS592845 A JP S592845A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
microcapsule
resin
light
photosetting resin
photocurable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11210782A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0235665B2 (ja
Inventor
Shigetoshi Hiraishi
重俊 平石
Koji Toyama
外山 孝治
Sadao Morishita
森下 貞男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority to JP11210782A priority Critical patent/JPH0235665B2/ja
Publication of JPS592845A publication Critical patent/JPS592845A/ja
Publication of JPH0235665B2 publication Critical patent/JPH0235665B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/002Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 軽印刷として広く一般に用いられている印刷方法は、版
に極性溶媒可溶性のインキ画像を形線部にインキが通過
できるように孔をあけて版とするステンシル方式、画線
部に脂肪性のインキが付着するように親油性をもたせる
と同時に非画線部を親水性とし水に濡れやすくインキを
反発する性質をもたせ、印刷時にインキと水を供給し普
通紙上にインキを転移させるオフセット方式とに別けら
れる。このうち画像品質、耐刷性という実用面から、ま
た事務用オフセット印刷機の普及からオフセット方式が
多く用いられるようになってきた。
このオフセット方式での製版法には直播マスター上に親
油性のインキを用いて筆記したり、親油性のインキリゼ
ンをあててタイプ打ちし、直接刷版に画線部を描き入れ
る直播法、ネガ原紙、透明フィルム等へのタイプ打ち、
写真により版としてのレイアウトを行ったのち刷版に焼
付けるネガ ポジベース法、写真製版法、そして原稿を
レンズ光学系等で刷版上に画線部を直ちに形成させるダ
イレクト製版法がある。このうち製版コストが安く短時
間で製版できるものは直播法とダイレクト製版法である
直播法は手書原稿がその一11版になるので便利で簡単
なため事務用製版法として有用であるが、耐摩擦性等の
安定性が劣シい捷だ満足するものは得られていない。
本発明者らは、耐摩擦性等安定性に優れた直描による製
版方法について検討した結果、耐水性支持体上に光硬化
型樹脂を主として内包する光硬化型マイクロカプセルを
含有する層を設けこの面を加圧印字し次に全面露光する
ことによりオフセット印刷版が得られることを見出した
本発明によるオフセント印刷版は、光硬化型樹脂の親油
性とマイクロカプセル壁膜の親水性を利用したものであ
る。
本発明に用いる光硬化型樹脂を主として内包する光硬化
型マイクロカプセルは光によって破壊が制御できるマイ
クロカプセルで、内包物をとり出したいときには、通常
のマイクロカプセルと同様に外部より圧力等を加えるこ
とによりマイクロカプセルの膜を破壊し、内包物を放出
させることができる。
また内包物をそのままカプセル内に包み込んでおきたい
時には、マイクロカプセルに光を当てると、膜を通過し
た光は内包物である光硬化型樹脂を硬化させ、硬質の樹
脂に変化させる。
その結果、該カプセルは剛体カシセルとなりもはや外部
からの衝撃が加わっても破壊することはなく、内包物の
放出は起らない。このような性質をもった光硬化型マイ
クロカプセルを耐水性支持体上に塗布した直播用刷版に
直接筆記具タイプライタ−等で加圧印字すると画線部の
該マイクロカプセルは破壊し内包されていた光硬化型樹
脂が放出される。そののちマイクロカプセル面を全面露
光すると画線部では表面に放出された光硬化型樹脂が硬
化すると共に非画線部ではマイクロカプセルに内包され
ている光硬化型樹脂が硬化する。その結果、画線部は親
油性の硬化した樹脂が、また非画線部には内部が硬化し
たマイクロカプセルが存在している。この形状はもはや
外的衝撃が加わってもかわらない。
このようにして本発明のオフセット印刷版が得られる。
また画線部が明瞭に判別できるように着色させることも
できる。すなわち光硬化型マイクロカプセルに無色の反
応体または反応体と接触して着色物質を生成させる無色
の共反応体を含有させ、これらの該カプセルを混合し耐
水性支持体上に塗布する。カプセル面を加圧印字すると
画線部の光硬化型マイクロカプセルが破壊し、内包され
ている光硬化型樹脂、反応体そして共反応体が浸出する
結果、反応体と共反応体が接触しその部分が着色する。
未印字部は反応体、共反応体は別々のマイクロカプセル
中に内包されているため着色は生じない。また印字後カ
プセル面を全面露光すると光硬化型マイクロカプセルは
硬化し破壊されないため印字部以外での着色はおこらな
い。
なお、加圧印字に際しマイクロカプセル面を直接印字し
ても良いが、不必要なマイクロカプセル破壊を防ぐため
マイクロカプセル面にフィルム等をあてがってその上か
ら印字しても良い。
反応体及び共反応体とは、お互い接触することにより反
