JPS6224430A - 磁気記録媒体の磁場処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体、特に高出力、高Ｓ／Ｎ比かつ平
滑な塗膜面を可能にした高品質な磁気ディスク、磁気テ
ープ、磁気ドラム等の磁気記録媒体の磁場処理方法に＋
３！Ｉするものである。

〔発明の背景〕

従来の磁気ディスクの磁場処理方法は、磁性層に対して
、垂直方向の磁界を印加させてから、つぎに磁性層に対
し平行でかつ記録方向に平行な面内配向磁場を印加させ
て磁気ディスクを処理して。

いた（特開昭５４−９９０５）。ところで、磁気ディス
クの塗布面粗さは磁気ディスクのＳ／Ｎと密接に関係し
ており、塗布面あらさの不良は好ましいことではない。

また、ヘッドの低浮動にも支障をきたすので問題が多い
。

〔発明の目的〕

本発明の目的は高角型比でかつ良好な塗布面粗さく高Ｓ
／Ｎ比）の磁気記録媒体を提供することにある。

〔発明の概要〕

本発明は１次磁極を第１図に示すように、交流磁界（Ａ
Ｃ）を発生する磁極と、少なくとも面内磁束を有する磁
極対とを記録媒体の記録方向に相離して設置させ、磁性
粉の保磁力以上の磁界を磁性層に印加させることにより
、角型比Ｂ　ｒ　／　Ｂ　ｍ〉０．９　でかつ塗布面粗
さの小さい磁気ディスクを得ることを特徴とする。従来
の１次磁極が垂直磁界であるのに対し５本発明は基板面
と交流磁界を有する磁極間を接近させるように磁極また
は磁極対を配置して、磁性体中の磁性粉体微粒子を該印
加磁界方向に安定化磁場処理させる工程を含む。

上記の方法により、特に記録媒体層が１μｍ前後の簿膜
で、さらに、膜面の凹凸が、全面にわたり極めて微小で
９表面平滑性がすぐれ、かつ、１ｉＩ！気特性、並びに
磁気特性がすぐれた磁気記録媒体の高密度・高信頼化を
実現することができる。

一般に、記録再生出力を高めるためには磁留磁束を増加
させれば良い、このための一つとしては、塗布膜厚を厚
くすることである。しかし、塗布膜厚を厚くすれば高周
波特性は劣化する。高周波特性を良くするためには塗布
膜厚を薄くすることに加え角型比Ｅｌ　ｒ　／　Ｒｒｎ
を高くする必要がある。従来、表面平滑性がすぐれ、か
つＢ　ｒ　／　［１ｍの高い磁気テープ、高密度用磁気
ディスク等の塗布膜厚１μｍ前後のものは実現困難であ
る。

本発明は上記の壁点を克服したものである。すなわち、
１次磁極対に交流磁界の強度を変化させることによって
記録媒体微粒子の安定化磁場処理と配向密度を高め、さ
らに磁気異方性を有効に働かせることにより面アレなく
、Ｂ　ｒ　／　Ｂ　ｍを大きくならしめる高密度・高信
頼化磁場処理条件を見出した。

従来、例えば遠心塗布法により１μｍ前後の磁性薄膜を
アルミニウム円板面等に形成せしめた場合、膜厚が小さ
いことによる出方低下を補なうために、磁場配向や磁性
粉含率の増加等が行われている。但し、従来採用されて
いる磁場配向はｔ…に磁性体を記録再生方向に配列（Ｂ
ｒ／８ｍで０．６５〜０．７５）させることを目的とし
ている。

また、磁性粉含率の増加は分解能の低下や機械的強度の
低下をきたすため、これには限界があり、一般にディス
ク等では磁性粉含率を５０％前後。

磁気テープ等では７０％前後にしている。

近年高記録密度化とともに、塗布膜厚の薄化が進みそれ
につれて電気信号の出力低下、高周波での分解能不足が
一段と問題となってきた。したがって高出力でしかも分
解能のすぐれた高信頼性の磁気記録媒体を得るためには
より高度の高密度・高信頼化を有した磁場処理技術が必
要となった。

例えば、記録密度２５，０ＯＯＢ　Ｐ　Ｌの磁気ディス
クを得る場合、回転塗布法により円板の内周部で約０．
５±０．１μｍ、外周部で約０．８±０．１μｍの膜厚
の磁性塗膜を形成せしめ、これを加熱硬化後、内周部で
約０．３５±０．０５μｍ、外周部で約０．６５±０．
０５μｍになるように研削する。

