JPS6224430A - 磁気記録媒体の磁場処理方法 - Google Patents
磁気記録媒体の磁場処理方法Info
- Publication number
- JPS6224430A JPS6224430A JP16184885A JP16184885A JPS6224430A JP S6224430 A JPS6224430 A JP S6224430A JP 16184885 A JP16184885 A JP 16184885A JP 16184885 A JP16184885 A JP 16184885A JP S6224430 A JPS6224430 A JP S6224430A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic field
- poles
- recording medium
- recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体、特に高出力、高S/N比かつ平
滑な塗膜面を可能にした高品質な磁気ディスク、磁気テ
ープ、磁気ドラム等の磁気記録媒体の磁場処理方法に+
3!Iするものである。
滑な塗膜面を可能にした高品質な磁気ディスク、磁気テ
ープ、磁気ドラム等の磁気記録媒体の磁場処理方法に+
3!Iするものである。
従来の磁気ディスクの磁場処理方法は、磁性層に対して
、垂直方向の磁界を印加させてから、つぎに磁性層に対
し平行でかつ記録方向に平行な面内配向磁場を印加させ
て磁気ディスクを処理して。
、垂直方向の磁界を印加させてから、つぎに磁性層に対
し平行でかつ記録方向に平行な面内配向磁場を印加させ
て磁気ディスクを処理して。
いた(特開昭54−9905)。ところで、磁気ディス
クの塗布面粗さは磁気ディスクのS/Nと密接に関係し
ており、塗布面あらさの不良は好ましいことではない。
クの塗布面粗さは磁気ディスクのS/Nと密接に関係し
ており、塗布面あらさの不良は好ましいことではない。
また、ヘッドの低浮動にも支障をきたすので問題が多い
。
。
本発明の目的は高角型比でかつ良好な塗布面粗さく高S
/N比)の磁気記録媒体を提供することにある。
/N比)の磁気記録媒体を提供することにある。
本発明は1次磁極を第1図に示すように、交流磁界(A
C)を発生する磁極と、少なくとも面内磁束を有する磁
極対とを記録媒体の記録方向に相離して設置させ、磁性
粉の保磁力以上の磁界を磁性層に印加させることにより
、角型比B r / B m〉0.9 でかつ塗布面粗
さの小さい磁気ディスクを得ることを特徴とする。従来
の1次磁極が垂直磁界であるのに対し5本発明は基板面
と交流磁界を有する磁極間を接近させるように磁極また
は磁極対を配置して、磁性体中の磁性粉体微粒子を該印
加磁界方向に安定化磁場処理させる工程を含む。
C)を発生する磁極と、少なくとも面内磁束を有する磁
極対とを記録媒体の記録方向に相離して設置させ、磁性
粉の保磁力以上の磁界を磁性層に印加させることにより
、角型比B r / B m〉0.9 でかつ塗布面粗
さの小さい磁気ディスクを得ることを特徴とする。従来
の1次磁極が垂直磁界であるのに対し5本発明は基板面
と交流磁界を有する磁極間を接近させるように磁極また
は磁極対を配置して、磁性体中の磁性粉体微粒子を該印
加磁界方向に安定化磁場処理させる工程を含む。
上記の方法により、特に記録媒体層が1μm前後の簿膜
で、さらに、膜面の凹凸が、全面にわたり極めて微小で
9表面平滑性がすぐれ、かつ、1iI!気特性、並びに
磁気特性がすぐれた磁気記録媒体の高密度・高信頼化を
実現することができる。
で、さらに、膜面の凹凸が、全面にわたり極めて微小で
9表面平滑性がすぐれ、かつ、1iI!気特性、並びに
磁気特性がすぐれた磁気記録媒体の高密度・高信頼化を
実現することができる。
一般に、記録再生出力を高めるためには磁留磁束を増加
させれば良い、このための一つとしては、塗布膜厚を厚
くすることである。しかし、塗布膜厚を厚くすれば高周
波特性は劣化する。高周波特性を良くするためには塗布
膜厚を薄くすることに加え角型比El r / Rrn
を高くする必要がある。従来、表面平滑性がすぐれ、か
つB r / [1mの高い磁気テープ、高密度用磁気
ディスク等の塗布膜厚1μm前後のものは実現困難であ
る。
させれば良い、このための一つとしては、塗布膜厚を厚
くすることである。しかし、塗布膜厚を厚くすれば高周
波特性は劣化する。高周波特性を良くするためには塗布
膜厚を薄くすることに加え角型比El r / Rrn
を高くする必要がある。従来、表面平滑性がすぐれ、か
つB r / [1mの高い磁気テープ、高密度用磁気
ディスク等の塗布膜厚1μm前後のものは実現困難であ
る。
本発明は上記の壁点を克服したものである。すなわち、
1次磁極対に交流磁界の強度を変化させることによって
記録媒体微粒子の安定化磁場処理と配向密度を高め、さ
らに磁気異方性を有効に働かせることにより面アレなく
、B r / B mを大きくならしめる高密度・高信
頼化磁場処理条件を見出した。
1次磁極対に交流磁界の強度を変化させることによって
記録媒体微粒子の安定化磁場処理と配向密度を高め、さ