応し、着色物質を生成するような無色の反応性化合物を
意味し、例えば着色物質が無色の電子供与性化合物と無
色の電子受容性化合物との組合せによって生じる場合に
は、反応体に電子供与性化合物を用いた場合共反応体は
電子受容性化合物を、反応体が逆に電子受容性化合物で
ある場合、共反応体は電子供与性化合物を示す。このよ
うな反応性化合物の組合せとして他に配位子と多価金属
化合物の例もある。
反応性化合物についてさらに具体的に説明する。
電子供与性化合物としては、3.8−ビス(p−ジメチ
ルアミノフェニル)−6−・ジメチルアミノフタリド、
8,3−ビス(P−ジメチルアミノフェニル)フタリド
、3−(p−ジメチルアミノフェニル)−8−(1,2
−、)メチルインドール−3−イル)7タリr等のトリ
アリールメタン系化合物、4,4′−ビスジメチルアミ
ノベンズヒトリンペンジルエー°チル等のジフェニルメ
タン系化合物、3−ジメチルアミン−7−メドキシフル
オラン、3−ジエチルアミノ−7−クロロフルオラン、
8−ジエチルアミン−7−シベンジルアミノフルオラン
等のキサンチン系化合物、ベンゾイルロイコメチレンブ
ルー等のチアジン系化合物、3−メチルースぎロージナ
フトピラン、3−プロピル−スピロジー之ンゾビラン等
のスピロ系化合物等が挙げられる。
電子受容性化合物としては、酸性白土、活性白土、カオ
リン、ゼオライト、ベントナイト等の無機酸性物質、P
−クレゾール、P−オクチルフェノール、P−シクロヘ
キシルフェノール、P−フェニルフェノール、α−ナフ
チルフェノール、クミルフェノール、P−クロロフェ/
 −ル等の置換フェノール系化合物、フェノール−ホル
マリン縮合物、置換フェノール−ホルマリン縮合物等の
フェノール樹脂系化合物及びそれらを亜鉛、ニッケル等
の多価金属で変性した金属塩変性フェノール樹脂系化合
物、P−ブチル安息香酸、P−ヒドロキシ安息香酸、2
,5−ジヒドロキシ安息香酸、サリチル酸、5−t e
rt−ブチルサリチル酸、8.5’−、ジーtert−
ブチルサリチル酸、8,5−ジ(α−メチルベンジル)
サリチル酸等の芳香族カルボン酸系化合物及びそれらを
亜鉛、ニッケル等の多価金属で金属塩とした芳香族カル
ボン酸系化合物の金属塩捷たけ、芳香族カルボン酸系化
合物と酢酸亜鉛、プロピオン酸亜鉛等の多価金層化合物
との混合物等が挙げられる。・ また配位子としては、8−キノリツール、没食子酸、没
食子酸ドデシルエステル、1.10−フェナントロリン
、0−7エニレンジアミンジフエニルチオ尿素、グアニ
ジン、ヒドロキシナフトエ酸、ジビノ々ロイルメタン、
トリフルオルア丈チルアセトン等が、金属化合物として
は、ステアリン酸第二鉄、ステアリン酸マグネシウム、
ステアリン酸亜鉛、N−フェニル−N−エチルジチオカ
ル・々ミン酸亜鉛等が挙げられるがこれらに限られるも
のではない。
本発明に用いる光硬化型マイクロカプセルに内包される
光硬化型樹脂としてはケイ皮酸残基、シンナミリデン残
基、α、β−不飽和ケトン残基、クマリン残基、アント
ラセン残基、α−7エニルマレイミド残基、ベンゾフェ
ノン残基、スチルベン残基等の感光基をもつ光二量化型
樹脂、ジアゾニウム塩残基、キノンジアジド残基、アジ
ド残基、ジチオカルバメート残基、ベンゾイン残基等の
感光基をもつ光分解型樹脂、アクリロイル基、アリル基
、ビニル基、エポキシ基等をもつ光重合型樹脂等が任意
に用いられるが特に光重合型樹脂が有効である。形状と
しては液状のものが有利に用いられる。捷た、光硬化型
樹脂を重合させる光重合開始剤も同時に内包する。これ
は通常用いられている公知の化合物でよいが例えば、ベ
ンゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラー
ケトン類、チオキサントン類、アセトフェノン類等を、
また光重合開始剤の増感波長域を広げる効果のある光増
感助剤として例えばアントラキノン、5−ニトロフルオ
レン等を、そして保存性を向上させるためにラジカル重
合防止剤等の安定剤、改質剤、比較的低分子量のオリゴ
マー捷たはモノマー等の希釈剤等を同時に内包させる場
合もある。!。
た同時に内包させる反応体、共反応体の溶解性を向上さ
せるため高沸点の油性溶媒、例えばアルキルナフタレン
類、アルキルビフェニル類、アルキリデンピフェニル類
、エステル類等を溶解助剤として用いることもあるが、
硬化度に悪影響を与えるため多量に用いることは不適当
である。
本発明に用いる光硬化型カプセルを硬化させるための光
として一般的には紫外光を用いる。
光源としては、太陽光、キセノン灯、低圧及び高圧水銀
灯、螢光灯などが用いられる。室内灯または間接の太陽
光で起るような露光での、製造時及び通常の取扱い時間
による光硬化型カプセルの特性の低下はほとんどみられ
ない。
本発明に用いるマイクロカプセルは、当業界公知の方法
で製造することができる。例えば、米国特許第2800
457号、14第2800458号明細書等に示される
ような水溶液からの相分離法、特公昭88−19574
号公報、同時42−446号公報、同時42−771号
公報等に示されるような界面重合法、特公昭36−91
68号公報特開昭51−9079号公報等に示されるモ
ノマーの重合によるin 5ilu法、英国特許第95
2807号、同第965074号明細書等に示される融
解分散冷却法、米国特許第3111407号、英国特許
第980422号明細書等に示されるスプレードライン
グ法等あるがこれらに限定されるものではない。
捷た壁膜形成材としてはゼラチン、アラビアゴム、デン
プン、アルギン酸ソーダ、エチルセルロース、カルブキ
シメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチ
レン、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタQ 、 
、!?リエチレンイミン等が用いられるが、光硬化型マ
イクロカプセルの製造に際しては、光、特に紫外光を十
分透過させるような材質また親水性の大きな壁膜を形成
するような材質を選ぶのがより好ましい。
本発明によるオフセント印刷版の光硬化型マイクロカプ
セル層を耐水性支持体上に保持させるためにバインダー
として水溶性高分子、ラテックス類が用いられる。
例えばゼラチン、カゼイン、カルブキシメチルセルロー
ス、ヒPロキシメチルセルロース、酸化デンプン、エス
テル化デンプン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピ
ロリドン、ポリアクリル酸、酢酸ビニル−アクリル酸共
重合体、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、塩化
ビニリデン系共重合体等の水溶性高分子及びラテックス
類が挙げられる。これらは膜面強度、分散性等の点から
選択され単独もしくは組合わせて用いる。
又、必要に応じて耐水性を付与するためメラミンホルム
アルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、グリオキ
ザールそのほか架橋剤が添加されてよい。
本発明によるオフセット印刷版の光硬化型マイクロカプ
セル層にはさらにセルロース粉末、デンプン粒子、プラ
スチック粒子等のカプセル保護剤、クレー、炭酸カルシ
ウム、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、シリカ等の無機顔
料、尿素−ホルマリン樹脂等の有機顔料、分散剤、消泡
剤などを添加しても良い。
本発明に用いる耐水性支持体としては耐水化された紙が
一般的であるが、不織布、合成紙、金属箔、プラスチッ
クフィルム等、あるいはこれらを組合わせた複合シート
も用いられる。
本発明によって得たオフセット印刷版は更に耐刷性を向
上させる目的で、版面上の非画線部の親水化処理あるい
は画線部の親油化処理を行なうこともある。親水化処理
に使用される処理液としては一般にアラビアゴム、ポリ
ビニルピロリドンのような親水性樹脂、リン酸塩、アル
ミニウム明ノ々ン化合物および酸(有機酸または無機酸
)の少なくとも1種を主体としたもの、およびフェロシ
アン化合物またはフェリシアン化合物を主体としたもの
などがある。親油化処理に使用される処理液としては例
えば親水基を有するポリマー又はその金属塩等を主体と
したものなどがある。
次に本発明をさらに具体的に説明するために実施例を述
べる。
実施例1゜ (1)  光硬化型マイクロカプセルを次の如く作製し
た。
等電点pH9,0の酸処理ゼラチンを溶解した50℃、
10チゼラチン水溶液100gをPH9,7に調節し、
これにベンゾインエチルエーテル0.2.9を溶解した
アクリレート系光硬化型樹脂〔商品名:アロニソクス、
東亜合成化学工業■製〕80Iを添加し、激しく攪拌し
ながら乳化しO/Wエマルジョンを生成させ平均粒径が
6μになったところで攪拌を止めた。この乳化液にpH
10,0としたポリビニルメチルエーテル−無水マレイ
ン酸共重合体の5%水溶液81Iとナトリウムカルぎキ
シメチルセルロースの5%水溶液60gを加え更に55
℃の温水164gを加えた。そしてこの混合溶液のPH
を9,7になるように調整して、ついで攪拌しながら酢
酸20%溶液を滴下してPHを徐々に40まで下げカプ
セル化を行なった。さらにこの液を10℃に冷却し、カ
プセル壁をゲル化させ37チホルマリン溶液を5 ml
添加し、攪拌下5時間後に20 % NaOHを添加す
ることによってPHを100に上げ硬膜を行なった。
(2)  (1)で得た光硬化型マイクロカプセル分散
液loog、小麦デンプン5g、20%ポリアクリル酸
ナトリウム水溶液27gを混合し、この塗液を長繊維パ
ルプを主体としてサイズ度、耐水性及び平滑性の優れた
坪量i 4 og7.yの上質紙の片面に乾燥後の重さ
が8Wとなるように塗布してオフセット印刷版原版を得
た。
次に該オフセット印刷版原版のマイクロカプセル面に3
8μのポリエチレンフィルムを重ね合わせその上よりタ
イプライタ−で印字した。印字後ポリエチレンフィルム
をはがし印字面をリソ−キセノファックスFX−150
にてキセノン光を照射することでオフセット印刷版を得
た。この版はその1まオフセット印刷機にかけて印刷す
ることができた。
実施例2 (1)  反応体を含む光硬化型マイクロカプセルを次
の如く作製した。
実施例1−(1)の4ンゾイン工チルエーテル02gを
溶解したアクリレート系光硬化型樹脂80gのかわりに
反応体である電子供与性化合物すなわち8−(4−ジエ
チルアミノ−2−エトキシフェニル)−8−(1−エチ
ル−2−メチルインP−ルー3−イル)−4−アザフタ
リド08g及びベンゾインエチルエーテル0.2gを溶
解したアクリレート系光硬化型樹脂80gを用いた以外
は同様にして反応体を含む光硬化型マイクロカプセル分
散液を得た。
(2)共反応体を含む光硬化型マイクロカプセルを次の
如く作製した。
実施例1−(1)のベンゾインエチルエーテル02gを
溶解したアクリレート系光硬化型樹脂80gのかわりに
共反応体である電子受容性化合物、すなわち8,5−ジ
ーtert−ブチルサリチル酸4 、!i’及びベンゾ
インエチルエーテル0.2gを溶解したアクリレート系