この際、Ｓ／Ｎ比に関する塗布硬化後の表面アラサ（Ｒ
ａ　）が０．０５ｐｍ以下、かつ、Ｂ　ｒ　／　Ｂ　ｎ
ｏ、８０以上、のぞましくは０．９０以上の高い磁場処
理条件を見出すことにより高周波での分解能にすぐれた
高密度、高信頼度記録媒体を得ることが可能となる。

本発明は薄塗布におけるこれらの問題点を解決したもの
で、記録面の全面にわたり、塗布膜厚に凹凸がなく１表
面平滑性にすぐれ、かつ電気特性および磁気特性のすぐ
れた磁気記録媒体の高密度・高信頼化を得ることを可能
にしたものである。

すなわち、本発明者らは、例えばのぞましくは上下１対
の磁極と、２本ずつ対をなした磁極対をアルミニウム円
板の膜面と背面にそれぞれ２組ずつ隣接して設置し、そ
のアルミニウム円板上に回転塗土法で強磁性体微粉末を
高分子結合剤溶液中に分散せしめた磁性塗料を塗布し、
塗膜中の磁性体粒子を特定の条件下で磁場処理すること
により、地割れがなく、しかも表面平滑性が従来より一
段とすぐれ、かつ電気特性のすぐれた磁気ディスクを得
ることができることを見出゛した。

以下図面及び其体例を基にして本発明の構成及び効果を
さらに詳しく説明する。

第１図は本発明に用いた高密度・高信頼化を有するａＱ
処理方法及び動作の概念を示したものである。図におい
て１はディスク基板に未乾燥の磁性塗膜が塗布され移動
されている状態、２ａ。

２ｂ、３ａ、３ｂ、４ａ、４ｂは磁極を示している。さ
らに、第１図にはディスク表面及び裏面における磁石の
配置例、すなわ魁、一対の磁ｆＪＡ　２　ａ　。

２ｂではＮ−３またはＳ−Ｎ極に関係なく設置し、さら
に、３ａ、３ｂ、４ａ、４ｂ等基板に対して少なくとも
面内磁束を有した複数個の磁極対Ｎ　−８・・・Ｎ−８
またはＳ−Ｎ・・・Ｓ−Ｎ極から構成される。

本発明の特徴はのぞましくは表裏で一対の磁極間隙中心
部を接近させ、かつ交流磁界を印加することである。

〔発明の実施例〕

以下実施例に基づき本発明の詳細な説明する。

実施例１゜ 針状γＦＱｚＯ３（平均粒径Ｑ　、　３６　Ｘｏ、０４
５μｍ　。

保磁力３５５０　ｅ　）　：３００　ｇ　、主としてエ
ポキシ樹脂とフェノール樹脂よりなる混合バインダー３
００ｇ、及びシクロヘキサノンとトルエンよりなる混合
溶剤８５０ｇよりなる塗料をボールミルを用いて製造し
た。この塗料をさらにイソホロンで粘度調整して粘度Ｌ
ＯＯｃｐにしたものをアルミニウム基板（内径１７０ｍ
、外径３５６ｍ、厚さ２ｍｍ）に遠心力を用いて塗布（
塗布回転数１２００ｒｐｍで２０秒間、乾燥時塗布膜厚
約０．７５μｍの塗１１ケになるように）し、第１図に
示すような交流磁界で磁場処理を行った。処理時の回転
数は１２　ｒ　ｐ　ｍとし、１次ｆＪ＆極間の中心磁界
を変化させ、２次磁石対を１５００〜３００００ｅとし
た。いずれも移動しな・がら同時処理で印加時間は１分
とした。

第２図曲線ｆ、は本発明第１図の（Ｂ）に示す処理方式
の１次磁界強交（交流磁界の最大値）を変化させて磁場
処理した磁気ディスクの中心部を１■角に切り取り、半
径方向を基準にして円周方向の［３ｒ　／　［３ｍを副
室したものである。また図において曲線ｆ。は従来法に
よる垂直に磁界（直流ＤＣまたは永久磁石）を印加した
場合のものである。