らに磁気異方性を有効に働かせることにより面アレなく
、B r / B mを大きくならしめる高密度・高信
頼化磁場処理条件を見出した。
従来、例えば遠心塗布法により1μm前後の磁性薄膜を
アルミニウム円板面等に形成せしめた場合、膜厚が小さ
いことによる出方低下を補なうために、磁場配向や磁性
粉含率の増加等が行われている。但し、従来採用されて
いる磁場配向はt…に磁性体を記録再生方向に配列(B
r/8mで0.65〜0.75)させることを目的とし
ている。
アルミニウム円板面等に形成せしめた場合、膜厚が小さ
いことによる出方低下を補なうために、磁場配向や磁性
粉含率の増加等が行われている。但し、従来採用されて
いる磁場配向はt…に磁性体を記録再生方向に配列(B
r/8mで0.65〜0.75)させることを目的とし
ている。
また、磁性粉含率の増加は分解能の低下や機械的強度の
低下をきたすため、これには限界があり、一般にディス
ク等では磁性粉含率を50%前後。
低下をきたすため、これには限界があり、一般にディス
ク等では磁性粉含率を50%前後。
磁気テープ等では70%前後にしている。
近年高記録密度化とともに、塗布膜厚の薄化が進みそれ
につれて電気信号の出力低下、高周波での分解能不足が
一段と問題となってきた。したがって高出力でしかも分
解能のすぐれた高信頼性の磁気記録媒体を得るためには
より高度の高密度・高信頼化を有した磁場処理技術が必
要となった。
につれて電気信号の出力低下、高周波での分解能不足が
一段と問題となってきた。したがって高出力でしかも分
解能のすぐれた高信頼性の磁気記録媒体を得るためには
より高度の高密度・高信頼化を有した磁場処理技術が必
要となった。
例えば、記録密度25,0OOB P Lの磁気ディス
クを得る場合、回転塗布法により円板の内周部で約0.
5±0.1μm、外周部で約0.8±0.1μmの膜厚
の磁性塗膜を形成せしめ、これを加熱硬化後、内周部で
約0.35±0.05μm、外周部で約0.65±0.
05μmになるように研削する。
クを得る場合、回転塗布法により円板の内周部で約0.
5±0.1μm、外周部で約0.8±0.1μmの膜厚
の磁性塗膜を形成せしめ、これを加熱硬化後、内周部で
約0.35±0.05μm、外周部で約0.65±0.
05μmになるように研削する。
この際、S/N比に関する塗布硬化後の表面アラサ(R
a )が0.05pm以下、かつ、B r / B n
o、80以上、のぞましくは0.90以上の高い磁場処
理条件を見出すことにより高周波での分解能にすぐれた
高密度、高信頼度記録媒体を得ることが可能となる。
a )が0.05pm以下、かつ、B r / B n
o、80以上、のぞましくは0.90以上の高い磁場処
理条件を見出すことにより高周波での分解能にすぐれた
高密度、高信頼度記録媒体を得ることが可能となる。
本発明は薄塗布におけるこれらの問題点を解決したもの
で、記録面の全面にわたり、塗布膜厚に凹凸がなく1表
面平滑性にすぐれ、かつ電気特性および磁気特性のすぐ
れた磁気記録媒体の高密度・高信頼化を得ることを可能
にしたものである。
で、記録面の全面にわたり、塗布膜厚に凹凸がなく1表
面平滑性にすぐれ、かつ電気特性および磁気特性のすぐ
れた磁気記録媒体の高密度・高信頼化を得ることを可能
にしたものである。
すなわち、本発明者らは、例えばのぞましくは上下1対
の磁極と、2本ずつ対をなした磁極対をアルミニウム円
板の膜面と背面にそれぞれ2組ずつ隣接して設置し、そ
のアルミニウム円板上に回転塗土法で強磁性体微粉末を
高分子結合剤溶液中に分散せしめた磁性塗料を塗布し、
塗膜中の磁性体粒子を特定の条件下で磁場処理すること
により、地割れがなく、しかも表面平滑性が従来より一
段とすぐれ、かつ電気特性のすぐれた磁気ディスクを得
ることができることを見出゛した。
の磁極と、2本ずつ対をなした磁極対をアルミニウム円
板の膜面と背面にそれぞれ2組ずつ隣接して設置し、そ
のアルミニウム円板上に回転塗土法で強磁性体微粉末を
高分子結合剤溶液中に分散せしめた磁性塗料を塗布し、
塗膜中の磁性体粒子を特定の条件下で磁場処理すること
により、地割れがなく、しかも表面平滑性が従来より一
段とすぐれ、かつ電気特性のすぐれた磁気ディスクを得
ることができることを見出゛した。
以下図面及び其体例を基にして本発明の構成及び効果を
さらに詳しく説明する。
さらに詳しく説明する。
第1図は本発明に用いた高密度・高信頼化を有するaQ
処理方法及び動作の概念を示したものである。図におい
て1はディスク基板に未乾燥の磁性塗膜が塗布され移動
されている状態、2a。
処理方法及び動作の概念を示したものである。図におい
て1はディスク基板に未乾燥の磁性塗膜が塗布され移動
されている状態、2a。
2b、3a、3b、4a、4bは磁極を示している。さ
らに、第1図にはディスク表面及び裏面における磁石の
配置例、すなわ魁、一対の磁fJA 2 a 。
らに、第1図にはディスク表面及び裏面における磁石の
配置例、すなわ魁、一対の磁fJA 2 a 。
2bではN−3またはS−N極に関係なく設置し、さら
に、3a、3b、4a、4b等基板に対して少なくとも
面内磁束を有した複数個の磁極対N −8・・・N−8