光硬化型樹脂80gを用いた以外は同様にして共反応体
を含む光硬化型マイクロカプセル分散液を得た。
(3)  (1)で得たマイクロカプセル分散液50I
(2)で得たマイクロカプセル分散液50g、酸化亜鉛
10g、10q6ポリビニルアルコ一ル水溶液65gを
混合し、この塗液を実施例1で用いた上質紙の片面に乾
燥後の重さが10Wとなるように塗布し、オフセット印
刷版原版を得た。
次に該オフ−・ト印刷版原版の〜イン・カプセル面をイ
ンキリゼンをはずしたタイプライタ−I BM820に
て印字した。印字部は青色に発色した。印字後印字面を
リン−キモ/ファックスFX−150にてキセノン光を
照射することで、青色の画線部をもつオフセット印刷版
を得た。この版はそのまますぐにオフセット印刷機にか
けて印刷することができた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 耐水性支持体上に光硬化型樹脂を主として内包する光硬
    化型マイクロカプセルを含有する層を設け、この面を加
    圧印字し次に全面露光することによりなるオフセット印
    刷版の製造法
JP11210782A 1982-06-29 1982-06-29 Ofusetsutoinsatsuhannoseizoho Expired - Lifetime JPH0235665B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11210782A JPH0235665B2 (ja) 1982-06-29 1982-06-29 Ofusetsutoinsatsuhannoseizoho

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11210782A JPH0235665B2 (ja) 1982-06-29 1982-06-29 Ofusetsutoinsatsuhannoseizoho

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS592845A true JPS592845A (ja) 1984-01-09
JPH0235665B2 JPH0235665B2 (ja) 1990-08-13

Family

ID=14578320

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11210782A Expired - Lifetime JPH0235665B2 (ja) 1982-06-29 1982-06-29 Ofusetsutoinsatsuhannoseizoho

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0235665B2 (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0220943A2 (en) * 1985-10-25 1987-05-06 The Mead Corporation Method for making printing plates and assembly useful therein
JPS62160289A (ja) * 1986-01-08 1987-07-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS62187351A (ja) * 1986-02-13 1987-08-15 Fuji Photo Film Co Ltd 水なし感光性平版印刷版
EP0242863A2 (en) * 1986-04-23 1987-10-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for manufacturing lithographic printing plates
EP0242864A2 (en) * 1986-04-23 1987-10-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. A process for making a lithographic printing plate
JPS62250455A (ja) * 1986-04-23 1987-10-31 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷原版
JPS63118160A (ja) * 1986-11-05 1988-05-23 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製造方法
WO1994023954A1 (en) * 1993-04-20 1994-10-27 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Lithographic printing original plate and method for producing the same
US5368973A (en) * 1990-10-31 1994-11-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive element and process for preparation thereof

