JPS6224510A - 電気接点 - Google Patents

電気接点

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JPS6224510A
JPS6224510A JP16363285A JP16363285A JPS6224510A JP S6224510 A JPS6224510 A JP S6224510A JP 16363285 A JP16363285 A JP 16363285A JP 16363285 A JP16363285 A JP 16363285A JP S6224510 A JPS6224510 A JP S6224510A
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JP
Japan
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contact
layer
electrical contact
alloy
oxide film
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Pending
Application number
JP16363285A
Other languages
English (en)
Inventor
和久 吉田
辻 公志
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、電流通電遮断機能を有するスイッチ、リレ
ー等の電気接点に関するものである。
〔背景技術〕
従来より、電気接点にはAg合金が広く使用されている
が、耐硫化性能が著しく劣るという欠点があった。すな
わち、接点表面を貴金属層(Au合金)で覆っても、A
gのクリーピング作用によりSイオンが貴金属層に到達
し、Ag2Sが生成するのである。クリーピング作用と
は、第4図に示すように、下地N6の側面に生成したA
g25(符号へで示す)がマイグレーションのために側
面から表面層7に進み、接触点に硫化物層(Ag2S層
)を生成することをいう。このような硫化物層は接点寿
命を短(し、信転性が低下するという問題がある。
〔発明の目的〕
この発明の目的は、側面での硫化物の生成を抑制し、ク
リーピング作用を減じさせることにより、耐硫化性能を
向上させ信幀性を高めた電気接点を提供することである
〔発明の開示〕
この発明の電気接点は、台材上に、Qg、 Cu、 A
g合金またはCu合金からなる下地層を介してクラフト
層またはめっき層を設けた電気接点において、前記下地
層の外周面を酸化膜で被覆したことを特徴とするもので
ある。
このように、この発明によれば、少なくとも下地層の外
周面を酸化膜で被覆したので、硫化物の生成が抑制され
、その結果クリーピング作用によって硫化物が表面の接
触面上に移行するのを防止することができ、接点寿命お
よび信頼性が向上する。
この発明の一実施例を第1図ないし第3図に基づいて説
明する。すなわち、この電気接点は、第1図に示すよう
に、台材3J:′に、八g、 Cu、 Ag合金または
Cu合金からなる下地層2を介してクラッド層l (ま
たはめっき層)を設けた電気接点4において、前記下地
層2の外周面を酸化膜で被覆したことを特徴とするもの
である。
第1図に示す電気接点4は、テープ状に形成されたもの
であって、使用に際してはこれを必要な大きさに切断し
て使用する。
前記台材3はCuやCu合金からなる。また、前記下地
N2にはAgやAg合金またはCuやCu合金などが使
用可能である。さらに、クラッド層1 (またはめっき
層)にはAu、Pd、Au合金、 Pd合金などの貴金
属またはその合金が使用可能である。
前記酸化膜は、接点を酸素雰囲気下または大気中で加熱
処理して形成することができる。このときの温度は、A
gまたはAg合金で150〜250℃、CuまたはCu
合金で150〜400°C程度が適当である。加熱処理
時間は、通常8〜48時間程度である。また、加熱処理
は、テープ状電気接点4の切断加工前後のいずれでもよ
い。
このように、この実施例によれば、接点の接触点での硫
化が酸化膜によって阻止されるとともに、下地層1に使
用されるAg合金やCu合金などに使用される貴金属(
Pdなど)の合金比を低くし、さらに表面クラッド層1
 (またはめっきN)の厚さを薄くすることが可能にな
るという利点があり、経済的である。
次に電気接点の耐硫化性能を調べた結果を第2図のグラ
フに示す。使用した電気接点は、CuNiからなる台材
上に、Agの下地層およびAuAgのクラッド層をこの
順に形成したテープ状のものである。
この電気接点は、酸素雰囲気下または大気中での加熱処
理によって、台材および下地層の周囲にはそれらの酸化
膜が形成されていたが、表面クラブト層には酸化膜の生
成はなかった。
耐硫化性能は、接触抵抗計(フル・スケール:1Ω)を
用いて放置時間に対する接触抵抗の変化を測定して評価
した。
測定条件は以下のとおりです。
(1)  コンタクトピン仕様二針状、 Auめっきピ
ン(2)圧カニ10g (3)  硫化条件:JEiDA25に準する(H2S
±3ppm、?W度90%) 測定値は、第3図に示すように、コンタクトと75で中
央部3点(B、C,D)を測定し、それから求めた平均
値である。
第2図から、加熱処理によって酸化膜を計したもの(加
熱処理品)は、非加熱処理品に比して接触抵抗が低く、
耐硫化性にすぐれたものであることがわかる。
なお、この実施例では、テープ状の電気接点について説
明したが、リベット型接点のように打抜き処理して製造
される電気接点に対しても同様にして適用可能である。
ただし、この場合は打抜き後、加熱処理して酸化膜を形
成させる必要がある。
〔発明の効果〕
この発明によれば、少なくとも下地層の外周面に酸化膜
を設けたので、クリーピング作用によって硫化が表面の
接触面上に進行するのを防止することができ、接点寿命
および信頼性が向上するという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例の斜視図、第2図は電気接
点の耐硫化性能を示すグラフ、第3図は測定箇所を示す
説明図、第4図はクリーピング作用を示す説明図である
。 1・・・下地層、2・・・中間金属層、3・・・クラッ
ド層、4・・・電気接点 第1図 往hO恥処理品 第2図 CD 第3図 第4図 手続補正書(師 昭和61年01月17日 畷旺O年特許願第163632号 2、発明の名称 電気接点 3、補正をする者 事件との関係  出願人 4、代理人 (11明細書第2頁第6〜7行目、「接点寿命を短クシ
」とあるを「接触抵抗を増大させて」と訂正する。 (2)明細書第4頁第4行目、「8〜48時間」とある
を「8〜240時間」と訂正する。 ;:1ノ(5°);−1−・

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)台材上に、Ag、Cu、Ag合金またはCu合金
    からなる下地層を介してクラッド層またはめっき層を設
    けた電気接点において、少なくとも前記下地層の外周面
    を酸化膜で被覆したことを特徴とする電気接点。
  2. (2)前記酸化膜が下地層および台材の外周面を覆った
    特許請求の範囲第(1)項記載の電気接点。
JP16363285A 1985-07-24 1985-07-24 電気接点 Pending JPS6224510A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011068060A1 (ja) 2009-12-01 2011-06-09 株式会社村田製作所 アンテナマッチング装置、アンテナ装置及び移動体通信端末
WO2013001673A1 (ja) * 2011-06-29 2013-01-03 Jx日鉱日石金属株式会社 酸化物層を有する銀合金層を備える積層構造物
JPWO2014091634A1 (ja) * 2012-12-14 2017-01-05 株式会社徳力本店 温度ヒューズ用電極材料およびその製造方法

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