またはS−N・・・S−N極から構成される。
に、3a、3b、4a、4b等基板に対して少なくとも
面内磁束を有した複数個の磁極対N −8・・・N−8
またはS−N・・・S−N極から構成される。
本発明の特徴はのぞましくは表裏で一対の磁極間隙中心
部を接近させ、かつ交流磁界を印加することである。
部を接近させ、かつ交流磁界を印加することである。
以下実施例に基づき本発明の詳細な説明する。
実施例1゜
針状γFQzO3(平均粒径Q 、 36 Xo、04
5μm 。
5μm 。
保磁力3550 e ) :300 g 、主としてエ
ポキシ樹脂とフェノール樹脂よりなる混合バインダー3
00g、及びシクロヘキサノンとトルエンよりなる混合
溶剤850gよりなる塗料をボールミルを用いて製造し
た。この塗料をさらにイソホロンで粘度調整して粘度L
OOcpにしたものをアルミニウム基板(内径170m
、外径356m、厚さ2mm)に遠心力を用いて塗布(
塗布回転数1200rpmで20秒間、乾燥時塗布膜厚
約0.75μmの塗11ケになるように)し、第1図に
示すような交流磁界で磁場処理を行った。処理時の回転
数は12 r p mとし、1次fJ&極間の中心磁界
を変化させ、2次磁石対を1500〜30000eとし
た。いずれも移動しな・がら同時処理で印加時間は1分
とした。
ポキシ樹脂とフェノール樹脂よりなる混合バインダー3
00g、及びシクロヘキサノンとトルエンよりなる混合
溶剤850gよりなる塗料をボールミルを用いて製造し
た。この塗料をさらにイソホロンで粘度調整して粘度L
OOcpにしたものをアルミニウム基板(内径170m
、外径356m、厚さ2mm)に遠心力を用いて塗布(
塗布回転数1200rpmで20秒間、乾燥時塗布膜厚
約0.75μmの塗11ケになるように)し、第1図に
示すような交流磁界で磁場処理を行った。処理時の回転
数は12 r p mとし、1次fJ&極間の中心磁界
を変化させ、2次磁石対を1500〜30000eとし
た。いずれも移動しな・がら同時処理で印加時間は1分
とした。
第2図曲線f、は本発明第1図の(B)に示す処理方式
の1次磁界強交(交流磁界の最大値)を変化させて磁場
処理した磁気ディスクの中心部を1■角に切り取り、半
径方向を基準にして円周方向の[3r / [3mを副
室したものである。また図において曲線f。は従来法に
よる垂直に磁界(直流DCまたは永久磁石)を印加した
場合のものである。
の1次磁界強交(交流磁界の最大値)を変化させて磁場
処理した磁気ディスクの中心部を1■角に切り取り、半
径方向を基準にして円周方向の[3r / [3mを副
室したものである。また図において曲線f。は従来法に
よる垂直に磁界(直流DCまたは永久磁石)を印加した
場合のものである。
第2図点線の曲線f、′は本発明方法第1図(B)の磁
極2a、2bに交流ACを印加することによって得られ
た磁性塗膜の表面粗さRa(未処理に対する比率)を示
したものである。なお、ここで示されている曲線f。′
は従来法(垂直に直流磁界DCまたは永久磁界を印加)
による1次磁石対0=90°のものである。明らかに表
面粗さが本発明と比較すると悪い。これは電磁特性の信
号対雑音比S/Nや周波数特性の向上、′4動特性を阻
害させる。これかられかるように、本発明方法によると
、磁性微粉粒子が円周(記録される方向)方向により密
に均一に処理されていることがわかる。
極2a、2bに交流ACを印加することによって得られ
た磁性塗膜の表面粗さRa(未処理に対する比率)を示
したものである。なお、ここで示されている曲線f。′
は従来法(垂直に直流磁界DCまたは永久磁界を印加)
による1次磁石対0=90°のものである。明らかに表
面粗さが本発明と比較すると悪い。これは電磁特性の信
号対雑音比S/Nや周波数特性の向上、′4動特性を阻
害させる。これかられかるように、本発明方法によると
、磁性微粉粒子が円周(記録される方向)方向により密
に均一に処理されていることがわかる。
なお、磁性塗膜の硬化条件は220℃2時間である。
次に、磁気テープにおける本発明の適用方法であるが、
一般のオーディオ用、計算機のディジタル用でも本発明
の1次磁極に交流磁場処理方法で行った場合、その結果
いずれも表面粗さは最小におさえられ、かつBr/8m
を大きくすることが可能になった。なお、処理条件は前
記と同様である。
一般のオーディオ用、計算機のディジタル用でも本発明
の1次磁極に交流磁場処理方法で行った場合、その結果
いずれも表面粗さは最小におさえられ、かつBr/8m
を大きくすることが可能になった。なお、処理条件は前
記と同様である。
一般に、電子計算機やテープレコーダに使用される磁気
ディスクや磁気テープ等では未処理のBr/Bm値55
%に対して、実用上の処理時に於ては70±5%以上で
あれば良い。磁場処理のだめの印加磁界の強さは少なく
とも磁性粉のIlc以上であることを必要とするが、H
Cの2倍以」二とすることが望ましい。
ディスクや磁気テープ等では未処理のBr/Bm値55
%に対して、実用上の処理時に於ては70±5%以上で
あれば良い。磁場処理のだめの印加磁界の強さは少なく
とも磁性粉のIlc以上であることを必要とするが、H