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0220943A2 (en) * 1985-10-25 1987-05-06 The Mead Corporation Method for making printing plates and assembly useful therein
JPS62160289A (ja) * 1986-01-08 1987-07-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS62187351A (ja) * 1986-02-13 1987-08-15 Fuji Photo Film Co Ltd 水なし感光性平版印刷版
EP0242863A2 (en) * 1986-04-23 1987-10-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for manufacturing lithographic printing plates
EP0242864A2 (en) * 1986-04-23 1987-10-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. A process for making a lithographic printing plate
JPS62250453A (ja) * 1986-04-23 1987-10-31 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製造法
JPS62250455A (ja) * 1986-04-23 1987-10-31 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷原版
EP0243863A2 (en) * 1986-04-23 1987-11-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Presensitized plate
JPS63118160A (ja) * 1986-11-05 1988-05-23 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製造方法
US5368973A (en) * 1990-10-31 1994-11-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive element and process for preparation thereof
WO1994023954A1 (en) * 1993-04-20 1994-10-27 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Lithographic printing original plate and method for producing the same
CN1077048C (zh) * 1993-04-20 2002-01-02 旭化成株式会社 平版印刷原版及用其制版的方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0235665B2 (ja) 1990-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4501809A (en) Photosetting microcapsules and photo- and pressure-sensitive recording sheet
US4554235A (en) Microencapsulated transfer imaging system employing developer sheet and discontinuous layer of thermoplastic pigment
JPS5888740A (ja) 像形成系
JPH08506191A (ja) 印刷機上で現像可能な平版印刷版
JP2002507003A (ja) 両面画像形成材料
JPS592845A (ja) オフセツト印刷版の製造法
JPH11249304A (ja) 乾式画像形成材料及び乾式画像形成方法
JPS5845090A (ja) 自己発色型記録シ−ト
JPS58224752A (ja) オフセツト印刷版の製造法
US4873219A (en) Desensitizable self-contained record material useful for security documents and the like
JPS5817432A (ja) 感光感圧型複写シ−ト
JPH0151820B2 (ja)
JPH0145609B2 (ja)
JPS645688B2 (ja)
US4963457A (en) Photosensitive, pressure-sensitive recording sheet of plain paper transfer type comprising wax
JPH02223953A (ja) 高密度画像形成用現像剤シート
JPH01140140A (ja) 画像形成材料
JPS61251837A (ja) 普通紙転写型感光感圧記録シ−ト
JPS6254248A (ja) 普通紙転写型感光感圧記録シ−ト
JPH0455496B2 (ja)
JPH0664328A (ja) 記録材料
JPH11119423A (ja) 自己発色型感光性感圧記録材料及び画像形成方法
JPH0210341A (ja) 転写記録媒体
JPS59135185A (ja) 感圧複写紙用保護材
JPH02257137A (ja) 画像形成用シート