第２図点線の曲線ｆ、′は本発明方法第１図（Ｂ）の磁
極２ａ、２ｂに交流ＡＣを印加することによって得られ
た磁性塗膜の表面粗さＲａ（未処理に対する比率）を示
したものである。なお、ここで示されている曲線ｆ。′
は従来法（垂直に直流磁界ＤＣまたは永久磁界を印加）
による１次磁石対０＝９０°のものである。明らかに表
面粗さが本発明と比較すると悪い。これは電磁特性の信
号対雑音比Ｓ／Ｎや周波数特性の向上、′４動特性を阻
害させる。これかられかるように、本発明方法によると
、磁性微粉粒子が円周（記録される方向）方向により密
に均一に処理されていることがわかる。

なお、磁性塗膜の硬化条件は２２０℃２時間である。

次に、磁気テープにおける本発明の適用方法であるが、
一般のオーディオ用、計算機のディジタル用でも本発明
の１次磁極に交流磁場処理方法で行った場合、その結果
いずれも表面粗さは最小におさえられ、かつＢｒ／８ｍ
を大きくすることが可能になった。なお、処理条件は前
記と同様である。

一般に、電子計算機やテープレコーダに使用される磁気
ディスクや磁気テープ等では未処理のＢｒ／Ｂｍ値５５
％に対して、実用上の処理時に於ては７０±５％以上で
あれば良い。磁場処理のだめの印加磁界の強さは少なく
とも磁性粉のＩｌｃ以上であることを必要とするが、Ｈ
Ｃの２倍以」二とすることが望ましい。

実施例２゜ 針状Ｃｏ−Ｅｐｉ　−１’−Ｆｅ、０１（平均粒径０．
３５Ｘ０．０５μｍ　、保磁力５４４０ｅ）３００ｇ、
主としてエポキシ樹脂とフェノール樹脂よりなる混合バ
インダー３００ｇ、及びシクロヘキサノンとトルエンよ
りなる混合溶剤８５０ｇよりなる塗料をボールミルを用
いて製造した。この塗料をさらにイソホロンで粘度調整
して粘度１１０ｒ、ｐにしたものをアルミニラ１１基板
（内径１７０冊、外径３５６ｍ、ノリさ２ｍｎ）に遠心
力を用いて塗布ｌ右回転数１３５０　ｒ　ｐ　ｍで２０
秒間、乾燥時塗布膜厚約０．７５μｍの塗膜になるよう
に）シ、第１−図（Ａ）、（１’３）、（（’：）、（
Ｄ）に示すような種々の方式で交流磁場処理を行った。

処理時の回転数はＬ２ｒｐｍとし、１次磁極間の中心磁
界１１０００　ｅ＜　（約２１１ｃ＜）、２次磁石対を
１５００−３０００（）ｅとした。いずれも同時配向で
印加時間は１分とした。ここで、第１図に示す１次磁極
対の磁極の形状、方向性はそれぞれ（Ａ）、（Ｂ）。

（Ｃ）　、　　Ｄ））に示したとおりであり、特にそれ
らの方式比較のために１次磁極への交流印加磁界の最大
値を３Ｈｃ（約１６５００　ｅ　）にした時の結果を表
１に示した。つまり、角形比Ｎ’３ｒ／１３ｍ）、＋ｉ
１り定印加磁界５　、０００００また、表面粗さくｒ＜
ａ）とも（Ａ）、（Ｃ）よりも（Ｂ）、（Ｄ）がすぐれ
ていた。

表１ 〔発明の効果〕 このようにして得られたものは電磁気特性がすぐれ、磁
気ディスクとして大川上問題がなかった。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施態様を示す断面図、第２図は本発
明の実施によって得られた磁気記録媒体の特性を示すグ
ラフである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、強磁性体微粉末を高分子結合剤中に分散せしめこれ
   を非磁性支持体上に塗布することにより磁気記録層を設
   ける磁気記録媒体の磁場処理過程で、磁気記録媒体移動
   中に少なくとも磁性粉の保磁力以上の印加磁界になるよ
   うに複数個の磁石対を設置せしめ、形成した磁性層に該
   基板面に平行でかつ該記録する方向に平行な磁束を有す
   る面内配向磁場を印加して磁性層中の前記磁性粒子を印
   加磁束方向に配向させる工程と、処理段階で他の磁極対
   に交流磁界とを有して成ることを特徴とする磁気記録媒
   体の磁場処理方法。