Cの2倍以」二とすることが望ましい。
実施例2゜
針状Co−Epi −1’−Fe、01(平均粒径0.
35X0.05μm 、保磁力5440e)300g、
主としてエポキシ樹脂とフェノール樹脂よりなる混合バ
インダー300g、及びシクロヘキサノンとトルエンよ
りなる混合溶剤850gよりなる塗料をボールミルを用
いて製造した。この塗料をさらにイソホロンで粘度調整
して粘度110r、pにしたものをアルミニラ11基板
(内径170冊、外径356m、ノリさ2mn)に遠心
力を用いて塗布l右回転数1350 r p mで20
秒間、乾燥時塗布膜厚約0.75μmの塗膜になるよう
に)シ、第1−図(A)、(1’3)、((’:)、(
D)に示すような種々の方式で交流磁場処理を行った。
35X0.05μm 、保磁力5440e)300g、
主としてエポキシ樹脂とフェノール樹脂よりなる混合バ
インダー300g、及びシクロヘキサノンとトルエンよ
りなる混合溶剤850gよりなる塗料をボールミルを用
いて製造した。この塗料をさらにイソホロンで粘度調整
して粘度110r、pにしたものをアルミニラ11基板
(内径170冊、外径356m、ノリさ2mn)に遠心
力を用いて塗布l右回転数1350 r p mで20
秒間、乾燥時塗布膜厚約0.75μmの塗膜になるよう
に)シ、第1−図(A)、(1’3)、((’:)、(
D)に示すような種々の方式で交流磁場処理を行った。
処理時の回転数はL2rpmとし、1次磁極間の中心磁
界11000 e< (約211c<)、2次磁石対を
1500−3000()eとした。いずれも同時配向で
印加時間は1分とした。ここで、第1図に示す1次磁極
対の磁極の形状、方向性はそれぞれ(A)、(B)。
界11000 e< (約211c<)、2次磁石対を
1500−3000()eとした。いずれも同時配向で
印加時間は1分とした。ここで、第1図に示す1次磁極
対の磁極の形状、方向性はそれぞれ(A)、(B)。
(C) 、 D))に示したとおりであり、特にそれ
らの方式比較のために1次磁極への交流印加磁界の最大
値を3Hc(約16500 e )にした時の結果を表
1に示した。つまり、角形比N’3r/13m)、+i
1り定印加磁界5 、00000また、表面粗さくr<
a)とも(A)、(C)よりも(B)、(D)がすぐれ
ていた。
らの方式比較のために1次磁極への交流印加磁界の最大
値を3Hc(約16500 e )にした時の結果を表
1に示した。つまり、角形比N’3r/13m)、+i
1り定印加磁界5 、00000また、表面粗さくr<
a)とも(A)、(C)よりも(B)、(D)がすぐれ
ていた。
表1
〔発明の効果〕
このようにして得られたものは電磁気特性がすぐれ、磁
気ディスクとして大川上問題がなかった。
気ディスクとして大川上問題がなかった。
第1図は本発明の実施態様を示す断面図、第2図は本発
明の実施によって得られた磁気記録媒体の特性を示すグ
ラフである。
明の実施によって得られた磁気記録媒体の特性を示すグ
ラフである。
Claims (1)
- 1、強磁性体微粉末を高分子結合剤中に分散せしめこれ
を非磁性支持体上に塗布することにより磁気記録層を設
ける磁気記録媒体の磁場処理過程で、磁気記録媒体移動
中に少なくとも磁性粉の保磁力以上の印加磁界になるよ
うに複数個の磁石対を設置せしめ、形成した磁性層に該
基板面に平行でかつ該記録する方向に平行な磁束を有す
る面内配向磁場を印加して磁性層中の前記磁性粒子を印
加磁束方向に配向させる工程と、処理段階で他の磁極対
に交流磁界とを有して成ることを特徴とする磁気記録媒
体の磁場処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16184885A JPS6224430A (ja) | 1985-07-24 | 1985-07-24 | 磁気記録媒体の磁場処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16184885A JPS6224430A (ja) | 1985-07-24 | 1985-07-24 | 磁気記録媒体の磁場処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6224430A true JPS6224430A (ja) | 1987-02-02 |
Family
ID=15743090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16184885A Pending JPS6224430A (ja) | 1985-07-24 | 1985-07-24 | 磁気記録媒体の磁場処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6224430A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02108238A (ja) * | 1988-10-18 | 1990-04-20 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
EP0367291A2 (en) * | 1988-11-04 | 1990-05-09 | Hitachi, Ltd. | Method for magnetic orientation of magnetic recording medium and system therefor and longitudinally oriented magnetic recording medium |
JPH02260117A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-10-22 | Konica Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1985
- 1985-07-24 JP JP16184885A patent/JPS6224430A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02108238A (ja) * | 1988-10-18 | 1990-04-20 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
EP0367291A2 (en) * | 1988-11-04 | 1990-05-09 | Hitachi, Ltd. | Method for magnetic orientation of magnetic recording medium and system therefor and longitudinally oriented magnetic recording medium |
US5034243A (en) * | 1988-11-04 | 1991-07-23 | Hitachi, Ltd. | Method for magnetic orientation of magnetic recording medium using Meissner effect of high Tc superconductor |
JPH02260117A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-10-22 | Konica Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS63241721A (ja) | 磁気記録媒体とその製造方法 | |
JPH0479045B2 (ja) | ||
US4189508A (en) | Process for the preparation of magnetic recording medium | |
JPS6224430A (ja) | 磁気記録媒体の磁場処理方法 | |
US4001463A (en) | Process and apparatus for the manufacture of rigid magnetic discs | |
US4043297A (en) | Device for the magnetic orientation of magnetic recording media | |
JPS6061923A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS6236729A (ja) | 磁気記録媒体の表面処理方法 | |
JPS62222431A (ja) | 磁気記録媒体の表面処理方法 | |
JPH05314457A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPH0247012B2 (ja) | ||
JPH0468686B2 (ja) | ||
JPH0370855B2 (ja) | ||
JPS61242334A (ja) | 磁気ディスク | |
JPH04163715A (ja) | 磁気テープ及びその製造方法 | |
JPH01248320A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS6063728A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
JPS63184924A (ja) | 塗布型磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS59171032A (ja) | コ−テイングによる垂直磁気記録媒体の製造法 | |
JPS6146893B2 (ja) | ||
JPS60113329A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS61196427A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH01264630A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS6083224A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
JPH04105217A (ja) | 磁気記録媒体の製造法及び磁場配向処理装置 |